VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON LEITERBAHNSTRUKTUREN AUF EINEM NICHTLEITENDEN TRÄGERSUBSTRAT

    公开(公告)号:WO2021190690A1

    公开(公告)日:2021-09-30

    申请号:PCT/DE2021/100199

    申请日:2021-03-01

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Leiterbahnstrukturen auf einem nichtleitenden Trägersubstrat (1). In einem ersten Verfahrensschritt wird in das Trägersubstrat (1) an den gegenüberliegenden Außenseiten auf die jeweilige Basisschicht (2) eine ätzresistente polymere Beschichtung (5) als Galvanoresist aufgebracht. Auf einen von der ätzresistenten Beschichtung (5) befreiten Abschnitt auf die Basisschicht (2) wird eine elektrische Verstärkungsschicht (8) entsprechend der Leiterbahnstruktur aufgebracht, die zugleich im Bereich möglicher Durchbrechungen (3) die gegenüberliegenden Basisschichten als Durchkontaktierung (7) elektrisch leitfähig verbindet. Danach wird unmittelbar angrenzend zu der Verstärkungsschicht (6) der Leiterbahnstruktur mittels einer Laserstrahlung eine linienförmige Ausnehmung (9) in die Resistbeschichtung (5) und die darunter liegende Basisschicht (2) eingebracht und der abzutragende Bereich gegenüber der benachbarten Verstärkungsschicht (6) der Leiterbahnstrukturen thermisch isoliert. Dieser wird anschließend gezielt durch eine Wärmequelle erwärmt bis die Adhäsion der Basisschicht (2) auf dem Trägersubstrat (1) wesentlich verringert ist, um die Basisschicht (2) zusammen mit der ätzresistenten Beschichtung (5) von dem Trägersubstrat (1) durch den Druckunterschied (Δρ) einer Absaugung (11) flächig abzutragen und so die gewünschten Leiterbahnstrukturen auf dem nichtieitenden Trägersubstrat (1) herzustellen.

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