公开(公告)号：WO2019197212A1

公开(公告)日：2019-10-17

申请号：PCT/EP2019/058260

申请日：2019-04-02

Applicant: EOS GMBH ELECTRO OPTICAL SYSTEMS

Inventor： ZEILINGER, Stefan ,  SHELLABEAR, Michael ,  MEHL, Sebastian ,  UNTERGEHRER, Wolfang

IPC: B22F3/105 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  B29C64/153 ,  B29C64/393 ,  B29C64/371 ,  B33Y50/02

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Herstellvorrichtung (a1) zur additiven Herstellung eines dreidimensionalen Objekts (a2) und ein entsprechendes Verfahren, wobei das Objekt hergestellt wird durch Aufbringen eines Aufbaumaterials (a15) Schicht auf Schicht und selektives Verfestigen des Aufbaumaterials (a15), insbesonderemittels Zufuhr von Strahlungsenergie,an Stellen (9) in jeder Schicht, die dem Querschnitt des Objekts in dieser Schicht zugeordnet sind, indem die Stellen (9) mit mindestens einem Einwirkbereich, insbesondere einem Strahlungseinwirkbereich eines Energiestrahlbündels (a22), abgetastet werden, wobei im Betriebein bewegbarer Gaseinlass (30) eine Referenzprozessstelle(9)und/oder eine der Referenzprozessstelle(9)zugeordnete Zielbeströmungszone (21) zur Beströmung mit dem Prozessgas anfährt, und das Prozessgas über einen stationären Gasauslass (31) abgeführt wird.

公开(公告)号：WO2019197213A1

公开(公告)日：2019-10-17

申请号：PCT/EP2019/058261

申请日：2019-04-02

Applicant: EOS GMBH ELECTRO OPTICAL SYSTEMS

Inventor： ZEILINGER, Stefan ,  UNTERGEHRER, Wolfgang

IPC: B22F3/105 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  B29C64/371

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Herstellvorrichtung (a1) zur additiven Herstellung eines dreidimensionalen Objekts (a2), wobei das Objekt hergestellt wird durch Aufbringen eines Aufbaumaterials (a15) Schicht auf Schicht und selektives Verfestigen des Aufbaumaterials, insbesondere mittels Zufuhr von Strahlungsenergie, an Stellen (a9) in jeder Schicht, die dem Querschnitt des Objekts in dieser Schicht zugeordnet sind, indem die Stellen (a9) mit mindestens einem Einwirk-bereich, insbesondere einem Strahlungseinwirkbereich eines Energiestrahlbündels (a22), abgetastet werden,wobei im Betrieb der bewegbare Gasauslass (32) einer Referenzprozessstelle (9) und/oder einer der Referenzprozessstelle zugeordneten Zielbeströmungszone des bewegbaren Gaseinlasses zur Beströmung mit dem Prozessgas Zielentlüftungszone (22) des bewegbaren Gasauslasses (32) zugeordndet wird.