公开(公告)号：WO2015118095A1

公开(公告)日：2015-08-13

申请号：PCT/EP2015/052483

申请日：2015-02-06

Applicant: TRUMPF HUETTINGER SP. Z O.O.

Inventor： GIERALTOWSKI, Andrzej ,  KOLASINSKI, Piotr ,  LACH, Piotr ,  ZELECHOWSKI, Marcin

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32944

Abstract: In a method of detecting arcs in a plasma process which is supplied by a power supply (1) with an output quantity (Uout, Iout, Pout), wherein the output quantity (Uout, Iout, Pout) is compared with an arc detection threshold value (Iarc_thres, Uarc_thres) and an arc is detected if the output quantity (Uout, Iout, Pout) passes the arc detection threshold value (Iarc_thres, Uarc_thres), wherein the arc detection threshold value (Iarc_thres, Uarc_thres) is determined based on at least one set point (Iset, Uset, Pset) for an output quantity.

Abstract translation: 在由电源（1）提供的具有输出量（Uout，Iout，Pout）的等离子体处理中检测电弧的方法中，其中输出量（Uout，Iout，Pout）与电弧检测阈值 如果输出量（Uout，Iout，Pout）通过电弧检测阈值（Iarc_thres，Uarc_thres），则检测到电流值（Iarc_thres，Uarc_thres），并且电弧检测阈值（Iarc_thres，Uarc_thres） 至少一个设定点（Iset，Uset，Pset）用于输出数量。

公开(公告)号：WO2015118096A1

公开(公告)日：2015-08-13

申请号：PCT/EP2015/052490

申请日：2015-02-06

Applicant: TRUMPF HUETTINGER SP. Z O.O.

Inventor： GIERALTOWSKI, Andrzej ,  GRABOWSKI, Adam ,  LACH, Piotr ,  ZELECHOWSKI, Marcin

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32944 ,  G01R19/165 ,  H01J37/32128 ,  H01J37/32917 ,  H01J37/32926 ,  H01J37/32935

Abstract: A Method of monitoring the discharge in a plasma process comprises the steps: a. supplying a plasma process with a periodic power supply signal (71a); b. determining a first power supply signal waveform within a first time interval (Δt) within a first period of the power supply signal; c. determining a second power supply signal waveform (31, 51) within a second time interval (Δt) within a second period of the power supply signal, wherein the second time interval (Δt) is at a position in the second period which corresponds to the position of the first time interval (Δt) within the first period; d. comparing the second power supply signal waveform (31, 51) of the second time interval with the first power supply signal waveform of the first time interval or a reference signal waveform (50, 60), and determining a first comparison result; e. if the first comparison result corresponds to a given first comparison result, time shifting one of the second power supply signal waveform (31, 51) in the second time interval (Δt), the first power supply waveform in the first time interval (Δt) or the reference signal waveform (50, 60), and comparing the time shifted signal with one of the signal waveforms that were not time shifted, thereby obtaining a second comparison result.

Abstract translation: 一种监测等离子体工艺中的放电的方法包括以下步骤：a。 向等离子体处理提供周期性电源信号（71a）; 湾 在所述电源信号的第一周期内确定第一时间间隔（Δt）内的第一电源信号波形; C。 在所述电源信号的第二周期内，在第二时间间隔（Δt）内确定第二电源信号波形（31,51），其中所述第二时间间隔（Δt）在与所述第二时间间隔 在第一时段内的第一时间间隔（Δt）的位置; 天。 将第二时间间隔的第二电源信号波形（31,51）与第一时间间隔的第一电源信号波形或参考信号波形（50,60）进行比较，并确定第一比较结果; 即 如果第一比较结果对应于给定的第一比较结果，则在第二时间间隔（Δt）中时间移位第二电源信号波形（31,51）中的一个，第一时间间隔（Δt）中的第一电源波形 或参考信号波形（50,60），并且将时移信号与未被时移的信号波形之一进行比较，从而获得第二比较结果。