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公开(公告)号:WO2019066179A1
公开(公告)日:2019-04-04
申请号:PCT/KR2018/004929
申请日:2018-04-27
Applicant: 주식회사 한솔케미칼
IPC: C07F15/04 , C23C16/455 , C23C16/18 , H01L21/02
Abstract: 본 발명은 기상 증착을 통하여 박막 증착이 가능한 기상 증착 화합물에 관한 것으로서, 구체적으로는 원자층 증착법(Atomic Layer Deposition, ALD) 또는 화학 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD)에 적용가능하고 열적 안정성 및 반응성이 우수한 니켈 및 코발트 전구체 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
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2.
公开(公告)号:WO2018062590A1
公开(公告)日:2018-04-05
申请号:PCT/KR2016/010941
申请日:2016-09-30
Applicant: 주식회사 한솔케미칼
IPC: C07F15/06 , C07F15/02 , C23C16/18 , C23C16/455 , C23C16/40
CPC classification number: C07F15/02 , C07F15/06 , C23C16/18 , C23C16/40 , C23C16/455
Abstract: 본 발명은 기상 증착을 통하여 박막 증착이 가능한 유기금속 화합물에 관한 것으로서, 구체적으로는 원자층 증착법(Atomic Layer Deposition, ALD) 또는 화학 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD)에 적용 가능한 Co 또는 Fe 전구체 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
Abstract translation:
本发明涉及通过气相沉积将有机金属化合物膜沉积可能的,特别是原子层沉积(原子层沉积,ALD)或化学气相沉积法(化学气相沉积法,CVD法) 本发明涉及适用于本发明的Co或Fe前体及其制备方法。
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