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公开(公告)号：WO2019071669A1
公开(公告)日：2019-04-18
申请号：PCT/CN2017/109106
申请日：2017-11-02
申请人： 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
摘要： 本发明提供一种蒸镀用 UV 前处理设备，包括：壳体，所述壳体内部具有固化腔室；所述壳体的一端设置有进料口，所述壳体的相对另一端设置有出料口； UV光源，设置于所述固化腔室内部；其中，所述固化腔室内壁设置有吸光层。
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公开(公告)号：WO2018000491A1
公开(公告)日：2018-01-04
申请号：PCT/CN2016/091812
申请日：2016-07-27
申请人： 武汉华星光电技术有限公司
IPC分类号： G02F1/1335 , G02F1/1362
CPC分类号： G02F1/133512 , G02B5/201 , G02F1/133516 , G02F2202/104 , G03F1/00 , G03F1/32 , G03F1/50 , G03F7/0007 , G03F7/30
摘要： 一种黑色矩阵光罩（43）、制备黑色矩阵（41）的方法及其应用。该黑色矩阵光罩（43）沿所述黑色矩阵光罩（43）上的黑色矩阵图案（44）的边缘涂有具有特定穿透率的遮光层（45）。还提供了制备黑色矩阵（41）、彩色滤光片、阵列基板、液晶显示装置的方法。该制备黑色矩阵（41）的方法包括：步骤100、使用所述黑色矩阵光罩（43）对基板（42）上的黑色矩阵材料层（40）进行曝光（100）；步骤200、对曝光后的黑色矩阵材料层（40）进行显影（200）；步骤300、对显影后的黑色矩阵材料层（40）进行烘烤，最终在所述基板（42）上形成黑色矩阵（41）（300）。黑色矩阵光罩（43）以及制备黑色矩阵（41）、彩色滤光片、阵列基板、液晶显示装置的方法，能够使得黑色矩阵（41）锥角变高，有助于提升产品开口率。
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公开(公告)号：WO2016114455A1
公开(公告)日：2016-07-21
申请号：PCT/KR2015/005768
申请日：2015-06-09
申请人： 한국표준과학연구원
发明人： 유은아
摘要： 본 발명에 따른 포토리소그래피 방법은 a)기판상 D=m*(λ/2n) (D=포토레지스트 막의 두께， n=포토레지스트의 굴절률， λ=노광시 조사되는 광의 파장， m= 1이상의 자연수)을 만족하는 포토레지스트 막을 형성하는 단계;및 b)투명 기재 및 투명 기재의 광의 출사면에 접하여 형성된 평판형 금속 닷 (plate-type metal dot)을 포함하는 광 마스크를 이용하여, 포토레지스트 막을 노광하고，노광된 포토레지스트 막을 현상하여，고리 형상의 포토레지스트 패턴을 제조하는 단계;를 포함한다.
摘要翻译： 根据本发明的光刻方法包括以下步骤：a）在基板上形成光致抗蚀剂膜，其满足D = m *（λ/ 2n）（D =光致抗蚀剂膜的厚度，n =折射率 光致抗蚀剂，λ=曝光时照射的光的波长，m = 1以上的自然数）。 以及b）通过使用包括透明基底的光掩模和与透明基底的发光表面接触的板状金属点来制造环状光致抗蚀剂图案，以将光致抗蚀剂膜曝光以曝光曝光的光致抗蚀剂膜 。
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公开(公告)号：WO2016008182A1
公开(公告)日：2016-01-21
申请号：PCT/CN2014/083742
申请日：2014-08-05
申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
IPC分类号： G03F1/00
CPC分类号： H01L27/1288 , G02F1/1362 , G02F1/136286 , G02F2201/123 , G03F1/00 , G03F1/38 , H01L27/1248
摘要： 一种掩膜板及对应的阵列基板制作方法和阵列基板，应用于液晶显示技术领域，该掩膜板包括不透光区域（5c）和透光区域，不透光区域（5c）包括中间竖直主干、中间水平主干及从中间竖直主干和中间水平主干延伸出的分支，中间竖直主干与中间水平主干分别与其分支形成一定夹角；透光区域包括设在分支之间的第一透光部分（5d），在第一透光部分（5d）上设置有光干涉单元，该光干涉单元用以将具有第一光强的光处理为具有第二光强的光，其中第一光强大于第二光强，第二透光部分（7a）用于将第一光强的光引入以形成对应阵列基板上的接触孔（7），上述设置提高了像素单元的开口率以及液晶面板的穿透率。
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公开(公告)号：WO2015197023A1
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：PCT/CN2015/082523
申请日：2015-06-26
申请人： 无锡华润上华科技有限公司
发明人： 姚振海
CPC分类号： G03F7/70633 , G03F1/00 , G03F1/38 , G03F7/70775 , G03F9/7003 , G03F9/7019 , G03F9/7046 , G03F9/7069
摘要： 提供了一种步进式光刻机对位监控方法，包括：提供具有多个视场的测试版，基于每个视场分别得出一组套准值（S1）；根据每个视场的套准值分别计算一组补偿量（S2）；及将产品的对位补偿值与每一个视场的每组补偿量进行比较，选择与预估对位补偿值较接近的一个视场的一组补偿量作为产品对位补偿值，利用产品对位补偿值对该产品进行对位补偿（S3）。
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公开(公告)号：WO2015054905A1
公开(公告)日：2015-04-23
申请号：PCT/CN2013/085507
申请日：2013-10-18
申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
IPC分类号： G02F1/1339 , G03F1/00 , G03F1/38
CPC分类号： G03F7/16 , G02F1/1303 , G02F1/1339 , G02F2202/28 , G03F1/00 , G03F1/38 , G03F1/42 , G03F1/44 , G03F7/20 , G03F7/26
摘要： 一种固化框胶用遮光罩的制作方法，包括以下步骤：步骤1、提供一透明基板（20）；步骤2、在透明基板（20）上依次形成金属层（22）及光阻层（24）；步骤3、在光阻层（24）的边缘位置进行曝光，以形成检测标记（242）；步骤4、采用边曝光方式，按照预定路径对光阻层（24）进行曝光，所述预定路径对应液晶显示面板的框胶预设路径；步骤5、去除被曝光的光阻层（24），以露出金属层（22）；步骤6、对露出的金属层（22）进行蚀刻，并去除未曝光的光阻层（24）；步骤7、在金属层（22）与透明基板（20）上形成透明保护层（26）。通过边曝光方式实现对光阻层的曝光，不需要特定的掩模板，有效减少掩模板的预备量，降低生产材料成本。
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公开(公告)号：WO2013101133A1
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：PCT/US2011/067986
申请日：2011-12-29
CPC分类号： G06F17/5068 , G03F1/00 , G03F1/68 , G03F1/70
摘要： Photolithography mask synthesis is disclosed for spacer patterning masks. In one example, backbone features are extracted from a target layout of a mask design. A connectivity graph is generated based on the target layout in which lines of the backbone features are represented as nodes on the connectivity graph. The nodes are connected based on spacer patterning process limitations and the connections are assigned to sets. A backbone mask layout is then generated based on one of the sets of nodes.
摘要翻译： 公开了用于间隔物图案掩模的光刻掩模合成。 在一个示例中，从掩模设计的目标布局中提取主干特征。 基于目标布局生成连通性图，其中主干特征的行表示为连接图上的节点。 基于间隔图案化过程限制连接节点，并将连接分配给集合。 然后基于一组节点生成骨干掩模布局。
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公开(公告)号：WO2011089772A1
公开(公告)日：2011-07-28
申请号：PCT/JP2010/069338
申请日：2010-10-29
IPC分类号： G03F7/20 , G02F1/1337 , G03F1/08
CPC分类号： G02F1/133788 , G02F1/1303 , G03F1/00 , G03F1/38 , G03F1/50
摘要： 本発明は、スキャン露光時にスキャンが一時的に停止したとしても継ぎ部において表示ムラが視認されるのを抑制することができる露光装置、液晶表示装置及びその製造方法を提供する。本発明は、基板上に設けられた光配向膜を露光するための露光装置であって、露光装置は、光源及びフォトマスクを備え、光源又は基板を走査しながらフォトマスクを介して光配向膜を露光し、光源又は基板が走査される方向を走査方向、走査方向に対して垂直な方向を垂直方向とすると、フォトマスクは、第１領域と、第１領域に垂直方向に隣接する第２領域とを有し、第１領域は、第１遮光部内に複数の第１透光部を有し、複数の第１透光部は、垂直方向に配列され、第２領域は、第２遮光部内に複数の第２透光部を有し、複数の第２透光部は、複数の第１透光部よりも小さく、複数の第２透光部は、垂直方向に配列されるとともに、走査方向に離散的に分散されている露光装置である。
摘要翻译： 公开了一种曝光装置，即使在扫描曝光期间暂时停止扫描，也能够抑制在关节部分观看显示不均匀性的事实。 还公开了液晶显示装置和液晶显示装置的制造方法。 为了曝光设置在基板上的光取向膜，设置曝光装置。 曝光装置设置有光源和光掩模，并且在光掩模之间用光掩模扫描光源或基板时曝光光取向膜。 当将光源或基板扫描的方向表示为扫描方向，并且垂直于扫描方向的方向表示为垂直方向时，光掩模具有第一区域和邻近第一区域的第二区域 在垂直方向。 第一区域在第一遮光部具有多个第一透光部，第一透光部在垂直方向配置。 第二区域在第二遮光部具有多个第二透光部，每个第二透光部小于第一透光部的每一个，第二透光部配置在垂直方向 方向离散地分布在扫描方向上。
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公开(公告)号：WO2009122529A1
公开(公告)日：2009-10-08
申请号：PCT/JP2008/056402
申请日：2008-03-31
IPC分类号： G03F9/00 , G03F1/08 , H01L21/027
CPC分类号： G03F1/00 , G03F9/7011 , G03F9/7076 , G03F9/7088 , H01L21/67092 , H01L21/681
摘要： 面状体２のアライメント装置１０は、面状体２に設けられた非回転対称形状のアライメントマークＭの画像を撮像する撮像部１１と、その画像からアライメントマークＭの位置を検出する位置検出部１３と、検出されたアライメントマークＭの位置に基づいて所定の基準位置と面状体Ｍとの相対位置を調整する位置調整部１４と、画像に撮像されたアライメントマークＭの非回転対称性に基づいて面状体２の向きを検出する方向検出部１４を備える。
摘要翻译： 用于平面元件（2）的对准装置（10）包括成像部（11），用于对设置在平面元件（2）上的非旋转对称形状的对准标记M的图像进行成像，位置检测部（12） ）检测来自图像的对准标记M的位置，位置调整部（13），根据对准标记M的检测位置来调整指定基准位置和平面元件（2）的相对位置， 以及根据在图像上成像的对准标记M的非旋转对称性来检测平面元件（2）的取向的取向检测部（14）。
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公开(公告)号：WO2009037965A1
公开(公告)日：2009-03-26
申请号：PCT/JP2008/065708
申请日：2008-09-02
IPC分类号： G02F1/1343 , G02F1/1337 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70791 , G02F1/133707 , G02F1/1362 , G03F1/00 , G03F1/50 , G03F7/70283
摘要： 本発明の製造方法は、マルチ絵素駆動方式の液晶表示パネルの製造に適用される。本発明の製造方法では、液晶表示パネルを構成するアクティブマトリクス基板および対向基板を製造するために行われるフォトリソグラフィの工程において、分割露光方式で露光が行われる。この分割露光方式の露光工程において、第１のフォトマスク（Ｍ１）を使用する第１の露光工程と第２のフォトマスク（Ｍ２）を使用する第２の露光工程とで露光領域が重なっている共有領域（ｍ１・ｍ２）では、副絵素（１７ａ・１７ｂ）単位で露光のパターンが決められており、各露光工程で、それぞれ分担して各副絵素のパターンが形成される。これにより、マルチ絵素駆動方式の液晶表示パネルを分割露光方式で製造する場合において、表示品位の向上した液晶表示パネルを得ることができる。
摘要翻译： 本发明的制造方法适用于多像素驱动液晶显示面板的制造。制造方法包括进行重复曝光的光刻工序，制造有源矩阵基板和对置基板，二者均构成 液晶显示面板。 步进重复曝光步骤具有使用第一光掩模（M1）的第一曝光步骤和使用第二光掩模（M2）的第二曝光步骤（M2）。 对于第一曝光步骤和第二曝光步骤的曝光区域彼此重叠的公共区域（m1·m2）的子像素元素（17a·17b）单位确定曝光图案，从而每个子像素 在每个曝光步骤中分别形成图案。 由此，通过逐步重复曝光来制造具有改善的显示清晰度的多像素驱动液晶显示面板。
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