公开(公告)号：WO2023274771A1

公开(公告)日：2023-01-05

申请号：PCT/EP2022/066735

申请日：2022-06-20

Applicant: JENOPTIK OPTICAL SYSTEMS GMBH

Inventor： PANITZ, Meik ,  RAUPACH, Lutz ,  TILKE, Martin ,  ZYBELL, Sabine

IPC: H01L21/3213 ,  H01L21/768 ,  B81C1/00396 ,  B81C1/00579 ,  B81C2201/0132 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/32139

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren (100) zum Herstellen einer Ätzmaske, wobei das Verfahren (100) einen Schritt (105) des Bereitstellens eines Substrates umfasst, sowie einen Schritt (110) des Aufbringens einer Metallschicht, wobei die Metallschicht wenigstens ein Übergangsmetall und/oder Aluminium umfasst oder aus einem solchen ausgebildet ist, einen Schritt (115) des Auftragens einer Maskierungsschicht, einen Schritt (120) des Strukturierens der Maskierungsschicht, wobei an wenigstens einem Prozessierungsbereich die Metallschicht freigelegt wird, einen Schritt (125) des Beschichtens des Substrats mit einer Tetrelschicht, die zumindest teilweise ein Tetrel aufweist, wobei sich an dem Prozessierungsbereich an einer Grenzfläche zwischen der Metallschicht und der Tetreischicht eine Interdiffusionszone zwischen dem Übergangsmetall oder Aluminium und dem Tetrel ausbildet, einem Schritt (130) des Abtragens der Maskierungsschicht und einen Schritt (135) des selektiven Ätzens der Metallschicht, wobei an wenigstens einem Ätzbereich, welcher von dem Prozessierungsbereich verschieden ist, das Substrat freigelegt wird und an dem Prozessierungsbereich die Metallschicht wenigstens teilweise erhalten bleibt.