홀로그래픽 광학소자 및 그 제조방법

    公开(公告)号:WO2021066391A1

    公开(公告)日:2021-04-08

    申请号:PCT/KR2020/012990

    申请日:2020-09-24

    Abstract: [요약] 본 발명의 실시예는, (a) 기재의 일면에 감광 수지를 도포하여 감광 기재를 형성하는 단계; 및 (b) 상기 감광 기재의 일면 및 타면에 각각 레이저 광을 조사하여 홀로그래픽 격자를 기록하는 단계;를 포함하며, 상기 (a) 단계는, 소정의 방향을 따라 상기 감광 수지의 도포층의 높이가 달라지도록 상기 감광 수지를 도포하는, 홀로그래픽 격자를 구비하는 홀로그래픽 광학소자의 제조 방법을 제공한다. [대표도] 도 4

    디스플레이 장치
    5.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2023058997A1

    公开(公告)日:2023-04-13

    申请号:PCT/KR2022/014737

    申请日:2022-09-30

    Abstract: 본 발명은 디스플레이 장치를 제공한다. 본 발명의 디스플레이 장치는 광원; 상기 광원으로부터 입사되는 광을 반사하는 보상 회절광학소자; 및 상기 보상 회절광학소자에서 반사된 광을 외부로 반사하는 비축 반사 회절광학소자를 포함하고, 상기 보상 회절광학소자는, 상기 비축 반사 회절광학소자에서 반사되는 광의 반사 각도 왜곡이 보상되도록, 상기 광원으로부터 입사되는 광의 반사 각도를 조절하여 상기 비축 반사 회절광학소자로 반사하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치이다.

    음극 활물질의 제조방법 및 이를 이용한 음극 활물질 및 리튬 이차전지

    公开(公告)号:WO2019045408A1

    公开(公告)日:2019-03-07

    申请号:PCT/KR2018/009906

    申请日:2018-08-28

    Abstract: 본 발명은 음극 활물질의 제조방법 및 이를 이용한 음극 활물질 및 리튬 이차전지에 관한 것으로, 보다 상세하게는 (a) 금속-인-산화질화물의 전구체를 포함하는 코팅 조성물을 제조하는 단계; (b) 상기 코팅 조성물을 용액 공정에 의해 음극 활물질 상에 전구체층을 형성하는 단계; 및 (c) 상기 전구체층이 형성된 음극 활물질을 열처리하여 음극 활물질 상에 금속-인-산화질화물 보호층을 형성하는 단계를 포함하는 음극 활물질의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 음극 활물질의 제조방법은 용액 공정을 이용함으로써 전체 공정단순화 및 비용절감 측면에서 유리할 뿐만 아니라 형성된 보호층이 우수한 특성을 가져 이를 포함하는 고용량화, 고안정화 및 장수명화를 가능하게 한다.

Patent Agency Ranking