公开(公告)号：WO2023058929A1

公开(公告)日：2023-04-13

申请号：PCT/KR2022/013889

申请日：2022-09-16

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 송정철 ,  오재섭 ,  박민준 ,  조희재 ,  김광희 ,  한창희

IPC: G03F1/36 ,  G03F7/20

Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 라인 및 스페이스 패턴 형성 방법은, 기판에 제1 방향과 제2 방향으로 마스크을 노광하여 스티칭 공정을 진행한다. 상기 라인 및 스페이스 패턴 형성 방법은, 상기 제1 방향으로 상기 마스크의 제1 샷들(shots)이 서로 접촉하도록 상기 기판에 제1 노광 공정을 수행하는 단계; 및, 상기 2 방향으로 이격하여 상기 제1 샷들(shots)과 상기 제1 방향의 오프셋을 가지도록 상기 마스크의 제2 샷들(shots)이 서로 접촉하도록 상기 기판에 제2 노광 공정을 수행하는 단계를 포함한다.

公开(公告)号：WO2020111482A1

公开(公告)日：2020-06-04

申请号：PCT/KR2019/012480

申请日：2019-09-26

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 강병훈 ,  박민준 ,  장대희 ,  김종환

IPC: G06F21/14

Abstract: 프로그램 실행 컨텍스트 기반의 빅데이터를 활용한 역공학 방법 및 시스템을 제공한다. 일실시예에 따른 역공학 방법은, 분석 대상 프로그램을 디버거를 통해 실행하는 단계, 상기 디버거를 이용하여 상기 분석 대상 프로그램의 관심 영역에 포함된 인스트럭션에 브레이크 포인트를 설정하는 단계, 상기 브레이크 포인트가 설정된 인스트럭션에서 발생하는 이벤트에 대해 이벤트 핸들러를 통해 해당 시점에서의 실행 컨텍스트(execution context)를 컨텍스트 데이터베이스에 저장하는 단계 및 상기 컨텍스트 데이터베이스에 저장된 데이터를 처리하여 상기 분석 대상 프로그램에 대한 정보 분석 결과를 생성하는 단계를 포함할 수 있다.

公开(公告)号：WO2019240485A1

公开(公告)日：2019-12-19

申请号：PCT/KR2019/007076

申请日：2019-06-12

Applicant: 삼성전자 주식회사 ,  한국과학기술원

Inventor： 곽근환 ,  김동욱 ,  강병훈 ,  박민준 ,  이성만 ,  장대희 ,  정윤종

IPC: G06F21/14 ,  G06F21/12

Abstract: 어플리케이션에서 미리 설정된 오류가 발생됨에 따라 호출될 수 있는 핸들러를 전자 장치에 등록하고, 핸들러가 등록된 후, 어플리케이션에서 미리 설정된 오류를 발생시키기 위한 보호 코드를 실행하고, 보호 코드가 실행됨에 따라 핸들러가 호출되었는지 여부에 기초하여, 어플리케이션이 실행되는 환경이 이상 환경인지 판단하고, 판단 결과에 기초하여, 어플리케이션을 보호하기 위한 동작을 수행하는, 전자 장치에서, 이상 환경으로부터 어플리케이션을 보호하는 방법이 제공된다.