发明授权
CN100412230C 用于等离子涂层的多位涂层装置和方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 用于等离子涂层的多位涂层装置和方法
- 专利标题（英）： Multistation coating device and method for plasma coating
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申请号： CN03811921.8申请日： 2003-05-26
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公开(公告)号： CN100412230C公开(公告)日： 2008-08-20
- 发明人: 斯特凡·贝勒 , 安德烈亚斯·吕特林豪斯-亨克尔 , 格雷戈尔·阿诺尔德 , 马蒂亚斯·比克尔 , 马滕·瓦尔特 , 于尔根·克莱因
- 申请人： 肖特股份公司
- 申请人地址： 德国美因茨
- 专利权人： 肖特股份公司
- 当前专利权人： 肖特股份公司
- 当前专利权人地址： 德国美因茨
- 代理机构： 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 张兆东
- 优先权： 10223288.1 2002.05.24 DE; 10224395.6 2002.06.01 DE; 10225607.1 2002.06.07 DE; 10225609.8 2002.06.07 DE; 10253512.4 2002.11.16 DE; 10253513.2 2002.11.16 DE
- 国际申请： PCT/EP2003/005497 2003.05.26
- 国际公布： WO2003/100121 DE 2003.12.04
- 进入国家日期： 2004-11-24
- 主分类号： C23C16/04
- IPC分类号： C23C16/04 ; C23C16/50 ; B05D7/24 ; C03C17/00
摘要：
为了简化工件(25、27)在等离子涂层的反应器中的插入和取出并且提高生产能力，本发明提供一种涂层装置(1)，其包括：一具有一可移动的套筒元件(19)和一底座元件(33)的反应器(18)，其中在结合在一起的位置在套筒元件(19)与底座元件(33)之间限定至少一个密封的涂层室(15、17)；以及一用于将电磁能输入至少一个涂层室(15、17)的装置(2)，其中反应器(18)具有至少两个涂层位置(12、14)。
公开/授权文献
- CN1656246A 用于等离子涂层的多位涂层装置和方法 公开/授权日：2005-08-17
IPC分类:
