公开(公告)号：WO2023046870A1

公开(公告)日：2023-03-30

申请号：PCT/EP2022/076451

申请日：2022-09-22

申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES

发明人： TEYSSEDRE, Hubert ,  POSSEME, Nicolas ,  LANDIS, Stefan

IPC分类号： H01L21/308 ,  B81C1/00 ,  H01L21/266 ,  H01L21/311

摘要： L'invention concerne un procédé de fabrication d'un moule (1) pour nano-impression et le moule (1) associé, comprenant une fourniture d'un substrat (10) comprenant une couche (11), et au moins une implantation ionique configurée de façon à obtenir dans la couche (10) au moins une première portion (111) non implantée ou présentant une première implantation, au moins une deuxième portion (111) présentant une deuxième implantation, et une troisième portion (113) non implantée distincte de la première portion (111); après l'implantation, le procédé comprend une gravure de la couche (10) configurée de façon à présenter une vitesse de gravure différente entre au moins la deuxième portion (112) et la troisième portion (113), de façon à graver à travers des ouvertures (130a, 130b) d'un masque de gravure (13) une pluralité de motifs (114a, 114b) de différentes hauteurs dans la couche (11).

公开(公告)号：WO2020020903A1

公开(公告)日：2020-01-30

申请号：PCT/EP2019/069829

申请日：2019-07-23

申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES

发明人： TEYSSEDRE, Hubert ,  BRIANCEAU, Pierre ,  LANDIS, Stefan

IPC分类号： G03F7/00 ,  G02B3/04 ,  G02B3/00 ,  B81C99/00

摘要： La présente invention concerne un procédé de réalisation d'une structure présentant au moins un motif courbe,le procédé comprenant : - Fournir un substrat (2) présentant une face avant dont : - une partie est structurée par au moins une pluralité de reliefs, les reliefs de chaque pluralité définissant entre eux des espaces, et - une autre partie est exempte de reliefs, - Déposer une couche de base (5) d'un matériau tel qu'un polymère ou un verre, sur la face avant du substrat, au moins au droit des reliefs, et - Permettre au matériau de la couche de base de remplir au moins partiellement au moins un des espaces par déformation. La couche de base (5) est ainsi déformée de sorte que sa surface libre (50) présente au moins un motif (6) courbe.

公开(公告)号：WO2020120627A1

公开(公告)日：2020-06-18

申请号：PCT/EP2019/084754

申请日：2019-12-11

申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES

发明人： TEYSSEDRE, Hubert ,  LANDIS, Stefan ,  MAY, Michael

IPC分类号： B29C41/04 ,  B29C35/02 ,  B29C35/08 ,  B29C33/38 ,  B29C33/40 ,  B29C33/42 ,  G03F7/00 ,  B29C33/60 ,  B29K101/10 ,  B29K105/24

摘要： L'invention concerne un procédé de fabrication d'un moule de lithographie pour impression nanométrique, comprenant successivement: - un dépôt d'une couche (3) d'un matériau liquide polymérisable sur une surface de conformation (11) située sur une face d'un moule maitre, le dépôt comprenant un étalement du matériau par revêtement par centrifugation de sorte à atteindre un état de couverture de la couche sur toute la surface de conformation (11); - une polymérisation de la couche (3) tout en poursuivant la centrifugation.