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公开(公告)号：WO2019013467A3
公开(公告)日：2019-01-17
申请号：PCT/KR2018/007101
申请日：2018-06-22
Abstract: 본 발명은 구조체의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 이중 노즐 전기방사 장치를 이용한 전기방사 공정 및 열처리 공정을 포함하는 간소한 방법에 의해 전극 활물질을 담지하기 위한 공간을 확보할 수 있는 튜브형 구조체를 제조할 수 있다.
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公开(公告)号：WO2019013467A2
公开(公告)日：2019-01-17
申请号：PCT/KR2018/007101
申请日：2018-06-22
Abstract: 본 발명은 구조체의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 이중 노즐 전기방사 장치를 이용한 전기방사 공정 및 열처리 공정을 포함하는 간소한 방법에 의해 전극 활물질을 담지하기 위한 공간을 확보할 수 있는 튜브형 구조체를 제조할 수 있다.
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公开(公告)号：WO2020091426A1
公开(公告)日：2020-05-07
申请号：PCT/KR2019/014494
申请日：2019-10-30
Applicant: 주식회사 엘지화학
IPC: H01M4/134 , H01M4/62 , H01M10/052
Abstract: 본 발명은 리튬 전극 및 이를 포함하는 리튬 이차전지에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 상기 리튬 전극은 전기 전도성 매트릭스의 내부와 표면에 이온 전도성 전해질이 포함된 보호층을 포함하며, 상기 보호층은 리튬 전극 표면의 전기 전도도를 균일하게 하고 리튬 덴드라이트 성장 시 강도를 부여하여 물리적으로 리튬 덴드라이트 성장을 방지할 수 있으며, dead 리튬의 발생을 억제할 수 있다.
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公开(公告)号：WO2019022403A1
公开(公告)日：2019-01-31
申请号：PCT/KR2018/007577
申请日：2018-07-04
Applicant: 주식회사 엘지화학
IPC: H01M4/1395 , H01M4/04 , H01M4/66
Abstract: 본 발명은 리튬 전극의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 리튬 전극 제조시 기재 상에 리튬 금속을 보호할 수 있는 보호층을 먼저 형성하고, 상기 보호층 상에 리튬 금속을 증착시킨 후, 증착된 리튬 금속층을 집전체로 전사함으로써 얇고 균일한 두께의 리튬 전극을 제조할 수 있으며, 이와 같이 제조된 리튬 전극을 사용한 리튬 이차전지의 에너지 밀도가 향상시킬 수 있다.
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公开(公告)号：WO2013051802A1
公开(公告)日：2013-04-11
申请号：PCT/KR2012/007610
申请日：2012-09-21
Applicant: 주식회사 엘지화학
CPC classification number: G02B1/04 , B29K2025/08 , B29K2033/08 , B29K2995/0018 , C08L2205/025 , C08L2205/03 , C08L25/12 , C08L33/00
Abstract: 본 발명은 일 측면에서, 아크릴계 수지 40 내지 94 중량%; 중량평균 분자량이 100만 미만인 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체 5 내지 40 중량%; 및 중량평균분자량이 100만 내지 900만인 초고분자량 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체 1 내지 20 중량%를 포함하는 광학 필름용 조성물 및 이를 이용한 광학 필름을 제공한다.
Abstract translation: 根据本发明的一个方面，一种用于光学膜的组合物，包括：40至94重量％的丙烯酸树脂; 5〜40重量％的重均分子量小于1,000,000的苯乙烯 - 丙烯腈共聚物; 和1至20重量％的重均分子量为1,000,000至9,000,000的超高分子量苯乙烯 - 丙烯腈共聚物和使用其的光学膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2020145753A1
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：PCT/KR2020/000527
申请日：2020-01-10
Applicant: 주식회사 엘지화학
IPC: H01M4/134 , H01M4/1395 , H01M4/04 , H01M10/0569 , H01M10/052
Abstract: 본 발명은 리튬 전극 및 이를 포함하는 리튬 이차전지에 관한 것으로, 보다 상세하게는 리튬 금속층 상에 아크릴계 고분자층이 형성된 리튬 전극에 것에 관한 것이며, 상기 아크릴계 고분자층은 리튬 금속층에 대한 보호층 기능 및 리튬 전극 제조 공정에서 이형층 기능을 하며, 상기 리튬 전극을 포함하는 리튬 이차전지에서 전지 구동시 상기 아크릴계 고분자층이 저항으로 작용하지 않는 효과를 나타낸다.
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公开(公告)号：WO2014204168A1
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：PCT/KR2014/005288
申请日：2014-06-17
Applicant: 주식회사 엘지화학
IPC: G02B5/30
CPC classification number: G02B5/305 , C09D133/10 , G02B1/04 , C08L33/08
Abstract: 본 발명은, 열 가소성 아크릴계 수지 조성물 100 중량부에 대하여, 트리아진계 자외선 흡수제 0.01 중량부 내지 2.0 중량부를 포함하는 열 가소성 아크릴계 수지 조성물로 형성된 제1필름층; 트리아졸(Triazole)계, 벤조페논(Benzophenon)계, 옥사닐라이드(Oxanilide)계 및 시아노아크릴(Cyanoacryl)계 자외선 흡수제로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 자외선 흡수제 0.1 중량부 내지 5.0 중량부를 포함하는 열 가소성 아크릴계 수지 조성물로 형성된 제2필름층; 및 트리아진계 자외선 흡수제 0.01 중량부 내지 2.0 중량부를 포함하는 열 가소성 아크릴계 수지 조성물로 형성된 제3필름층을 포함하는 다층 광학 필름, 그 제조방법 및 이를 포함하는 편광판에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种多层光学薄膜及其制备方法及其制造方法，其中，所述多层光学薄膜包括：由热塑性丙烯酸类树脂组合物形成的第一薄膜层，其包含0.01〜2.0重量份 的基于100重量份的热塑性丙烯酸类树脂组合物的三嗪系紫外线吸收剂; 由热塑性丙烯酸类树脂组合物形成的第二膜层，其包含0.1至5.0重量份的选自三唑基，二苯甲酮基，草酰替苯胺和氰基丙烯酸酯的一种或多种紫外线吸收剂 的紫外线吸收剂; 以及由含有0.01〜2.0重量份的三嗪系紫外线吸收剂的热塑性丙烯酸类树脂组合物形成的第3膜层。
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公开(公告)号：WO2014193072A1
公开(公告)日：2014-12-04
申请号：PCT/KR2014/001742
申请日：2014-03-04
Applicant: 주식회사 엘지화학
Abstract: 290 내지 320㎚ 파장 대역에서 최대 흡광 계수가 0.07 내지 0.10 phr -1 ㎛ -1 인 제 1 피크를 가지고, 330 내지 400㎚ 파장 대역에서 최대 흡광 계수가 0.11 내지 0.16 phr-1㎛-1인 제 2 피크를 가지는 자외선 흡수제, 아크릴계 수지 및 피페리딘계 광 안정제(HALS, Hindered Amine Light Stabilizer)를 포함하는 광학 필름 및 이를 포함하는 편광판에 관한 것이다.
Abstract translation: 公开了一种光学膜，其包括在290〜320nm波长带中具有0.07〜0.10phr-1㎛-1的最大吸收系数的第一峰和最大吸收系数为0.11〜0.16的第二峰的紫外线吸收剂 330〜400nm波长带中的phr-1㎛-1，丙烯酸树脂和哌啶光稳定剂（HALS，受阻胺光稳定剂）和含有该偏振片的偏振片。
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公开(公告)号：WO2014157848A1
公开(公告)日：2014-10-02
申请号：PCT/KR2014/001863
申请日：2014-03-07
Applicant: 주식회사 엘지화학
IPC: G02B5/22 , G02B5/30 , C08L33/04 , C08K5/3492
CPC classification number: G02B1/14 , C08J5/18 , C08J2333/06 , C08J2333/24 , C08K5/3492 , C08L33/12 , G02B1/04 , G02B5/305 , C08L33/06
Abstract: 본 발명은 290 내지 320㎚ 파장 대역에서 최대 흡광 계수가 0.07 내지 0.10 phr -1 ㎛ -1 인 제 1 피크를 가지고, 330 내지 400㎚ 파장 대역에서 최대 흡광 계수가 0.11 내지 0.16 phr -1 ㎛ -1 인 제 2 피크를 가지는 자외선 흡수제 및 아크릴계 수지를 포함하고, 상기 자외선 흡수제의 함량이 아크릴계 수지 100 중량부에 대해 0.3 내지 1.0 중량부인 광학 필름 및 이를 포함하는 편광판에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种光学膜和包括该光学膜的偏振片。 光学膜包括：具有第一峰的紫外线吸收体，其中在290至320 at的波长带处的最大消光系数为0.07至0.10phr-1㎛-1，其中最大消光系数为最大值 消光系数在330〜400 at的波长范围内为0.11〜0.16phr-1㎛-1; 和丙烯酸树脂，其中紫外线吸收剂的含量为每100重量份丙烯酸树脂0.3-1.0重量份。
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公开(公告)号：WO2013051814A3
公开(公告)日：2013-04-11
申请号：PCT/KR2012/007752
申请日：2012-09-26
Applicant: 주식회사 엘지화학
Abstract: 본 발명은 수지 조성물 및 이를 이용하여 형성된 광학 필름에 관한 것으로, 알킬(메트)아크릴레이트계 단위와 스티렌계 단위를 포함하는 공중합체 및 주쇄에 카보네이트 부를 갖는 방향족계 수지를 포함하는 수지 조성물, 및 이를 이용하여 형성된 광학 필름에 관한 것이다. 또한, 본 발명에 따른 수지 조성물은 광학적 특성이 뛰어난 동시에 광학적 투명도가 우수하며, 헤이즈가 적고, 기계적 강도 및 내열성이 우수한 광학필름을 제공할 수 있으며, 따라서 본 발명의 수지 조성물을 이용하여 형성된 광학필름은 다양한 용도로 디스플레이 장치 등 정보전자 장치에 사용될 수 있다.
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