公开(公告)号：WO2006085676A3

公开(公告)日：2006-10-19

申请号：PCT/JP2006302595

申请日：2006-02-08

Applicant: ASAHI GLASS CO LTD ,  IWATA KEI ,  UTO TAKAO ,  SAKUMA TAKUYA

Inventor： IWATA KEI ,  UTO TAKAO ,  SAKUMA TAKUYA

IPC: C03B19/14 ,  C03B37/014

CPC classification number: C03B19/1446 ,  C03B37/0144 ,  Y02P40/57

Abstract: The present invention provides a process for producing a porous quartz glass base, which comprises hydrolyzing a silicon compound in an oxyhydrogen flame in a reaction furnace to generate and deposit fine silica particles on a starting member, thereby forming a porous quartz glass base, wherein a gas discharge pipe for discharging an unnecessary gas from the reaction furnace is heated. According to the present invention, fine silica particles can be prevented from adhering to a gas discharge pipe for discharging the unnecessary hydrogen chloride gas generated in producing a porous quartz glass base.

Abstract translation: 本发明提供一种多孔石英玻璃基底的制造方法，该方法包括在反应炉中水解含氢氢火焰中的硅化合物，以在起始部件上产生并沉积二氧化硅微粒，从而形成多孔石英玻璃基底，其中， 用于从反应炉排出不需要的气体的排气管被加热。 根据本发明，可以防止二氧化硅微粒附着在用于排出生产多孔石英玻璃基底中产生的不必要的氯化氢气体的排气管。