发明授权
CN100377320C 氧化层的方法及基板的相关支持装置
失效 - 权利终止
- 专利标题： 氧化层的方法及基板的相关支持装置
- 专利标题（英）： Method for oxidation of a layer and corresponding holder device for a substrate
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申请号： CN03817967.9申请日： 2003-07-26
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公开(公告)号： CN100377320C公开(公告)日： 2008-03-26
- 发明人: 钟宪尧 , T·格特
- 申请人： 因芬尼昂技术股份公司
- 申请人地址： 德国慕尼黑
- 专利权人： 因芬尼昂技术股份公司
- 当前专利权人： 因芬尼昂技术股份公司
- 当前专利权人地址： 德国慕尼黑
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 梁永
- 优先权： 10234694.1 2002.07.30 DE
- 国际申请： PCT/DE2003/002523 2003.07.26
- 国际公布： WO2004/015754 DE 2004.02.19
- 进入国家日期： 2005-01-26
- 主分类号： H01L21/316
- IPC分类号： H01L21/316 ; H01L21/321 ; H01L21/762 ; H01L21/322 ; H01L21/32 ; H01L21/763
摘要：
本发明涉及一种氧化层的方法及基板的相关支持装置。本发明乃解释了一种处理方法，尤其是一待氧化层在一单基板程序中进行处理的方法，而在该处理期间的处理温度乃直接于该基板(114)、或是在用于该基板(114)的一支持装置(110)处进行记录，因此，其有可能产生具有一精确预先决定的氧化宽度的氧化层。
公开/授权文献
- CN1672249A 氧化层的方法及基板的相关支持装置 公开/授权日：2005-09-21
IPC分类:
