公开(公告)号：WO2020254043A1

公开(公告)日：2020-12-24

申请号：PCT/EP2020/063590

申请日：2020-05-15

Applicant: PFEIFFER VACUUM

Inventor： DECORDE, Paul ,  GRENIER, Yannick

IPC: F04C23/00 ,  F04C25/02 ,  F04C18/12 ,  F04C18/16

Abstract: L'invention concerne une pompe à vide (1) primaire de type sèche comportant un dispositif d'injection (9) configuré pour distribuer un gaz de purge dans les étages de pompage (2a-2e), le dispositif d'injection (9) comportant : - un premier capteur de pression (12) agencé sur une portion commune (15) du distributeur (10), - un deuxième capteur de pression (13a-13e) agencé sur chaque branche (16a-16e) du distributeur (10), et - une unité de contrôle (14) configurée pour générer un signal de commande par modulation de largeur d'impulsions pour le contrôle des vannes de régulation (11a-11e) indépendamment les unes des autres en fonction des différences de mesure de pression entre le premier capteur de pression (12) et les deuxièmes capteurs de pression (13a-13e).

公开(公告)号：WO2020164877A1

公开(公告)日：2020-08-20

申请号：PCT/EP2020/051542

申请日：2020-01-22

Applicant: PFEIFFER VACUUM

Inventor： DECORDE, Paul ,  DENGREVILLE, Antoine ,  GODINAT, Pierrick ,  GRENIER, Yannick ,  NEEL, Thierry ,  LEMARQUAND, Yann

IPC: F04C18/12 ,  F04C23/00 ,  F04C25/02 ,  F04C29/00 ,  F04C29/04

Abstract: Pompe à vide (1) primaire de type sèche comportant un conduit formé dans le stator (2) dont un orifice d'entrée est destiné à être relié à au moins une source de gaz de purge et dont au moins un orifice de sortie communique avec le dernier étage de pompage (3e) communiquant avec le refoulement (5) et un dispositif d'injection d'un gaz de purge chauffé (15) comportant un dispositif de chauffage (24) configuré pour chauffer au moins en partie le gaz de purge injecté dans le conduit à une température supérieure à 40°C.

公开(公告)号：WO2020078689A1

公开(公告)日：2020-04-23

申请号：PCT/EP2019/076111

申请日：2019-09-26

Applicant: PFEIFFER VACUUM

Inventor： GRENIER, Yannick ,  DECORDE, Paul

IPC: F04C25/02 ,  F04C29/04 ,  F04C23/00

Abstract: L'invention concerne un procédé de contrôle de la température d'une pompe à vide (2) de type sèche soumise à des charges de pompage variables, dans lequel on contrôle la température de la pompe à vide (2) au moyen du au moins un élément refroid isseur (11a, 11b) couplé au stator (5) en fonction d'une consigne de température et d'une mesure de la température du stator (5), caractérisé en ce qu'on surveille si la valeur d'un paramètre représentatif de la charge de pompage choisi parmi un courant consommé ou une puissance consommée par la pompe à vide (2) est inférieure à un seuil de charge et, si la valeur du paramètre représentatif de la charge de pompage est inférieure au seuil de charge alors on augmente la consigne de température. L'invention concerne également une pompe à vide de type sèche et une installation.

公开(公告)号：WO2023072720A1

公开(公告)日：2023-05-04

申请号：PCT/EP2022/079199

申请日：2022-10-20

Applicant: PFEIFFER VACUUM

Inventor： DECORDE, Paul ,  GRENIER, Yannick ,  BARRIOZ, Béatrice

IPC: F04C18/12 ,  F04C25/02 ,  F04C29/04 ,  F04B53/08

Abstract: Dry vacuum pump (1) having a cooling device (10) configured to cool the stator (2), the cooling device (10) having a fluidic circuit (11) and at least one flow rate regulator (12) arranged in a regulation duct (15) of the fluidic circuit (11), the flow rate regulator (12) having an orifice plate (17) traversed by an orifice (26), and a flexible membrane (20) having a central opening (14) which is smaller than said orifice (26), the flexible membrane (20) being positioned upstream of the orifice plate (17) in the flow direction of the cooling fluid (f2).

公开(公告)号：WO2022078738A1

公开(公告)日：2022-04-21

申请号：PCT/EP2021/076405

申请日：2021-09-24

Applicant: PFEIFFER VACUUM

Inventor： DECORDE, Paul ,  SAIDI, Yacine

IPC: F04C23/00 ,  F04C25/02 ,  F04C28/28

Abstract: The present invention relates to a method for controlling an operating power of a vacuum pump, notably a vacuum pump that can comprise multiple pumping stages in series in which a gas to be pumped circulates between a suction and a discharge and also to a vacuum pump configured to be connected to a chamber in which gases are wanted to be pumped and that comprises a pressure sensor positioned at a discharge of the vacuum pump.