公开(公告)号：WO2015000777A1

公开(公告)日：2015-01-08

申请号：PCT/EP2014/063483

申请日：2014-06-26

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V. ,  CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： WESTERHOF, Roan, Marinus ,  HAGENAARS, Hubertus, Luberta ,  SCHOENHOFF, Ulrich ,  VAN ENGELEN, Adrianus, Josephus, Petrus

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70775 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70766 ,  G03F7/709

Abstract: There is provided a lithographic apparatus having a reference body (202) and a positioning system (200). The positioning system includes a main body (204), a reaction body (206), an actuator (208) and a controller (210). The main body is moveable relative to the reference body along a path in a first direction (+z) and a second direction (-z). The first direction is opposite to the second direction. The reaction body is moveable relative to the main body along a further path in the first direction and the second direction. The reaction body is moveably connected to the reference body so as to be moveable relative to the reference body in the first direction and the second direction. The controller is arranged to provide a first signal and a second signal to the actuator. The actuator is arranged between the main body and the reaction body.

Abstract translation: 提供了具有参考体（202）和定位系统（200）的光刻设备。 定位系统包括主体（204），反作用体（206），致动器（208）和控制器（210）。 主体相对于参考体沿第一方向（+ z）和第二方向（-z）的路径移动。 第一方向与第二方向相反。 反作用体可沿第一方向和第二方向沿另一路径相对主体移动。 反作用体可移动地连接到参考体，以便能够在第一方向和第二方向上相对于基准体移动。 控制器被布置成向致动器提供第一信号和第二信号。 致动器设置在主体和反作用体之间。

公开(公告)号：WO2012152520A1

公开(公告)日：2012-11-15

申请号：PCT/EP2012/056628

申请日：2012-04-12

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  HAUF, Markus ,  SCHOENHOFF, Ulrich

Inventor： HAUF, Markus ,  SCHOENHOFF, Ulrich

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70 ,  G03F7/70766 ,  G03F7/70825

Abstract: The invention relates to an arrangement for actuating an element in an optical system of a projection exposure apparatus, wherein the projection exposure apparatus has a carrying frame (110, 210, 310), comprising at least one actuator (101, 201, 301) for exerting controllable forces on the element (100, 200, 300), wherein the actuator (101, 201, 301) has a first actuator part (101a, 201a, 301a), which is coupled to the carrying frame (110, 210, 310) via at least one mechanical filter (140, 240, 340), and a second actuator part (101b, 201b, 301b), which is mechanically coupled directly to the carrying frame (110, 210, 310), and wherein the loading on the first actuator part (101a, 201a, 301a) is at least partly relieved by the second actuator part (101b, 201b, 301b) when forces are exerted on the element (100, 200, 300).

Abstract translation: 本发明涉及一种用于致动投影曝光装置的光学系统中的元件的装置，其中投影曝光装置具有一个承载框架（110,210,310），包括至少一个致动器（101,201,301），用于 在所述元件（100,200,300）上施加可控制的力，其中所述致动器（101,201,301）具有第一致动器部件（101a，201a，301a），所述第一致动器部件连接到所述承载框架 ）通过至少一个机械过滤器（140,240,340）和第二致动器部件（101b，201b，301b）直接机械连接到承载框架（110,210,310），并且其中装载在 当力施加在元件（100,200,300）上时，第一致动器部件（101a，201a，301a）至少部分地被第二致动器部件（101b，201b，301b）释放。

公开(公告)号：WO2016124394A1

公开(公告)日：2016-08-11

申请号：PCT/EP2016/051027

申请日：2016-01-19

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  SCHOENHOFF, Ulrich ,  BEKTAS, Eylem ,  HAUF, Markus

Inventor： SCHOENHOFF, Ulrich ,  BEKTAS, Eylem ,  HAUF, Markus

IPC: G03F7/20 ,  G02B7/02

CPC classification number: G03F7/70775 ,  G02B7/023 ,  G03F7/70825

Abstract: Die Erfindung betrifft Anordnungen zur Positionsmanipulation eines Elementes, insbesondere in einem optischen System. Eine erfindungsgemäße Anordnung weist wenigstens einen Aktor (22, 52, 72, 102a, 102b, 122a, 122b, 142a, 142b, 162a, 162b) je Freiheitsgrad der Positionsmanipulation zur Ausübung stellbarer Kräfte auf das Element (21, 51, 71, 101, 121, 141, 161), wenigstens einen Positionssensor (23, 53, 73, 103, 163a, 163b) je Freiheitsgrad der Positionsmanipulation zur Erzeugung jeweils eines für die Position des Elementes charakteristischen Sensorsignals, und wenigstens einen Positionsregler (27, 57, 77, 107), welcher in einem Positionsregelkreis eine von dem wenigstens einen Aktor zur Positionierung des Elementes auf das Element ausgeübte Kraft in Abhängigkeit von dem wenigstens einen Sensorsignal regelt, auf, wobei wenigstens ein Aktor und wenigstens ein Positionssensor auf einem gemeinsamen Modulrahmen (24, 54, 74, 104, 124, 144, 164) montiert sind, und wobei dieser Modulrahmen an einen Referenzrahmen (25, 55, 75, 105, 125, 145) mechanisch derart angebunden ist, dass für die Resonanzfrequenzen ( ω MR ) dieser Anbindung die Bedingung 0.5 · ω Β ≤ ω ΜR ≤ 2 ω Β erfüllt ist, wobei ω Β die Bandbreite des Positionsregelkreises bezeichnet.

Abstract translation: 本发明涉及一种组件中的光学系统来定位操纵元件，尤其如此。 根据本发明的装置包括至少一个致动器（22，52，72，102A，102B，122A，122B，142A，142B，162A，162B）的位置操作的自由（行使元件21，51，71，101上可调的力的每度， 121，141，161），至少一个位置传感器（23，53，73，103，163A，163B）的操作的位置，以产生元件的传感器信号和至少一个位置控制装置（27，57，77的位置的各自的特性的每个自由度， 107），其在一个位置控制电路的一个致动器为元件上的元件定位的一个响应施加至少电源控制至少一个传感器信号，其中，至少一个致动器和至少一个位置传感器的公共模块框架（24，54上， 74，104，124，144，164被安装），并且其中所述模块框架到参考框架（25，55，75，105，125，145）被机械地连接，使得Resonanzfreque 补体（ωMR）该连接的，条件0.5 *ωΒ≤ωIR≤2ωΒ被满足，其中ωΒ表示位置控制回路的带宽。

公开(公告)号：WO2022128869A1

公开(公告)日：2022-06-23

申请号：PCT/EP2021/085402

申请日：2021-12-13

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： SCHOENHOFF, Ulrich

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/64 ,  F16F15/03 ,  G02B7/00

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Dämpfungseinrichtung (1) zur Schwingungsdämpfung zwischen einem optischen Element (2) und einem Bezugskörper (3), aufweisend eine kinematische Baugruppe (5) mit einem Wirbelstromdämpfer (6), die mit einem ersten Verbindungsabschnitt (7) an dem optischen Element (2) und mit einem zweiten Verbindungsabschnitt (8) an dem Bezugskörper (3) befestigbar ist. Die kinematische Baugruppe (5) ist ausgebildet, um die Dämpfungswirkung des Wirbelstromdämpfers (6) zwischen den Verbindungsabschnitten (7, 8) mechanisch zu verstärken. Es ist vorgesehen, dass die kinematische Baugruppe (5) zur Verstärkung der Dämpfung zwischen den Verbindungsabschnitten (7, 8) eine Hebelkinematik ausbildet, wobei zumindest einer der Verbindungsabschnitte eine Gelenkverbindung (G1, G2) aufweist. Alternativ oder zusätzlich ist vorgesehen, dass die kinematische Baugruppe (5) zur Verstärkung der Dämpfung zwischen den Verbindungsabschnitten (7, 8) wenigstens eine Scherenkinematik ausbildet, wobei der Wirbelstromdämpfer (6) zentral innerhalb der Scherenkinematik angeordnet ist.