公开(公告)号：WO2016094494A3

公开(公告)日：2016-10-06

申请号：PCT/US2015064662

申请日：2015-12-09

Applicant: CORNING INC

Inventor： ANNAMALAI SEZHIAN ,  DURAN CARLOS ALBERTO ,  HRDINA KENNETH EDWARD

IPC: C03C3/06 ,  C03B19/14

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1461 ,  C03B25/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/14 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/42 ,  C03B2201/50 ,  C03B2201/54 ,  C03C3/112 ,  C03C4/00 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/14 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/42 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54 ,  C03C2203/52

Abstract: A doped silica-titania glass article is provided that includes a glass article having a glass composition comprising (i) a silica-titania base glass, (ii) a fluorine dopant, and (iii) a second dopant. The fluorine dopant has a concentration of fluorine of up to 5 wt. % and the second dopant comprises one or more oxides selected from the group consisting of Al, Nb, Ta, B, Na, K, Mg, Ca and Li oxides at a total oxide concentration from 50 ppm to 6 wt.%. Further, the glass article has an expansivity slope of less than 0.5 ppb/K2 at 20⃘C. The second dopant can be optional. The composition of the glass article may also contain an OH concentration of less than 100 ppm.

Abstract translation: 提供掺杂二氧化硅 - 二氧化钛玻璃制品，其包括具有玻璃组合物的玻璃制品，所述玻璃组合物包含（i）二氧化硅 - 二氧化钛基底玻璃，（ii）氟掺杂剂和（iii）第二掺杂剂。 氟掺杂剂的氟浓度高达5wt。 ％，第二掺杂剂包含一种或多种选自Al，Nb，Ta，B，Na，K，Mg，Ca和Li氧化物的氧化物，总氧化物浓度为50ppm至6wt。％。 此外，玻璃制品在20℃时的膨胀斜率小于0.5ppb / K2。 第二掺杂剂可以是任选的。 玻璃制品的组成也可以含有小于100ppm的OH浓度。

公开(公告)号：WO2016096811A1

公开(公告)日：2016-06-23

申请号：PCT/EP2015/079732

申请日：2015-12-15

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： LAUDAHN, Hilmar ,  BADEKE, Klaus-Uwe ,  TROMMER, Martin

IPC: C03B19/14 ,  B01D53/02 ,  B01J20/10

CPC classification number: C03B19/1415 ,  B01D53/02 ,  B01D2253/106 ,  B01D2253/304 ,  B01D2253/306 ,  B01J20/103 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/02 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/81 ,  C03B2207/85 ,  C03C3/04

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas unter Verwendung einer speziellen Reinigungsvorrichtung, eine Vorrichtung zur Herstellung von synthetischem Quarzglas, umfassend eine spezielle Reinigungsvorrichtung, die Verwendung einer Schüttung aus porösen Silica-Partikeln zur Reinigung eines Einsatzmaterialdampfes zur Herstellung von synthetischem Quarzglas sowie das synthetische Quarzglas, welches nach dem erfindungsgemäßen Verfahren erhalten wird.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于通过使用特定的清洁装置，用于制造合成石英玻璃，其包括一个特殊的清洗装置，使用多孔二氧化硅颗粒的床的用于纯化进料蒸汽用于生产合成石英玻璃和的装置制造的合成石英玻璃 合成石英玻璃，这是由本发明方法获得。

公开(公告)号：WO2016081420A1

公开(公告)日：2016-05-26

申请号：PCT/US2015/061010

申请日：2015-11-17

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： ANNAMALAI, Sezhian ,  DURAN, Carlos Alberto ,  HRDINA, Kenneth Edward

IPC: C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03B19/14 ,  C03C10/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/12 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/30 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/42 ,  C03B2201/50 ,  C03B2201/54 ,  C03C3/076 ,  C03C10/0009 ,  C03C2201/10 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/42 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54 ,  C03C2201/58 ,  C03C2203/54

Abstract: Ultralow expansion titania-silica glass. The glass has high hydroxyl content and optionally include one or more dopants. Representative optional dopants include boron, alkali elements, alkaline earth elements or metals such as Nb, Ta, Al, Mn, Sn Cu and Sn. The glass is prepared by a process that includes steam consolidation to increase the hydroxyl content. The high hydroxyl content or combination of dopant(s) and high hydroxyl content lowers the fictive temperature of the glass to provide a glass having a very low coefficient of thermal expansion (CTE), low fictive temperature (T f ), and low expansivity slope.

Abstract translation: 超低膨胀二氧化钛 - 二氧化硅玻璃。 玻璃具有高羟基含量，并且任选地包括一种或多种掺杂剂。 代表性的可选掺杂剂包括硼，碱元素，碱土金属元素或诸如Nb，Ta，Al，Mn，Sn Cu和Sn的金属。 玻璃通过包括蒸汽固结以增加羟基含量的方法制备。 高羟基含量或掺杂剂和高羟基含量的组合降低了玻璃的假想温度，以提供具有非常低的热膨胀系数（CTE），低假想温度（Tf）和低膨胀斜率的玻璃。

公开(公告)号：WO2016077289A1

公开(公告)日：2016-05-19

申请号：PCT/US2015/059860

申请日：2015-11-10

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： BHAGAVATULA, Venkata Adiseshaiah ,  HAWTOF, Daniel Warren ,  LAL, Archit ,  LI, Xinghua ,  STONE, John, III ,  THOMAS, Windsor Pipes, III

IPC: C03C3/06 ,  C01B31/02 ,  C03B19/14 ,  B23K26/00 ,  C03C23/00

CPC classification number: C03C23/0025 ,  B01J21/08 ,  B01J35/002 ,  B01J35/0026 ,  B01J35/023 ,  B01J35/06 ,  B01J35/10 ,  B01J35/1004 ,  B01J37/349 ,  C01B32/16 ,  C01B32/162 ,  C01B33/12 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C17/22 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3605 ,  C03C17/3634 ,  C03C23/0095 ,  C03C2201/3488

Abstract: An assembly for making and/or using carbon nanotubes includes a substrate and at least one of carbon nanotubes and precursors thereof. The substrate is SiO2 and has a thickness of less than 500 µm. Further, the substrate is bendable and has a surface with non-flat or non-polished texture such that surface comprises raised and recessed features. Carbon nanotubes and/or precursors thereof are coupled to recessed features of the substrate.

Abstract translation: 用于制造和/或使用碳纳米管的组件包括底物和碳纳米管及其前体中的至少一种。 基板是SiO 2，厚度小于500μm。 此外，基板是可弯曲的并且具有非平坦或非抛光纹理的表面，使得表面包括凸起和凹陷的特征。 碳纳米管和/或其前体与衬底的凹陷特征耦合。

公开(公告)号：WO2015057631A1

公开(公告)日：2015-04-23

申请号：PCT/US2014/060377

申请日：2014-10-14

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： HAWTOF, Daniel Warren ,  MOZDY, Eric John

IPC: C03B19/14 ,  C03C23/00

CPC classification number: C03B19/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1492 ,  C03C23/0025 ,  Y10T428/24777

Abstract: A porous soot sheet is formed using a roll-to-roll glass soot deposition and sintering process. The soot sheet formation involves depositing glass soot particles on a deposition surface to form a supported soot layer, removing the soot layer from the deposition surface to form a soot sheet, and heating a portion of the soot sheet to locally-sinter the glass soot particles and form a porous soot part having a sintered peripheral edge.

Abstract translation: 使用辊对辊玻璃烟灰沉积和烧结工艺形成多孔烟炱片。 烟叶片形成包括在沉积表面上沉积玻璃烟灰颗粒以形成支撑的烟灰层，从沉积表面除去烟灰层以形成烟炱片，并且加热烟炱纸的一部分以将玻璃烟灰颗粒局部烧结 并形成具有烧结周边边缘的多孔烟灰部分。

公开(公告)号：WO2014128148A3

公开(公告)日：2014-11-27

申请号：PCT/EP2014053199

申请日：2014-02-19

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS ,  SHINETSU QUARTZ PROD

Inventor： KUEHN BODO

IPC: C03C4/00 ,  C03B19/01 ,  C03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03B32/00 ,  C03C3/06 ,  G02B1/00 ,  G02B1/02

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B32/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/24 ,  C03C4/04 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2203/54 ,  C03C2204/00 ,  G02B1/00 ,  G02B1/02 ,  Y02P40/57

Abstract: The invention relates to an optical component made of synthetic quartz glass for use in an ArF excimer laser lithography process with an applied wavelength of 193 nm, comprising a glass structure substantially free of oxygen defect sites, a hydrogen content ranging from 0.1 x 1016 molecules/cm3 to 1.0 x 1018 molecules/cm3, an SiH group content of less than 2 x 1017 molecules/cm3, and a hydroxyl group content ranging from 0.1 to 100 wt. ppm, said glass structure having a fictive temperature of less than 1070 °C. The aim of the invention is to allow a reliable prediction of the compacting behavior when using UV laser radiation with the applied wavelength on the basis of a measurement of the compacting behavior using a measured wavelength of 633 nm. This is achieved by an optical component design in which the component undergoes a laser-induced change in the refractive index in response to irradiation by means of a radiation with a wavelength of 193 nm using 5x109 pulses with a pulse width of 125 ns and a respective energy density of 500 µJ/cm2 at a pulse repetition frequency of 2000 Hz, said change totaling a first measured value M193nm when measured using the applied wavelength of 193 nm and totaling a second measured value M633nm when measured using a measured wavelength of 633 nm, wherein M193nm/M633nm

Abstract translation: 本发明涉及一种用于在ArF准分子激光光刻法使用具有193nm的波长使用的光合成的石英玻璃部件，用玻璃结构基本没有氧缺陷，在0.1×1016分子/立方厘米至1的范围内的氢含量 0×1018分子/厘米3，SiH基团的含量小于2×1017摩尔/厘米3，并且具有羟基的0.1重量和100ppm之间的范围内，其中所述玻璃结构的含量为少的假想温度 具有1070℃ 为了在633测量波长为使得能够与所使用的波长的紫外激光辐射使用时，压实行为的可靠预测从Kompaktierungsverhaltens的测量开始，该光学装置的结构，提出了，这是对照射的193纳米与5×10 9的波长的辐射 用的125毫微秒的脉冲宽度和各500μJ/ cm 2的能量密度和2000Hz的与折射率的激光诱导的变化的脉冲重复频率的脉冲进行反应，所述量在测量用的193nm的第一测量值M193nm和测量与633nm的测定波长使用波长 第二测量值M633nm的产率，其中：M193nm / M633nm <1.7。

公开(公告)号：WO2012021317A1

公开(公告)日：2012-02-16

申请号：PCT/US2011/046101

申请日：2011-08-01

Applicant: CORNING INCORPORATED ,  LEBLOND, Nicolas ,  TANDON, Pushkar ,  VEMURY, Srinivas

Inventor： LEBLOND, Nicolas ,  TANDON, Pushkar ,  VEMURY, Srinivas

IPC: C03B19/14 ,  C03B37/012 ,  C03B37/014 ,  C03B19/06

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B37/01282 ,  C03B37/01446

Abstract: One embodiment of the disclosure relates to a method of cleaning silica-based soot or an article made of silica-based soot, the method comprising the step of treating silica-based soot or the article made of silica-based soot with at least one of the following compounds: (i) a mixture of CO and C1 2 in a carrier gas such that the total concentration of CO and C1 2 in the mixture is greater than 10 % (by volume, in carrier gas) and the ratio of CO:C1 2 is between 0.25 and 5; (ii) CC1 4 in a carrier gas, such that concentration CC1 4 is greater than 1 % (by volume, in carrier gas). Preferably, the treatment by CC1 4 is performed at temperatures between 600 °C, and 850 °C. Preferably, the treatment with the CO and Cl mixture is performed at temperatures between 900 °C and 1200 °C. The carrier gas may be, for example, He, Ar, N 2 , or the combination thereof.

Abstract translation: 本公开的一个实施方案涉及一种清洁二氧化硅基烟灰或由二氧化硅基烟灰制成的制品的方法，所述方法包括以下步骤：用二氧化硅基烟灰或由二氧化硅基烟灰制成的制品， 以下化合物：（i）载气中的CO和C12的混合物，使得混合物中CO和C12的总浓度大于载气中的10体积％，CO:C12的比例为 介于0.25和5之间; （ii）载气中的CC14，使得浓度CC14大于1％（以体积计）在载气中。 优选地，通过CC14的处理在600℃和850℃之间的温度下进行。 优选地，用CO和Cl混合物的处理在900℃和1200℃之间的温度下进行。 载气可以是例如He，Ar，N 2或其组合。

公开(公告)号：WO2011147906A1

公开(公告)日：2011-12-01

申请号：PCT/EP2011/058624

申请日：2011-05-26

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  LEHMANN, Walter ,  KAYSER, Thomas ,  TROMMER, Martin ,  NASAROW, Christian

Inventor： LEHMANN, Walter ,  KAYSER, Thomas ,  TROMMER, Martin ,  NASAROW, Christian

IPC: C03B19/09 ,  C03B19/14 ,  C03C17/02

CPC classification number: C03B19/1492 ,  C03C17/004 ,  C03C17/02 ,  C03C21/003 ,  C03C23/0025 ,  C03C2217/213 ,  C03C2218/1525

Abstract: Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung eines Quarzglastiegels mit einer Innenschicht aus transparentem, blasenarmem und reinem Quarzglas mit langer Standzeit anzugeben. Diese Aufgabe gemäß der Erfindung durch ein Verfahren gelöst, das folgende Verfahrensschritte umfasst: (a) Bereitstellen eines eine Innenseite aufweisenden Tiegelbasiskörpers aus Quarzglas, (b) Erzeugen einer porösen SiO 2 -Sootschicht auf mindestens einer Teilfläche der Innenseite des Tiegelbasiskörpers durch Gasphasenabscheidung, Trocknen der porösen SiO 2 -Sootschicht zur Reduzierung des Hydroxylgruppengehalts und Sintern der Sootschicht zu der Innenschicht aus transparentem Quarzglas in einer wasserstoffarmen Atmosphäre, so dass sich in dem Quarzglas der Innenschicht ein Hydroxylgruppengehalt von weniger als 100 Gew.-ppm einstellt.

Abstract translation: 本发明的基本目的是提供一种具有透明石英玻璃blasenarmem的内层和纯具有使用寿命长制造石英玻璃坩埚的方法。 根据本发明通过包括以下步骤的方法解决了这个问题：（a）提供具有石英玻璃坩埚基体上的内侧，（b）关于坩埚基体的通过气相沉积在内部的至少一个部分区域产生多孔的SiO 2烟灰层，干燥多孔 二氧化硅烟灰层，以减少羟基和烧结煤烟层，以透明石英玻璃的内侧层中的贫氢气氛中，使得在内层的石英玻璃小于100重量ppm的羟基含量。

公开(公告)号：WO2011054574A1

公开(公告)日：2011-05-12

申请号：PCT/EP2010/063438

申请日：2010-09-14

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SCHUSTER, Anke ,  SOWA, Rene ,  TROMMER, Martin ,  PEPER, Udo

Inventor： SCHUSTER, Anke ,  SOWA, Rene ,  TROMMER, Martin ,  PEPER, Udo

IPC: C03B19/14 ,  C03B37/014

CPC classification number: C03B19/1492 ,  C03B37/01493 ,  Y10T428/22 ,  Y10T428/2918

Abstract: Bei einem bekannten Verfahren zur Herstellung eines Quarzglaszylinders wird durch Abscheiden von SiO 2 -Partikeln auf einer Zylindermantelfläche eines um seine Längsachse rotierenden Trägers, der eine Schicht aus Siliciumcarbid (SiC-Schicht) aufweist, ein poröses Sootrohr hergestellt, das zu dem Quarzglaszylinder gesintert wird. Um hiervon ausgehend einen Träger mit hoher Bruchfestigkeit anzugeben, der sich einerseits leicht entfernen lässt und von dem andererseits eine geringe Kontaminationsgefahr für den Sootkörper ausgeht, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass die SiC-Schicht vor dem Abscheiden der SiO 2 -Partikel bei hoher Temperatur in einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre behandelt wird, derart, dass durch Oxidation eine SiO 2 -Schutzschicht mit einer Dicke von mindestens 0,1 μm erzeugt wird.

Abstract translation: 在用于制造石英玻璃圆柱体公知的方法，多孔烟炱管是通过在绕具有碳化硅（SiC）层，其被烧结到石英玻璃圆柱体的层其纵向支撑件的气缸表面上沉积SiO 2个颗粒形成。 以指示与高压碎强度从该开始，其可以在一方面和另一方面容易地除去载体，所述烟灰体前进的污染的风险较低，本发明提出的SiO 2个颗粒在高温下的沉积之前在SiC层的含氧 具有的厚度至少为0.1微米的在SiO 2保护层是由氧化产生的气氛被处理这样。

公开(公告)号：WO2011039159A1

公开(公告)日：2011-04-07

申请号：PCT/EP2010/064317

申请日：2010-09-28

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. ,  KUEHN, Bodo

Inventor： KUEHN, Bodo

IPC: C03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03B23/20 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/42 ,  G02B5/10 ,  G03F7/708 ,  Y10T428/22 ,  Y10T428/24612

Abstract: Um ausgehend von einem bekannten Verfahren zur Herstellung eines Rohlings aus Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas (Glas) für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie, das einen zu verspiegelnden und beim bestimmungsgemäßen Einsatz des Spiegelsubstrats als hochbelastete Zone spezifizierten Oberflächenbereich aufweist, der eine Außenkontur hat, einen Rohling bereit zu stellen, der kostengünstig herstellbar ist und der dennoch hohen Anforderungen bezüglich Homogenität, Blasen- und Schlierenfreiheit genügt, wird eine Verfahrensweise vorgeschlagen, die folgende Verfahrensschritte umfasst: (a) Erzeugen eines Frontkörpers aus Titan-dotiertem Glas hoher Qualität und mit Abmessungen, die die Außenkontur mit Übermaß umschließen, (b) Erzeugen eines zylinderförmigen Stützkörpers aus Titan-dotiertem Glas, (c) Verbinden von Frontkörper und Stützkörper unter Bildung eines Verbundkörpers, und (d) Bearbeitung des Verbundkörpers zum Spiegelsubstrat-Rohling, wobei das Erzeugen des Frontkörpers einen Homogenisierungsprozess umfasst, der ein Verdrillen eines durch Flammenhydrolyse einer siliziumhaltigen Verbindung erhaltenen stangenförmigen Ausgangskörpers zu einem Frontkörperrohling umfasst, und dass der Stützkörper als monolithischer Glasblock mit geringerer Homogenität als der Frontkörper ausgebildet ist.

Abstract translation: 为了从用于制造由掺杂钛的高硅玻璃（玻璃），用于在EUV光刻中，它具有利用一个镜基板的空白公知的方法开始被mirrorized和打算使用的镜基板的指定为高负载区的表面积 的外轮廓具有提供一种可以经济地和关于满足从条纹仍要求高的均匀性，膀胱和自由地制造，过程中提出，下面的处理步骤的空白：（a）形成的高掺杂钛的玻璃的前体 质量和其与筛上，（b）中包围的外轮廓成形接合前体和支撑体上以形成复合体，而复合体的（d）中处理，以将镜基板ř钛掺杂玻璃的圆筒状支承体，（C）的尺寸 Ohling，其中所述前体的所述生成包括均质化处理，其包括加捻由含硅化合物棒状起始体的火焰水解反应前体坯而获得的信号，并且所述支撑体被形成为具有比前体的下部均匀性的单片玻璃块。