Abstract:
Une installation industrielle (500) pour l'infiltration chimique en phase gazeuse de substrats poreux comprenant une chambre de réaction étanche (110), un circuit d'alimentation (400), un circuit d'évacuation (200) reliés à la chambre de réaction (110) et un échangeur thermique (210). L'installation comprend en outre : - un circuit de refroidissement accéléré (300) comprenant au moins une entrée (301a) en communication sélective avec la sortie de l'échangeur thermique (210), et une sortie (301b) en communication sélective avec le circuit d'alimentation (400), - des premiers moyens de connexion (2110; 2030) pour relier le circuit d'évacuation (200) à l'entrée de l'échangeur thermique (210), - des deuxièmes moyens de connexion (3010) pour relier directement ou indirectement l'entrée (301a) du circuit de refroidissement accéléré (300) à la sortie de l'échangeur thermique (210) lorsque la chambre de réaction (110) est alimentée avec ledit au moins un gaz de refroidissement.