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公开(公告)号：WO2023058929A1
公开(公告)日：2023-04-13
申请号：PCT/KR2022/013889
申请日：2022-09-16
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 라인 및 스페이스 패턴 형성 방법은, 기판에 제1 방향과 제2 방향으로 마스크을 노광하여 스티칭 공정을 진행한다. 상기 라인 및 스페이스 패턴 형성 방법은, 상기 제1 방향으로 상기 마스크의 제1 샷들(shots)이 서로 접촉하도록 상기 기판에 제1 노광 공정을 수행하는 단계; 및, 상기 2 방향으로 이격하여 상기 제1 샷들(shots)과 상기 제1 방향의 오프셋을 가지도록 상기 마스크의 제2 샷들(shots)이 서로 접촉하도록 상기 기판에 제2 노광 공정을 수행하는 단계를 포함한다.
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公开(公告)号：WO2022250260A1
公开(公告)日：2022-12-01
申请号：PCT/KR2022/003599
申请日：2022-03-15
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 MEMS 소자의 제조 방법은, 실리콘 기판 상에 복수의 MEMS 소자들을 형성하는 단계; 스텔스 다이싱 정렬키를 포함하고 상기 스텔스 다이싱 정렬키와 연속적으로 연결되고 상기 MEMS 소자들을 서로 분리하고 상기 실리콘 기판 상에 모든 박막을 제거하는 스텔스 다이싱 패턴을 형성하는 단계; 상기 실리콘 기판의 하부면에서 상기 스텔스 다이싱 정렬키에 정렬된 백사이드 정렬키와 MEMS 소자와 정렬된 백사이드 식각 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 스텔스 다이싱 패턴을 따라 레이저 빔을 조사하여 상기 실리콘 기판을 다이싱하는 단계;를 포함한다.
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公开(公告)号：WO2021182813A2
公开(公告)日：2021-09-16
申请号：PCT/KR2021/002799
申请日：2021-03-08
Applicant: 한국과학기술원
IPC: G01J5/20 , B81C1/00 , B81B7/00 , B81B7/0032 , B81C1/00039 , B81C1/00063 , B81C1/00087 , B81C2203/03
Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 멤스 소자는, 하부 기판; 및 상기 하부 기판에 형성된 적외선 센서를 포함한다. 상기 적외선 센서는, 상기 하부 기판의 상부면에 형성되어 검출회로와 전기적으로 연결되는 금속 패드; 상기 금속 패드와 동일한 평면에 배치되고 상기 하부 기판의 상부면에 형성되고 적외선 대역을 반사하는 반사층; 상기 반사층을 덮도록 배치되고 광경로 거리를 변경하는 투과층; 상기 투과층의 상부에 이격되어 형성되고 적외선을 흡수하여 저항을 변화시키는 흡수판; 및 상기 금속 패드의 상부에 형성되어 상기 흡수판을 지지하고 상기 금속 패드와 상기 흡수판을 전기적으로 연결하는 앵커를 포함한다. 상기 반사층의 상부면과 상기 흡수판의 하부면 사이의 거리는 특정 적외선 파장에서 파장/4 보다 작다.
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公开(公告)号：WO2020242236A1
公开(公告)日：2020-12-03
申请号：PCT/KR2020/006955
申请日：2020-05-29
Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필터는, 투명 기판; 상기 투명 기판의 일면에 배치되고 다층 박막을 포함하는 적외선 차단 필터; 서로 나란히 연장되고 상기 투명 기판의 타면에 배치된 무반사 코팅 패턴; 서로 나란히 연장되고 상기 무반사 코팅 패턴에 정렬된 와이어 그리드 형태로 패터닝된 폴리머 패턴들; 및 상기 폴리머 패턴들 각각의 적어도 일 측면 및 상부면을 덮는 도전 패턴들을 포함한다.
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