公开(公告)号：WO2015118977A1

公开(公告)日：2015-08-13

申请号：PCT/JP2015/051983

申请日：2015-01-26

Applicant: 住友電気工業株式会社

Inventor： 西村　淳一 ,  細江　晃久 ,  奥野　一樹 ,  木村　弘太郎 ,  後藤　健吾 ,  境田　英彰 ,  本村　隼一

IPC: C25D1/08 ,  C25D1/00 ,  C25D3/66 ,  C25D7/06

CPC classification number: C25D5/56 ,  C25D1/08 ,  C25D3/66 ,  C25D3/665 ,  C25D5/003 ,  C25D7/0614 ,  C25D7/0621 ,  C25D17/004 ,  C25D21/04

Abstract: めっき室内に水分及び酸素が侵入することのないアルミニウム膜の製造方法及び製造装置の提供。溶融塩電解液中で、導電性が付与された長尺状の多孔性樹脂基材の表面にアルミニウムを電着させるアルミニウム膜の製造方法であって、前記基材Ｗをめっき室の入口側に設けたシール室４を通して前記めっき室１に搬入する工程と、前記めっき室１で前記基材Ｗの表面にアルミニウム膜を電着させる工程と、前記アルミニウム膜を電着させた前記基材をめっき室１の出口側に設けたシール室５を通してめっき室１から搬出する工程とを含み、前記めっき室にはめっき室が外気に対して正圧となるように不活性ガスを供給し、前記の二つのシール室のそれぞれに設けた不活性ガス排気管７から前記不活性ガスを強制排気するようにしたアルミニウム膜の製造方法。

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种铝膜制造方法和制造装置，其中不会将水分或氧气侵入电镀室。 提供一种铝膜制造方法，其中在熔融盐电解液中，将铝电沉积到赋予导电性的长而细长的多孔树脂基板的表面上。 铝膜制造方法包括：基板（W）通过设置在电镀室（1）的入口侧的密封室（4）的步骤，从而被装载到电镀室中; 将铝膜电沉积在电镀室（1）中的基板（W）的表面上的步骤; 并且通过电镀室（1）的出射侧的密封室（5）通过其上镀有铝膜的基板通过电镀室（1）被装载的步骤。 惰性气体被供应到电镀室中，使得电镀室相对于外部空气具有正压力，并且惰性气体被强制地从设置在两个密封室中的每一个的惰性气体排气管（7）中排出。

公开(公告)号：WO2015054040A1

公开(公告)日：2015-04-16

申请号：PCT/US2014/058940

申请日：2014-10-03

Applicant: SCHERSON, Daniel

Inventor： SCHERSON, Daniel

IPC: H01M8/04

CPC classification number: C25D21/04 ,  C25D3/00 ,  C25D5/48 ,  C25D17/00 ,  C25D17/002 ,  C25D17/10 ,  C25D21/12 ,  F04B37/02 ,  F16L59/065 ,  H01J7/18 ,  H01J9/385 ,  H01M16/00

Abstract: An apparatus for forming a vacuum in a sealed enclosure through an electrochemical reaction includes an electrochemical cell comprising a cathode and an anode supported on a solid electrolyte. The solid electrolyte is a Li-ion non-volatile electrolyte containing a dissolved metal salt. The cathode is constructed of a material with which lithium is known to form alloys. The anode is constructed of a lithium-ion containing material. The cell is operable to expose lithium metal on the cathode.

Abstract translation: 用于通过电化学反应在密封外壳中形成真空的装置包括电化学电池，其包括阴极和支撑在固体电解质上的阳极。 固体电解质是含有溶解金属盐的锂离子非挥发性电解质。 阴极由已知锂形成合金的材料构成。 阳极由含锂离子的材料构成。 电池可操作以暴露阴极上的锂金属。

公开(公告)号：WO2012025209A2

公开(公告)日：2012-03-01

申请号：PCT/EP2011/004162

申请日：2011-08-18

Applicant: ELCOMAX GMBH ,  UNIVERSITÄT DES SAARLANDES ,  MITZEL, Jens ,  HEMPELMANN, Rolf ,  ANNEL, Vivien ,  NATTER, Harald ,  STEFENER, Manfred

Inventor： MITZEL, Jens ,  HEMPELMANN, Rolf ,  ANNEL, Vivien ,  NATTER, Harald ,  STEFENER, Manfred

IPC: C25D5/18

CPC classification number: H01M4/8853 ,  B01J23/42 ,  B01J35/0013 ,  B01J37/348 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C25D5/003 ,  C25D5/18 ,  C25D17/12 ,  C25D21/04 ,  H01M4/8807 ,  H01M4/92 ,  H01M8/1004 ,  H01M8/1007 ,  H01M2008/1095 ,  Y02E60/521

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur elektrochemischen Abscheidung von nanoskaligen Katalysatorpartikeln unter Verwendung einer als Gegenelektrode für die Arbeitselektrode fungierenden Wasserstoffverzehranode, wobei eine gleichzeitige Entwicklung von Wasserstoff an der Arbeitselektrode weitgehend oder vollständig vermieden wird.

Abstract translation: 本发明涉及使用颗粒的用作工作电极氢消耗阳极的反电极，与在工作电极上的氢的同时进化基本上或完全避免向纳米级催化剂的电化学沉积的方法。

公开(公告)号：WO2009111582A2

公开(公告)日：2009-09-11

申请号：PCT/US2009/036059

申请日：2009-03-04

Applicant: MCCUTCHEN CO. ,  MCCUTCHEN, Wilmot, H. ,  MCCUTCHEN, David, J.

Inventor： MCCUTCHEN, Wilmot, H. ,  MCCUTCHEN, David, J.

IPC: C25D17/10 ,  C25B1/02 ,  C25B1/13

CPC classification number: B01J19/088 ,  B01D9/0022 ,  B01F7/00875 ,  B01J19/008 ,  B01J19/1806 ,  B01J2219/0818 ,  B01J2219/0875 ,  B01J2219/0877 ,  B01J2219/0879 ,  B01J2219/0896 ,  C02F1/34 ,  C02F1/4608 ,  C02F1/4672 ,  C02F2001/46123 ,  C25D5/003 ,  C25D5/006 ,  C25D5/06 ,  C25D21/04

Abstract: Axially fed fluid is sheared during long residence time in a radial workspace between counter-rotating coaxial disk-shaped centrifugal impellers. Gases evolve in the fractal turbulence of a shear layer, which is forced between laminar boundary layers, and an axial suction pump axially extracts evolved noncondensibles and volatiles through cores of radial vortices in the shear layer. Cavitation due to shear between the impellers kills pathogens by shock waves, microjets, OH radicals, and nearby UV light pulses. Oppositely charged electrodes bounding the workspace cause electroporesis and electrohydraulic cavitation. The electrodes are counter- rotating ridged armatures of disk dynamos, forming a dynamic capacitor having audio frequency pulsed electric fields. Electrode erosion by arcing is prevented by shear between the electrodes. The device is also a continuous crystallizer. Inductive repulsion keeps conductive fractions, including suspended metals such as arsenic and mercury, and mineralized water and brine, from passing through the dynamic capacitor at the periphery of the reactor along with the nonconductive solvent. Solutions reach saturation while gases such as carbon dioxide are axially extracted. Metals and concentrated dissolved solids linger in the highly turbulent workspace and agglomerate into chunks, until reaching a size where momentum transfer from the impellers can impel the chunk through the inductive repulsion. Atomized water sprays from the periphery of the workspace and evaporatively cools, precipitating salt and fine crystals of pharmaceuticals. Scale forming compounds precipitate in the reactor into chunks which are easily separable from cooling water or reverse osmosis feed by conventional means. Electrolytic cracking neutralizes ammonia and VOCs.

Abstract translation: 轴向馈送的流体在反向旋转的同轴盘形离心式叶轮之间的径向工作空间中被长时间停留时剪切。 气体在剪切层的分形湍流中演化，其被迫在层流边界层之间，并且轴向抽吸泵通过剪切层中的径向涡流的核心轴向地提取演化的非可冷凝物和挥发物。 由于叶轮之间的剪切引起的气蚀会通过冲击波，微喷射，OH自由基和附近的紫外光脉冲杀死病原体。 与工作空间相邻的带电荷的电极引起电生理和电液空化。 电极是盘式发电机的反向旋转的脊状电枢，形成具有音频脉冲电场的动态电容器。 通过电极之间的剪切来防止电弧腐蚀。 该装置也是连续结晶器。 感应排斥保持导电部分，包括悬浮金属如砷和汞，以及矿化水和盐水，与非导电溶剂一起通过反应器周围的动态电容器。 解决方案达到饱和，同时气体如二氧化碳被轴向提取。 金属和浓缩的溶解的固体在高度湍流的工作空间中停留，并聚集成块，直到达到从叶轮传递动量的动量可以通过感应排斥推动块的大小。 雾化水从工作区周围喷雾，蒸发冷却，沉淀药物的盐和细晶。 成型化合物在反应器中沉淀成块，其通过常规方法容易地与冷却水或反渗透进料分离。 电解裂解中和氨和VOC。

公开(公告)号：WO2009093449A1

公开(公告)日：2009-07-30

申请号：PCT/JP2009/000211

申请日：2009-01-21

Applicant: 株式会社industria ,  本田技研工業株式会社 ,  高橋一彰 ,  渡邉俊介

Inventor： 高橋一彰 ,  渡邉俊介

IPC: C25D13/00 ,  B01F5/02 ,  B05C3/04 ,  C25D13/22 ,  C25D17/02

CPC classification number: B01F5/0206 ,  B01F15/00876 ,  B05C3/04 ,  B05C3/10 ,  C25D17/02 ,  C25D21/04 ,  C25D21/18

Abstract: 【課題】　簡易な構成で処理液を流動・攪拌させて処理液の沈降を確実に防止することができる処理槽を提供する。 【解決手段】　ワークＷを浸漬する電着塗料１を電着槽２内で流動・攪拌させる電着槽２であって、電着槽２の底面６にワーク搬送方向に沿って形成した複数の凹凸形状を有する溝部７と、電着塗料１を循環させて電着槽２に供給する電着塗料供給管１２と、この電着塗料供給管１２から分岐して溝部７の山部１０ｂ上に配設した複数の枝管１３と、これらの枝管１３の溝部７の底部１０ａに対向する部位にワーク搬送方向の上流に向けて設けた電着塗料吐出ノズル１４を備えた。

Abstract translation: 提供了一种具有简单结构的处理罐，其可以允许工艺流体流动并被搅拌以可靠地防止工艺流体的沉淀。 电沉积槽（2），其中浸入了工件（W）的电沉积涂层（1）被允许流动并在电沉积罐（2）中搅拌，其中， 电沉积槽（2），其具有在工件输送方向上形成有多个脊和谷的带槽部分（7）;电沉积涂层供应管（12），其使电沉积涂层（1）循环并将其供应到电沉积 罐（2），布置在从电沉积涂料供应管（12）分支的带槽部分（7）的脊（10b）上的多个分支管（13），以及电沉积涂布排出喷嘴（14） 其中分支管（13）面对凹槽部分（7）的谷（10a）的工作输送方向。

公开(公告)号：WO2004101863A3

公开(公告)日：2005-01-20

申请号：PCT/EP2004005226

申请日：2004-05-14

Applicant: SCHMID GMBH & CO GEB ,  SCHMID CHRISTIAN

Inventor： SCHMID CHRISTIAN

IPC: C25D5/20 ,  C25D21/04 ,  H05K3/00 ,  H05K3/18 ,  C23C18/16

CPC classification number: C25D21/04 ,  C25D5/20 ,  C25D7/0621 ,  C25D7/123 ,  C25D17/001 ,  H05K3/0085 ,  H05K3/187 ,  H05K2203/0285 ,  H05K2203/1509

Abstract: The invention relates to a method and a device (11, 111) for coating, for example, printed circuit boards (17, 117), using a coating bath (13, 113). Said coating bath (13) contains sound sources (21) which generate ultrasound towards the surface of the printed circuit board (17) in such a way that gas bubbles are driven out of the treatment liquid of the coating bath (13), improving the coating of the printed circuit board (17).

Abstract translation: 公开的是一种方法和用于涂覆的装置（11，111），例如，用镀浴（13，113）中所描述的印刷电路板（17，117）。 在电镀（13）被布置声波发生器（21）。 这些产生针对该印刷电路板（17），超声波，由此气体气泡从镀浴（13）的处理液被驱动的表面上。 因此，在印刷电路板（17）的涂层的改善是可能的。

公开(公告)号：WO00028115A1

公开(公告)日：2000-05-18

申请号：PCT/JP1999/006204

申请日：1999-11-08

IPC: C23C18/16 ,  C25D5/00 ,  C25D21/00 ,  C25D21/04 ,  H05K3/18 ,  H05K3/42 ,  C25D7/00

CPC classification number: C23C18/1834 ,  C23C18/1605 ,  C25D5/003 ,  C25D17/001 ,  C25D21/00 ,  C25D21/04 ,  H05K3/187 ,  H05K3/422 ,  H05K3/423

Abstract: Plating method and apparatus capable of making a plating liquid enter fine grooves and holes formed in a base to be plated, without adding a surfactant to the plating liquid; and carrying out a plating operation which enables the formation of a high-quality plated layer free from the occurrence of missing portions and defective portions, the plating method being adapted to subject the base to be plated to electrolytic or electroless plating, and comprising subjecting the object base to plating after a dissolved gas in the plating liquid is deaerated or while a dissolved gas in the plating liquid is being deaerated; and/or subjecting the object base to a pretreatment after the dissolved gas in a pretreatment liquid is deaerated or while a dissolved gas in the pretreatment liquid is being deaerated, and thereafter subjecting the resultant base to plating.

Abstract translation: 能够使电镀液在电镀液中不添加表面活性剂的情况下，能够使电镀液进入形成在被镀基材上的细小的槽和孔的电镀方法和装置; 并且进行电镀操作，其能够形成不存在缺失部分和缺陷部分的高质量镀层，所述电镀方法适于使所述基底经受电镀或无电镀，并且包括使 电镀液中的溶解气体脱气后或镀液中的溶解气体脱气时的电镀对象物; 在对预处理液中的溶解气体进行脱气之后，或者将预处理液体中的溶解气体脱气后，对对象物进行预处理，然后对得到的基材进行镀覆。

公开(公告)号：WO2016157251A1

公开(公告)日：2016-10-06

申请号：PCT/JP2015/001852

申请日：2015-03-31

Applicant: 株式会社JCU

Inventor： 村山　隆史

IPC: B01D19/00 ,  C25D7/00 ,  C25D7/12 ,  C25D21/04 ,  C25D21/12

CPC classification number: B01D19/00 ,  C25D7/00 ,  C25D7/12 ,  C25D21/04 ,  C25D21/12

Abstract: 【課題】　表面に溝や穴からなる微細パターンを有する作業対象物を処理するための処理液の脱気度を、気体の種類等を問わず確実に判定する。 【解決手段】　本発明の処理液の脱気判定方法は、表面に溝や穴からなる微細パターンを有する作業対象物を処理するための処理液に含まれる気体の脱気を行う脱気処理槽内に、当該脱気処理槽内の前記処理液の脱気度を判定するための、表面に所要の凹凸を有する微細パターンを備えた疑似作業対象物を浸漬し、該疑似作業対象物の表面状態の時間変化に応じて、前記処理液の脱気度を判定する。

Abstract translation: [问题]为了可靠地评价用于处理具有包括其表面中的凹槽或孔的精细图案的工件的处理液的脱气程度，而不管气体的类型等。 [解决方案]用于评价处理液体的脱气的方法包括：将设置有具有所需突起和凹部的精细图案的伪加工对象浸渍在脱气处理槽中，用于对包含在处理液中的气体进行脱气， 处理在其表面具有包括凹槽或孔的精细图案的工件，以评估脱气处理槽中的处理气体的脱气程度; 以及根据伪作物的表面状态随时间的变化来评价处理液体的脱气程度。

公开(公告)号：WO2014160400A1

公开(公告)日：2014-10-02

申请号：PCT/US2014/026495

申请日：2014-03-13

Applicant: APPLIED MATERIALS, INC.

Inventor： ZIMMERMAN, Nolan ,  HARRIS, Randy, A. ,  WOODRUFF, Daniel, J.

IPC: H01L21/288

CPC classification number: C25D21/04 ,  C25D5/003 ,  C25D17/001 ,  C25D17/06

Abstract: A substrate processor uses pressurized gas to create a vortex for lifting and holding a wafer, and to create a vacuum to prevent the wafer from adhering to a contact ring seal after electroplating the wafer. A processor head has a rotor movable into and out of an electrolyte vessel. A backing plate on the rotor includes vortex outlets which create the vortex in the rotor. A vacuum channel adjacent to the perimeter of the rotor applies vacuum to the wafer edges to hold the wafer onto the backing plate. A solenoid or switch in the head has a first position to supply gas flow to the vortex outlets, and a second position to supply gas flow to an aspirator which creates the vacuum in the vacuum channel.

Abstract translation: 基板处理器使用加压气体来产生用于提升和保持晶片的涡流，并且在电镀晶片之后产生真空以防止晶片粘附到接触环密封件。 处理器头具有可移入和移出电解质容器的转子。 转子上的背板包括在转子中产生涡流的涡流出口。 邻近转子周边的真空通道对晶片边缘施加真空以将晶片保持在背板上。 头部中的螺线管或开关具有向涡流出口提供气流的第一位置，以及向吸气器供应气体的第二位置，该吸气器在真空通道中产生真空。

公开(公告)号：WO2013189828A2

公开(公告)日：2013-12-27

申请号：PCT/EP2013/062261

申请日：2013-06-13

Applicant: AUCOS ELEKTRONISCHE GERÄTE GMBH

Inventor： FREUND, Robert

IPC: C25D17/06 ,  C25D21/02 ,  C25D21/04 ,  C25D17/00

CPC classification number: C25D17/00 ,  B08B15/02 ,  C25D17/06 ,  C25D21/02 ,  C25D21/04

Abstract: Die Galvanonanlage hat mehrere Bädern (22, 24, 26), mindestens einen Warenträger (28) für die Aufnahme von zu behandelnder Ware (30) und eine Transportvorrichtung (36) für den Transport des mindestens einen Warenträgers (28) zu den einzelnen Bädern (22, 24, 26). Die Transportvorrichtung (36) weist mindestens einen Hub-Transportwagen (40) auf. Es ist eine lösbare Kupplungsvorrichtung (44) vorgesehen, die zwischen Hub-Transportwagen (40) und Warenträger (28) angeordnet ist. Der Hub-Transportwagen (40) weist eine Einhausung (34) auf, die ein Bad (22) übergreift, haubenförmig ausgebildet ist und nur nach unten offen ist. Diese Einhausung (34) hat einen Ventilator (48) und einen Luftreiniger (52).

Abstract translation: 该Galvanonanlage具有几个槽（22，24，26），至少一个产品载体（28），用于接收待处理材料产品（30）和输送装置（36）（用于传送至少一个产品载体（28）向所述个体浴 22，24，26）。 所述的输送装置（36）具有至少一个提升台车（40）。 中，提供了被布置集线器载运架（40）和载流子的商品（28）之间的可释放连接装置（44）。 冲程台车（40）包括接合在浴器（22）的外壳（34）被设计圆顶状并且是开放仅向下。 该壳体（34）具有一个风扇（48）和空气净化器（52）。