公开(公告)号：WO2018210273A1

公开(公告)日：2018-11-22

申请号：PCT/CN2018/087130

申请日：2018-05-16

Applicant: 李哲峰 ,  辛玲玲

Inventor： 李哲峰

IPC: C23C16/513 ,  C23C16/455 ,  C23C16/40

CPC classification number: C23C16/40 ,  C23C16/403 ,  C23C16/45514 ,  C23C16/513

Abstract: 提供了一种具有同一等离子体源的原子层沉积的装置，包括反应物传输腔（1）以及与反应物传输腔（1）相邻的可移动基底（2），反应物传输腔（1）内设置有至少一个独立的前驱体反应物传输渠道（3）和至少一个与前驱体反应物传输渠道（3）间隔分布的等离子体反应物传输渠道（4），前驱体反应物传输渠道出口（301）和等离子体反应物传输渠道出口（401）设置在反应物传输腔（1）与可移动基底（2）的相邻面上，反应物传输腔（1）上还连接有一等离子体源（5），为等离子体反应物传输渠道（4）提供等离子体反应物，所有等离子体反应物传输渠道（4）共享同一个等离子体源（5）。还提供了一种具有同一等离子体源的原子层沉积的装置的原子层沉积方法。

公开(公告)号：WO2018088078A1

公开(公告)日：2018-05-17

申请号：PCT/JP2017/036317

申请日：2017-10-05

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 佐藤　宏樹 ,  和田　仙二 ,  齋藤　昭夫

IPC: C07F17/00 ,  C07F7/00 ,  C07F7/28 ,  C23C16/40 ,  H01L21/316

CPC classification number: C07F7/00 ,  C07F7/28 ,  C07F17/00 ,  C23C16/40 ,  H01L21/316

Abstract: 下記一般式（１）：（式中、Ｒ 1 ～Ｒ 6 は各々独立に水素又は炭素原子数１～４の直鎖若しくは分岐状のアルキル基を表し、Ｒ 7 、Ｒ 8 及びＲ 9 は炭素原子数１～４の直鎖又は分岐状のアルキル基を表し、Ｍ 1 はジルコニウム又はチタンを表す。）で表される化合物を含有してなる薄膜形成用原料。Ｒ 1 ～Ｒ 5 のうち１つがメチル基であり且つ残りの４つが水素であることが好ましい。Ｒ 6 及びＲ 7 がメチル基又はエチル基であることが好ましい。Ｒ 8 及びＲ 9 がメチル基又はエチル基であることが好ましい。

Abstract translation: 其中R 1至R 6各自独立地表示氢或具有1至4个碳原子的烷基 R 7，R 8和R 9代表具有1至4个碳原子的直链或支链烷基 M 1表示锆或钛。 优选R 1至R 5中的一个是甲基，其余四个是氢。 优选R 6和R 7是甲基或乙基。 优选R 8和R 9是甲基或乙基。

公开(公告)号：WO2018013909A1

公开(公告)日：2018-01-18

申请号：PCT/US2017/042110

申请日：2017-07-14

Applicant: APPLIED MATERIALS, INC.

Inventor： FENWICK, David ,  WU, Xiaowei ,  SUN, Jennifer, Y.

IPC: C23C28/04 ,  C23C16/34 ,  C23C16/40 ,  C23C16/455 ,  C23C16/56 ,  C23C14/06 ,  C23C14/08 ,  C23C14/58

CPC classification number: C23C16/45525 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/08 ,  C23C16/34 ,  C23C16/40 ,  C23C16/405

Abstract: A multi-layer coating for a surface of an article comprising a diffusion barrier layer and an erosion resistant layer. The diffusion barrier layer may be a nitride film including but not limited to TiN x , TaN x , Zr 3 N 4 , and TiZr x N y . The erosion resistant layer may be a rare oxide film including but not limited to YF 3 , Y 2 O 3 , Er 2 O 3 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , ErA lx O y , YO x F y , YA lx O y , YZr x O y and YZr x Al y O z . The diffusion barrier layer and the erosion resistant layer may be deposited on the articles surface using a thin film deposition technique including but not limited to, ALD, PVD, and CVD.

Abstract translation: 用于包含扩散阻挡层和抗腐蚀层的制品表面的多层涂层。 扩散阻挡层可以是氮化物膜，包括但不限于TiN x，TaN x，Zr 3 N 4， sub>和TiZr _{N y 。 耐腐蚀层可以是包括但不限于YF 3，Y 2 O 3，Er 2 O 3， O 3，Al 2 O 3，ZrO 2，ErA 1x y 0，y 0，y 0，y 0，y 0，y 0，y 0，y 0，y 0，y 0，y 0， x y 和 x y y z 。 可以使用包括但不限于ALD，PVD和CVD的薄膜沉积技术将扩散阻挡层和抗腐蚀层沉积在制品表面上。}

公开(公告)号：WO2017222601A1

公开(公告)日：2017-12-28

申请号：PCT/US2017/014617

申请日：2017-01-23

Applicant: APPLIED MATERIALS, INC.

Inventor： SUN, Jennifer Y.

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/205 ,  H01L21/56

CPC classification number: C23C16/40 ,  C23C16/0227 ,  C23C16/30 ,  C23C16/403 ,  C23C16/405 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45553 ,  C23C16/56 ,  H01J37/32467 ,  H01J37/32495

Abstract: Described herein is a method of depositing a plasma resistant ceramic coating onto a surface of a chamber component using a non-line-of-sight (NLOS) deposition process, such as atomic layer deposition (ALD) and chemical vapor deposition (CVD). The plasma resistant ceramic coating consists of an erbium containing oxide, an erbium containing oxy-fluoride, or an erbium containing fluoride. Also described are chamber components having a plasma resistant ceramic coating of an erbium containing oxide, an erbium containing oxy-fluoride, or an erbium containing fluoride.

Abstract translation: 本文描述了使用非视线（NLOS）沉积工艺（例如原子层沉积（ALD））将抗等离子体陶瓷涂层沉积到腔室部件的表面上的方法， 和化学气相沉积（CVD）。 耐等离子陶瓷涂层由含铒氧化物，含铒氧氟化物或含铒氟化物组成。 还描述了具有含铒氧化物，含铒氟氧化物或含铒氟化物的铒的抗等离子体陶瓷涂层的腔室部件。

公开(公告)号：WO2017179857A1

公开(公告)日：2017-10-19

申请号：PCT/KR2017/003782

申请日：2017-04-06

Applicant: (주)디엔에프

Inventor： 김명운 ,  이상익 ,  채원묵 ,  임상준 ,  이강용 ,  조아라 ,  전상용 ,  임행돈

IPC: C07F7/10 ,  C23C16/18 ,  C23C16/40

CPC classification number: C07F7/10 ,  C23C16/18 ,  C23C16/40

Abstract: 본 발명은 신규한 전이금속 화합물, 이의 제조방법, 이를 포함하는 전이금속함유 박막증착용 조성물, 전이금속함유 박막증착용 조성물을 이용한 전이금속함유 박막 및 전이금속함유 박막의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명의 전이금속 화합물은 열적 안정성이 높고, 휘발성이 높으며, 저장안정성이 높아 이를 전구체로 이용하여 고밀도 및 고순도의 전이금속함유박막을 용이하게 제조할 수 있다.

Abstract translation:

本发明涉及一种新的过渡金属化合物，其制备方法，含过渡他们薄膜沉积组合物中，穿着带有组合物含有过渡金属的薄膜和含过渡金属的薄膜的含有过渡金属的薄膜的增加含金属 该涉及一种用于制备本发明的过渡金属化合物具有高的热稳定性，高挥发性，所以能够容易地制造具有高密度和高纯度和高储存稳定性的含过渡金属的薄膜，并用它作为前体。

公开(公告)号：WO2016061468A3

公开(公告)日：2017-05-26

申请号：PCT/US2015055961

申请日：2015-10-16

Applicant: LOTUS APPLIED TECH LLC

Inventor： DICKEY ERIC R ,  DANFORTH BRYAN LARSON

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/45536 ,  C23C16/06 ,  C23C16/40 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/45555 ,  C23C16/545

Abstract: The present disclosure relates to metal oxide barrier films and particularly to high-speed methods for depositing such barrier films. Methods are disclosed that are capable of producing barrier films with water vapor transmission rates (WVTR) below 0.1 g/(m2•day). Methods are disclosed for continuously transporting a substrate within an atomic layer deposition (ALD) reactor and performing a limited number of ALD cycles to achieve a desired WVTR.

Abstract translation: 本公开涉及金属氧化物阻挡膜，特别涉及用于沉积这种阻挡膜的高速方法。 公开了能够产生具有低于0.1g /（m2·天）的水蒸气透过率（WVTR）的阻挡膜的方法。 公开了用于在原子层沉积（ALD）反应器内连续传输衬底并且执行有限数量的ALD循环以实现期望的WVTR的方法。

公开(公告)号：WO2017057775A1

公开(公告)日：2017-04-06

申请号：PCT/JP2016/079289

申请日：2016-10-03

Applicant: 国立大学法人山形大学

Inventor： 廣瀬　文彦

IPC: C23C16/40 ,  C23C26/00 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C16/40 ,  C23C26/00 ,  H01L21/205

Abstract: 容器あるいはパイプ形状の被処理対象の内面に酸化膜を形成する方法であって、少なくとも一つの被処理対象を接続される接続管に結合部を連結して当該被処理対象内を密閉状態とし、前記結合部には、前記被処理対象内のガスを排気できる排気手段と、前記被処理対象内に有機金属ガスを導入して充満させる有機金属ガス導入手段と、前記被処理対象内に励起された加湿ガスを導入して充満させる加湿ガス導入手段とを連結し、（１）前記有機金属ガス導入手段により、前記被処理対象内に前記有機金属ガスを導入する工程と、（２）前記排気手段により、前記被処理対象内の有機金属ガスを排気する工程と、（３）前記加湿ガス導入手段により、前記被処理対象内に前記励起された加湿ガスを導入する工程と、（４）前記排気手段により、前記被処理対象内の加湿ガスを排気する工程と、を実行し、（１）～（４）の工程を繰り返すことで、前記被処理対象の内面に酸化膜を形成する。

Abstract translation: 该方法用于在容器或管状物体的内表面上形成氧化膜。 接合部连接到要连接到至少一个待处理物体的连接管，以在物体中形成密封环境。 接合部连接到用于排出待处理物体中的气体的排气装置，将有机金属气体引入到物体中以填充物体的有机金属气体引入装置，以及用于引入被激发的物体的加湿气体引入装置 加湿的气体进入被处理物体以填充物体。 该方法包括以下步骤：（1）通过有机金属气体引入装置将有机金属气体引入物体; （2）通过排气装置排出物品中的有机金属气体; （3）通过加湿气体引入装置将激发的加湿气体引入物体; 和（4）通过排气装置排出物体中的加湿气体。 重复步骤（1）至（4）以在物体的内表面上形成氧化膜。

公开(公告)号：WO2017057456A1

公开(公告)日：2017-04-06

申请号：PCT/JP2016/078615

申请日：2016-09-28

Applicant: 京セラ株式会社

Inventor： 伊藤　博俊 ,  渡邉　賢作

IPC: B23B27/14 ,  C23C16/36 ,  C23C16/40

CPC classification number: B23B27/14 ,  C23C16/36 ,  C23C16/40

Abstract: 一態様の被覆工具は、基体と、基体の表面に位置する被覆層とを備え、さらに、第１面、第２面、第３面及び切刃とを備え、被覆層は、第１層と第２層とを有し、第１層は、炭窒化チタンを含有し、第２層よりも基体の近くに位置し、第２層は、酸化アルミニウムを含有し、第３面のＸ線回折分析において検出される各結晶面に帰属されるピークを基に算出される配向係数Ｔｃ（ｈｋｌ）について、配向係数Ｔｃ（３３０）が配向係数Ｔｃ（１１０）よりも大きい。

Abstract translation: 根据本发明的一个实施例的涂覆工具设置有衬底和设置在衬底的表面上的涂层，并且还具有第一表面，第二表面，第三表面和切割刀片，其中： 涂层具有第一层和第二层; 第一层含有碳氮化钛，并且与第二层相比位于更靠近衬底的位置; 第二层含有氧化铝; 并且根据通过第三表面的X射线衍射分析检测的归因于各个晶面的峰值计算出的纹理系数Tc（hkl），纹理系数Tc（330）大于纹理 系数Tc（110）。

公开(公告)号：WO2017057399A1

公开(公告)日：2017-04-06

申请号：PCT/JP2016/078524

申请日：2016-09-27

Applicant: 日精エー・エス・ビー機械株式会社

Inventor： 島田　清典 ,  中川　峻

IPC: B65D1/02 ,  B32B9/00 ,  B65D23/02 ,  C23C16/40 ,  G01N21/35

CPC classification number: B32B9/00 ,  B65D1/02 ,  B65D23/02 ,  C23C16/40 ,  G01N21/35

Abstract: ボトル（１）の内表面に有機ケイ素化合物でコーティング膜（５）を形成し、溶剤を使用して内表面から剥離したコーティング膜（５）に対して赤外分光法による測定を行ったとき、有機ケイ素化合物の主骨格と剥離されたコーティング膜（５）に残存したプラスチックとに由来する赤外吸収スペクトルが複合したピークをPeak1、側鎖（Si-CH 3 ）と残存したプラスチックとに由来する赤外吸収スペクトルが複合したピークをPeak2、残存したプラスチックのうちC=Oに由来する赤外吸収スペクトルのピークをPeak3、側鎖（Si-H）に由来する赤外吸収スペクトルのピークをPeak4としたとき、（Peak4／Peak1）が0より大きく0.2以下であり、（Peak2／Peak3）が0.75以上2.4以下である。

Abstract translation: 当使用有机硅化合物在瓶（1）的内表面上形成涂膜（5）时，使用红外光谱法测定使用溶剂从内表面剥离的涂膜（5）（峰4 /峰 1）大于0且不大于2.0，（Peak2 / Peak3）为0.75-2.4，其中Peak1是组合来自有机硅化合物的主骨架的红外吸收光谱和从涂层残留的塑料的峰 膜（5），Peak2是组合从侧链（Si-CH3）和剩余塑料衍生的红外吸收光谱的峰，Peak3是从剩余塑料的C = O衍生的红外吸收光谱的峰，Peak4 是从侧链（Si-H）衍生的红外吸收光谱的峰。

公开(公告)号：WO2017047845A1

公开(公告)日：2017-03-23

申请号：PCT/KR2015/009812

申请日：2015-09-18

Applicant: (주)솔라세라믹

Inventor： 류도형 ,  주한용 ,  박성환 ,  김병종 ,  김보민 ,  진은주

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/40 ,  B05B13/00

CPC classification number: B05B13/00 ,  C23C16/40 ,  C23C16/44

Abstract: 본 발명은 스프레이 열 분해법에 의한 박막 형성을 위한 노즐 유닛, 이를 포함하는 박막 형성 장치 및 박막 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐 유닛은, 각각 액적 생성실에 연결된 입력 단부 및 반응 챔버 측의 출력 단부를 가지고, 온도 및 유속 중 적어도 어느 하나에 대하여 독립적으로 제어가 가능한 복수의 전달 유로들; 및 상기 전달 유로들의 각 출력 단부를 가로 질러 지나는 개구를 갖는 공통 슬릿을 포함한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于通过喷雾热解法形成薄膜的喷嘴单元，一种用于形成包含该薄膜的薄膜的设备以及一种形成薄膜的方法。 根据本发明的实施例的喷嘴单元包括：多个传送流路，其具有连接到液滴发生器的输入端和反应室侧的输出端，并且可以独立地控制至少一个 温度和流速; 以及具有穿过传送流路的各个输出端的开口的公共狭缝。