나노 플라즈모닉 센서 및 이의 제조 방법

    公开(公告)号:WO2018169119A1

    公开(公告)日:2018-09-20

    申请号:PCT/KR2017/003590

    申请日:2017-03-31

    发明人: 위정섭 옥종걸

    IPC分类号: G01N21/552

    摘要: 본 발명의 나노 플라즈모닉 센서는, 기판, 기판 상에 일 방향으로 연장되도록 배치되는 적어도 하나의 유전체 구조물, 유전체 구조물의 상면 및 일 측면을 덮고 기판의 상면으로 연장되도록 배치되는 금속 구조물, 및 금속 구조물에서의 국소 표면 플라즈몬 공명 현상을 측정하는 측정부를 포함한다. 또한, 본 발명의 나노 플라즈모닉 센서의 제조 방법은, 기판 상에 유전층을 형성하는 단계, 나노 패턴을 포함하는 몰드를 이용하여 유전층을 패터닝하여 유전체 구조물을 형성하는 단계, 및 기판에 대하여 소정 각도로 금속 물질을 공급함으로써, 유전체 구조물의 상면과 일 측면, 및 기판의 노출된 상면의 일부에 금속 물질을 증착하여 금속 구조물을 형성하는 단계를 포함한다.

    나노 플라즈모닉 센서 및 이를 이용한 측정 방법
    3.
    发明申请
    나노 플라즈모닉 센서 및 이를 이용한 측정 방법 审中-公开
    纳米传感器和使用相同的测量方法

    公开(公告)号:WO2015072628A1

    公开(公告)日:2015-05-21

    申请号:PCT/KR2014/002051

    申请日:2014-03-12

    发明人: 위정섭 이태걸

    IPC分类号: G01N21/55 B82B1/00

    CPC分类号: G01N21/554

    摘要: 본 발명의 나노 플라즈모닉 센서는, 분석 대상물이 수용되는 리세스된 수용부를 가지는 금속 나노구조물 및 금속 나노구조물에서의 플라즈몬 공명 현상을 측정하는 측정부를 포함한다. 또한, 본 발명의 나노 플라즈모닉 센서를 이용한 측정 방법은, 분석 대상물이 수용되는 리세스된 수용부를 포함하는 금속 나노구조물을 마련하는 단계, 수용부 내에 분석 대상물을 위치시키는 단계, 및 금속 나노구조물에서의 플라즈몬 공명 현상을 측정하는 단계를 포함한다.

    摘要翻译: 本发明的纳米等离子体传感器包括金属纳米结构,其具有容纳被分析对象的凹入的壳体部分,以及用于测量金属纳米结构中的等离子体共振的测量部分。 此外,使用本发明的纳米等离子体传感器的测量方法包括以下步骤:制备金属纳米结构,其包括容纳被分析物体的凹入壳体部分; 将被分析对象定位在壳体部分中; 并测量金属纳米结构中的等离子体共振。

    나노 임프린트를 이용한 나노 구조물 형성 방법
    4.
    发明申请
    나노 임프린트를 이용한 나노 구조물 형성 방법 审中-公开
    使用纳米印刷法形成纳米结构的方法

    公开(公告)号:WO2015016453A1

    公开(公告)日:2015-02-05

    申请号:PCT/KR2014/002233

    申请日:2014-03-17

    发明人: 위정섭 이태걸

    IPC分类号: B29C59/02 B82B3/00

    摘要: 본 발명의 실시 형태에 따른 나노 임프린트를 이용한 나노 구조물 형성 방법 은, 기판 상에 순차적으로 제1 및 제2 레지스트층을 형성하는 단계; 몸체부 및 몸체부로부터 연장되며 단면의 크기가 변화되는 나노 패턴을 포함하는 몰드를 준비하는 단계; 나노 패턴이 제2 레지스트층에 삽입되도록 제2 레지스트층 상에 몰드를 가압하여 나노 패턴이 전사된 패턴 영역을 형성하는 단계; 몰드를 제거한 후, 패턴 영역에서 기판이 노출되도록 제1 레지스트층을 선택적으로 식각하는 단계; 및 제2 레지스트층을 마스크층으로 이용하여 기판 상에 나노 구조물을 형성하는 단계를 포함한다.

    摘要翻译: 根据本发明的实施方案,通过使用纳米压印形成纳米结构的方法包括以下步骤:在衬底上依次形成第一和第二抗蚀剂层; 制备包括主体部分和纳米图案的模具,其从主体部分延伸并且横截面尺寸改变; 通过将模具压在第二抗蚀剂层上形成其中转移纳米图案的图案区域,以使纳米图案插入到第二抗蚀剂层中; 去除模具并选择性地蚀刻第一抗蚀剂层以允许基板在图案区域中暴露; 以及通过使用第二抗蚀剂层作为掩模层在衬底上形成纳米结构。