发明授权
- 专利标题： 光敏组合物清除液
- 专利标题（英）： Photosensitive composition removing liquid
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申请号： CN200680004369.3申请日： 2006-02-09
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公开(公告)号： CN101116037B公开(公告)日： 2010-06-23
- 发明人: 金田昌人 , 三河泰广 , 寺尾浩一
- 申请人： 昭和电工株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 昭和电工株式会社
- 当前专利权人： 昭和电工株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京市中咨律师事务所
- 代理商 林柏楠; 刘金辉
- 优先权： 032879/2005 2005.02.09 JP
- 国际申请： PCT/JP2006/302673 2006.02.09
- 国际公布： WO2006/085678 JA 2006.08.17
- 进入国家日期： 2007-08-08
- 主分类号： G03F7/26
- IPC分类号： G03F7/26 ; G03F7/16 ; G03F7/42 ; H01L21/027 ; G02B5/20 ; C09D9/00
摘要：
本发明涉及一种用于清除含颜料的光敏组合物的光敏组合物清除液。该光敏组合物清除液包含亚烷基二醇单烷基醚、芳烃以及一种或多种选自亚烷基二醇单烷基醚羧酸酯、烷氧基羧酸酯、脂环族酮和乙酸酯的溶剂。所述光敏组合物清除液具有优异的光敏组合物清除性能。
公开/授权文献
- CN101116037A 光敏组合物清除液 公开/授权日：2008-01-30
IPC分类:
