屈折率測定装置及び屈折率測定方法
    1.
    发明申请
    屈折率測定装置及び屈折率測定方法 审中-公开
    折射率测量装置和折射率测量方法

    公开(公告)号:WO2018043194A1

    公开(公告)日:2018-03-08

    申请号:PCT/JP2017/029871

    申请日:2017-08-22

    CPC classification number: G01N21/41

    Abstract: LED(3)は偏光方向が異なる複数の直線偏光成分を含む光を出射する。細長柱状の導波路部材(4)はLED(3)からの光を一端から入射し、表面プラズモン共鳴現象を発生させる金属薄膜(4B)が一部に形成された側面(4Aa,4Ab)で全反射させた後、他端から出射する。偏光板(6)は導波路部材(4)から出射された光における特定の方向の直線偏光成分を抽出する。選択部(7)は偏光板(6)で抽出される光の直線偏光成分の偏光方向を選択する。受光部(8)は偏光板(6)で抽出された光の直線偏光成分の強度を検出する。測定部(10)は、受光部(8)で検出された光強度に基づいて、試料(12)の屈折率を測定する。導波路部材(4)には入射した光に含まれる複数の直線偏光成分のいずれかがP偏光となり、P偏光に対する応答がそれぞれ異なる平面状の複数の側面(4Aa,4Ab)が形成されている。

    Abstract translation: LED(3)发射包括具有不同偏振方向的多个线性偏振分量的光。 细长的圆柱波导部件(4)是从(3)从一个端部,在金属薄膜产生表面等离子体共振(4B)上形成在所有部分侧(4AA,4AB)的LED的入射光 被反射后,它从另一端发射出去。 偏振片(6)提取从波导部件(4)射出的光中的特定方向的线偏振光分量。 选择器(7)选择由偏振器(6)提取的光的线偏振分量的偏振方向。 受光部(8)检测由偏光板(6)提取的光的直线偏光成分的强度。 测量单元(10)基于由光接收单元(8)检测到的光强度来测量样本(12)的折射率。 任何在包含在光入射到波导部件(4)的多个直线偏振光分量中的变为P偏振光,将多个以P偏振光的平面的不同响应的侧表面的,分别为(4AA,4AB)形成 。

    一种SPR检测系统及方法
    2.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2017128823A1

    公开(公告)日:2017-08-03

    申请号:PCT/CN2016/107235

    申请日:2016-11-25

    Applicant: 深圳大学

    CPC classification number: G01N21/41

    Abstract: 一种SPR检测系统及方法,该系统利用探测光路形成了包含入射角信息和波长信息的探测图像。测试时,首先进行全谱扫描,获得样品的共振波长。然后通过不断追踪共振波长进行局部光谱扫描,并且根据具体情况控制每个扫描周期的扫描点数缩短扫描时间,进而实时地获得样品的共振波长。当样品折射率发生变化时,其对应的共振波长也发生变化,通过获得共振波长的变化,以此推算出样品的折射率变化量,此即波长调制SPR快速检测。所采用的是局部扫描,并且每个局部扫描周期扫描时间可控,在保证灵敏度的条件下,提高了表面等离子体共振系统的检测速度,实现了快速检测。

    ROW DIVISION OPTICAL MODULE AND ELECTRONIC KEYBOARD USING SAME
    3.
    发明申请
    ROW DIVISION OPTICAL MODULE AND ELECTRONIC KEYBOARD USING SAME 审中-公开
    行分区光学模块和电子键盘使用相同

    公开(公告)号:WO2016032176A3

    公开(公告)日:2017-05-18

    申请号:PCT/KR2015008789

    申请日:2015-08-22

    Applicant: LEE MOON KEY

    Inventor: LEE MOON KEY

    Abstract: The present invention relates to an electronic keyboard using a camera, comprising: a keyboard to which a retro-reflection film is attached; a light source for emitting light at the retro-reflection film; and a camera provided beside the light source so as to photograph the light of the light source retro-reflected from the retro-reflection film, wherein an image photographed by the camera is analyzed so as to track the location of the reflected light source such that a pressed state of the keyboard is discovered, and thus the sound of a musical instrument corresponding to the pressed state is outputted.

    Abstract translation: 本发明涉及一种使用照相机的电子键盘,包括:附接有回射膜的键盘; 用于在回射膜处发射光的光源; 以及设置在光源旁边的照相机,以便对从回归反射膜回复反射的光源的光进行拍摄,其中分析由照相机拍摄的图像以跟踪反射光源的位置,使得 发现键盘的按下状态,从而输出与按下状态对应的乐器的声音。

    標的細胞の識別方法、及び標的細胞識別装置
    4.
    发明申请
    標的細胞の識別方法、及び標的細胞識別装置 审中-公开
    鉴定目标细胞和目标细胞鉴定装置的方法

    公开(公告)号:WO2017057077A1

    公开(公告)日:2017-04-06

    申请号:PCT/JP2016/077556

    申请日:2016-09-16

    Inventor: 松原 兼太

    CPC classification number: G01N21/27 G01N21/41 G01N33/48 G01N33/49

    Abstract: ロバスト、かつハイスループットである標的細胞の識別方法、及び標的細胞識別装置を提供する。標的細胞の識別方法は、検体に複数の異なる波長の光を照射し、検体に対する複数の位相差像を取得する画像取得工程と、複数の異なる波長の光に対する吸収係数の差に基づいて検体から複数の標的細胞候補を選択する選択工程と、複数の位相差像に基づいて各標的細胞候補における中心部と周辺部との輝度比を取得する輝度比取得工程と、輝度比に基づいて複数の標的細胞候補から標的細胞と非標的細胞とを選別する選別工程と、を有する。

    Abstract translation: 提供了用于识别目标小区和目标小区识别设备的鲁棒且高吞吐量的方法。 用于识别目标单元的方法包括:图像获取步骤,用于用具有不同波长的多个光照射样本,从而获取所述样本的多个相位图像; 选择步骤,根据与具有不同波长的光的吸收系数的差异,从样本中选择目标单元的多个候选; 亮度比取得步骤,根据所述相位差图像,获取所述目标单元的每个候选中的中心部的亮度与所述周边部的亮度的比; 以及分类步骤,用于根据亮度比从目标单元的候选中的非目标单元排序目标单元。

    成形型、光学素子、及び光学素子の製造方法
    5.
    发明申请
    成形型、光学素子、及び光学素子の製造方法 审中-公开
    成型模具,光学元件和生产光学元件的方法

    公开(公告)号:WO2016208509A1

    公开(公告)日:2016-12-29

    申请号:PCT/JP2016/068117

    申请日:2016-06-17

    Abstract: 表面プラズモン共鳴を生じさせる金属膜表面の平均粗さよりも確かな基準に基づいて作製され光学素子のS/N比を向上させることができる成形型を提供する。成形型40は、固定金型41と可動金型42とを備える。固定金型41のコア部51の先端部には成形面51tが設けられている。成形面51tのSpc値が100〔1/mm〕以下である場合、成形面51tを転写して得た基材21の計測対象側の表面21aの状態を、この表面21a上に形成される金属膜22での散乱光の発生を適度に抑制できる程度に滑らかにできる。これにより、表面プラズモン電界増強蛍光分光法を利用した計測におけるS/N比を向上させることができる。逆に、成形面51tのSpc値が30〔1/mm〕以上である場合、成形面51tの加工が比較的容易になり、信号レベルを上げるためのプラズモン共鳴角の検出が容易になる。

    Abstract translation: 提供一种成形模具,其基于比产生表面等离子体共振的金属膜表面的平均粗糙度更可靠的标准制造,并且可以提高光学元件的信噪比。 成形模具40包括固定模具41和可移动模具42.成形表面51t设置在固定模具41的芯部51的顶端部分。如果成形表面51t的Spc值为100(1 / mm)以下,通过转印成形面51t得到的基材的测量侧的表面21a的状态可以平滑化,使得在形成于所述成形表面51t上的金属膜22中产生散射光的程度 表面21a可以被适当地控制。 结果,可以使用表面等离子体场增强荧光光谱法来提高测量中的信噪比。 相反,如果成形表面51t的Spc值为30(1 / mm)或更大,则成形表面51t的加工变得相对容易,并且容易检测等离子体共振角以增加信号电平。

    光学特性検出光学系、測定プローブおよび光学特性検出装置
    6.
    发明申请
    光学特性検出光学系、測定プローブおよび光学特性検出装置 审中-公开
    光学特性检测光学系统,测量探头和光学特性检测装置

    公开(公告)号:WO2016194061A1

    公开(公告)日:2016-12-08

    申请号:PCT/JP2015/065612

    申请日:2015-05-29

    CPC classification number: G01N21/41

    Abstract: 装置の構成を簡略化することができる光学特性検出光学系、測定プローブおよび光学特性検出装置を提供する。光学特性検出光学系は、所定波長の光を出射する複数の発光部を有する発光部材3と、所定の屈折率の部材を用いて形成され、被検物と接触する被検面を有する検出部6と、複数の発光部311の各々から出射された光を略平行光に変換し、この略平行光を検出面621において複数の入射角によって離散的に入射させる第1光学部材4と、検出部6からの光を集光する第2光学部材7と、第2光学部材7が集光した光を受光する受光部材8と、を備える。

    Abstract translation: 提供能够简化装置结构的光学特性检测光学系统,测量探针和光学特性检测装置。 光学特性检测光学系统设置有具有多个用于发射规定波长的光的发光单元的发光部件3,使用具有规定折射率的部件形成的检测部6, 与测试对象接触的表面;第一光学构件4,其将从多个发光单元311中的每一个发射的光转换成基本上准直的光,并使基本上准直的光以多个角度离散地撞击检测表面621; 用于会聚来自检测单元6的光的第二光学构件7和用于接收由第二光学构件7会聚的光的光接收构件8。

    박막의 두께 측정방법
    7.
    发明申请
    박막의 두께 측정방법 审中-公开
    测量薄膜厚度的方法

    公开(公告)号:WO2016171397A1

    公开(公告)日:2016-10-27

    申请号:PCT/KR2016/002801

    申请日:2016-03-21

    CPC classification number: G01B11/06 G01N21/41 G01N21/55 G01N21/84

    Abstract: 본 발명은 박막의 두께 측정방법에 관한 것으로서, 반사도 획득단계와, 굴절률 가정단계와, 변환단계와, 오차 확인단계와, 위상 추출단계와, 위상 복원단계와, 두께 계산단계를 포함한다. 반사도 획득단계는 박막의 광강도 신호를 획득하고, 광강도 신호를 통해 박막에 대한 반사도를 획득한다. 굴절률 가정단계는 공기의 굴절률 및 박막의 굴절률은 실수로, 박막이 형성된 기판의 굴절률은 복소수로 가정한다. 변환단계는 반사도를 정규반사도로 변환한다. 오차 확인단계는 변환단계에서 변환된 정규반사도의 최대값과 제1기준값의 차이인 제1차이값 또는 변환단계에서 변환된 정규반사도의 최소값과 제2기준값의 차이인 제2차이값이 미리 정해진 오차범위 이내인지 확인한다. 위상 추출단계는 제1차이값 또는 제2차이값이 오차범위 이내인 경우, 위상을 추출한다. 위상 복원단계는 위상 추출단계에서 추출된 위상을 복원한다. 두께 계산단계는 위상 복원단계에서 복원된 위상으로부터 박막의 두께를 계산한다.

    Abstract translation: 薄膜厚度测定方法技术领域本发明涉及薄膜厚度测定方法,包括反射率获取步骤,折射率假设步骤,转换步骤,误差校正步骤,相位提取步骤,相位恢复步骤和厚度计算步骤 。 反射率获取步骤获取薄膜的光强度信号,并且通过光强度信号获取薄膜的反射率。 折射率假设步骤将空气的折射率和薄膜的折射率设为实数,并且将薄膜形成的基板的折射率设为复数。 转换步骤将反射率转换为正常反射率。 错误检查步骤检查作为转换步骤中转换的正常反射率的最大值与第一参考值之间的差值的第一差分值或作为第一参考值的最小值之间的差的第二差值 在转换步骤中转换的正常反射率和第二参考值落在预设误差范围内。 当第一差值或第二差值落在误差范围内时,相位提取步骤提取相位。 相位恢复步骤恢复在相位提取步骤中提取的相位。 厚度计算步骤从相位恢复步骤中恢复的相位计算薄膜的厚度。

    球状酸化亜鉛粒子、その製造方法及びそれを用いたプラズモンセンサーチップ
    8.
    发明申请
    球状酸化亜鉛粒子、その製造方法及びそれを用いたプラズモンセンサーチップ 审中-公开
    球形氧化锌颗粒,其制造方法和使用其的PLASMON传感器芯片

    公开(公告)号:WO2016143629A1

    公开(公告)日:2016-09-15

    申请号:PCT/JP2016/056405

    申请日:2016-03-02

    Abstract:  課題は、特定範囲内の粒子径を有し単分散性に優れたプラズモン共鳴強度の高い球状酸化亜鉛粒子を提供することである。また、その製造方法及びそれを用いた感度が高く測定時の角度依存性の少ないプラズモンセンサーチップを提供することである。 当該球状酸化亜鉛粒子は、ガリウム(Ga)、ユーロピウム(Eu)、セリウム(Ce)、プラセオジム(Pr)、サマリウム(Sm)、ガドリニウム(Gd)、テルビウム(Tb)、ニオブ(Nd)及びイッテルビウム(Yb)からなる群より選ばれる金属元素がドープされ、平均粒子径が50~5000nmの範囲内であり、粒子径分布の変動係数が1.0~10%の範囲内である。

    Abstract translation: 本发明解决了提供粒径在特定范围内的球状氧化锌颗粒,具有优异的单分散性,并且具有高等离子体共振强度的问题。 还提供了制造球形氧化锌颗粒的方法和使用球形氧化锌颗粒获得的等离子体激元传感器芯片,该芯片具有高灵敏度并且在测量期间角度依赖性降低。 球状氧化锌颗粒已经掺杂了一种或多种选自镓(Ga),铕(Eu),铈(Ce),镨(Pr),钐(Sm),钆(Gd), 铽(Tb),铌(Nd)和镱(Yb)的平均粒径在50〜500nm的范围内,粒径分布的变异系数在1.0〜10%的范围内。

    光学測定装置及び光学測定方法
    9.
    发明申请
    光学測定装置及び光学測定方法 审中-公开
    光学测量装置和光学测量方法

    公开(公告)号:WO2016111363A1

    公开(公告)日:2016-07-14

    申请号:PCT/JP2016/050549

    申请日:2016-01-08

    CPC classification number: G01N21/41 G01N25/00

    Abstract:  簡易な構成で光ノイズを抑制して信号対雑音比の高い光学測定を実現する。光学測定装置は、試料を励起するポンプ光を出力する第1光源と、プローブ光を出力する第2光源と、前記ポンプ光と前記プローブ光を試料に導く光学系と、前記ポンプ光により励起された前記試料を透過したプローブ信号光を、当該プローブ信号光の径方向に沿って第1セグメントの光成分と第2セグメントの光成分に空間的に分離する光学素子と、前記第1セグメントの光成分と、前記第2セグメントの光成分の差分を検出するバランス検出器と、を有する。

    Abstract translation: 采用简单的结构,本发明抑制光噪声并实现具有高信噪比的光学测量。 光学测量装置设置有用于输出用于激发样品的泵浦光的第一光源,用于输出探测光的第二光源,用于引导泵浦光并将光探测到样品的光学系统,用于空间分裂的光学元件 已经通过泵浦光激发的样品的探测信号光沿着探测信号光的径向进入第一分段光学部件和第二分段光学部件,以及平衡检测器,用于检测第一分束光学 元件和第二段光学元件。

    OPTICAL TRANSMISSION/REFLECTION MODE IN-SITU DEPOSITION RATE CONTROL FOR ICE FABRICATION
    10.
    发明申请
    OPTICAL TRANSMISSION/REFLECTION MODE IN-SITU DEPOSITION RATE CONTROL FOR ICE FABRICATION 审中-公开
    用于制冰的光传输/反射模式现场存储速率控制

    公开(公告)号:WO2015171149A1

    公开(公告)日:2015-11-12

    申请号:PCT/US2014/037277

    申请日:2014-05-08

    Abstract: Systems and methods of controlling a deposition rate during thin-film fabrication are provided. A system as provided may include a chamber, a material source contained within the chamber, an electrical component to activate the material source, a substrate holder to support the multilayer stack and at least one witness sample. The system may further include a measurement device and a computational unit. The material source provides a layer of material to the multilayer stack and to the witness sample at a deposition rate controlled at least partially by the electrical component and based on a correction value obtained in real-time by the computational unit. In some embodiments, the correction value is based on a measured value provided by the measurement device and a computed value provided by the computational unit according to a model.

    Abstract translation: 提供了在薄膜制造期间控制沉积速率的系统和方法。 所提供的系统可以包括腔室,容纳在腔室内的材料源,用于激活材料源的电气部件,用于支撑多层叠层的衬底保持器和至少一个见证样品。 该系统还可以包括测量装置和计算单元。 材料源以至少部分地由电气部件控制的沉积速率并且基于由计算单元实时获得的校正值,向多层叠层和见证样品提供一层材料。 在一些实施例中,校正值基于由测量装置提供的测量值和由计算单元根据模型提供的计算值。

Patent Agency Ranking