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公开(公告)号：CN102200699A
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN201110135461.6
申请日：2004-12-14
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G03F7/168 , G03F7/0007 , G03F7/325
Abstract: 一种光敏组合物去除剂，用于除去未固化光敏组合物，该去除剂含有1到80质量％的至少一种分子中有9个或更多个碳原子的芳香烃。所述光敏组合物去除剂还含有无质子极性溶剂以及非无质子极性溶剂的其他溶剂。所述光敏组合物去除剂对于除去沉积在基质周围、边缘或背面处不需要的未固化光敏组合物或除去沉积在用于在玻璃基底、半导体晶片等上形成光敏组合物膜的方法中的系统部件或设备表面的未固化光敏组合物有效。所述光敏组合物去除剂优选用于在生产液晶显示器、有机EL显示器的方法中在在基底上形成光敏组合物层的方法中使用的含有颜料的光敏组合物。
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公开(公告)号：CN101116037B
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200680004369.3
申请日：2006-02-09
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 本发明涉及一种用于清除含颜料的光敏组合物的光敏组合物清除液。该光敏组合物清除液包含亚烷基二醇单烷基醚、芳烃以及一种或多种选自亚烷基二醇单烷基醚羧酸酯、烷氧基羧酸酯、脂环族酮和乙酸酯的溶剂。所述光敏组合物清除液具有优异的光敏组合物清除性能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106660914A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580033942.2
申请日：2015-07-08
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 本发明提供，从含有烷撑二醇单烷基醚及其对应的羧酸酯，且包含其他溶剂的溶剂混合物中以高纯度且高收率分离回收烷撑二醇单烷基醚的方法。通过向包含烷撑二醇单烷基醚(第一溶剂)、与烷撑二醇单烷基醚(第一溶剂)对应的烷撑二醇单烷基醚羧酸酯(第二溶剂)、以及与烷撑二醇单烷基醚(第一溶剂)和烷撑二醇单烷基醚羧酸酯(第二溶剂)不同的溶剂(第三溶剂)的溶剂混合物中添加碱性化合物，从而将烷撑二醇单烷基醚羧酸酯(第二溶剂)皂化、转变为烷撑二醇单烷基醚(第一溶剂)，然后通过蒸馏来回收烷撑二醇单烷基醚(第一溶剂)。
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公开(公告)号：CN101116037A
公开(公告)日：2008-01-30
申请号：CN200680004369.3
申请日：2006-02-09
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 本发明涉及一种用于清除含颜料的光敏组合物的光敏组合物清除液。该光敏组合物清除液包含亚烷基二醇单烷基醚、芳烃以及一种或多种选自亚烷基二醇单烷基醚羧酸酯、烷氧基羧酸酯、脂环族酮和乙酸酯的溶剂。所述光敏组合物清除液具有优异的光敏组合物清除性能。
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公开(公告)号：CN106660914B
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201580033942.2
申请日：2015-07-08
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 本发明提供，从含有烷撑二醇单烷基醚及其对应的羧酸酯，且包含其他溶剂的溶剂混合物中以高纯度且高收率分离回收烷撑二醇单烷基醚的方法。通过向包含烷撑二醇单烷基醚(第一溶剂)、与烷撑二醇单烷基醚(第一溶剂)对应的烷撑二醇单烷基醚羧酸酯(第二溶剂)、以及与烷撑二醇单烷基醚(第一溶剂)和烷撑二醇单烷基醚羧酸酯(第二溶剂)不同的溶剂(第三溶剂)的溶剂混合物中添加碱性化合物，从而将烷撑二醇单烷基醚羧酸酯(第二溶剂)皂化、转变为烷撑二醇单烷基醚(第一溶剂)，然后通过蒸馏来回收烷撑二醇单烷基醚(第一溶剂)。
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公开(公告)号：CN1894629B
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：CN200480037241.8
申请日：2004-12-14
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G03F7/168 , G03F7/0007 , G03F7/325
Abstract: 一种光敏组合物去除剂，用于除去未固化光敏组合物，该去除剂含有1到80质量％的至少一种分子中有9个或更多个碳原子的芳香烃。所述光敏组合物去除剂还含有无质子极性溶剂以及非无质子极性溶剂的其他溶剂。所述光敏组合物去除剂对于除去沉积在基质周围、边缘或背面处不需要的未固化光敏组合物或除去沉积在用于在玻璃基底、半导体晶片等上形成光敏组合物膜的方法中的系统部件或设备表面的未固化光敏组合物有效。所述光敏组合物去除剂优选用于在生产液晶显示器、有机EL显示器的方法中在在基底上形成光敏组合物层的方法中使用的含有颜料的光敏组合物。
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公开(公告)号：CN1894629A
公开(公告)日：2007-01-10
申请号：CN200480037241.8
申请日：2004-12-14
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G03F7/168 , G03F7/0007 , G03F7/325
Abstract: 一种光敏组合物去除剂，用于除去未固化光敏组合物，该去除剂含有1到80质量％的至少一种分子中有9个或更多个碳原子的芳香烃。所述光敏组合物去除剂还含有无质子极性溶剂以及非无质子极性溶剂的其他溶剂。所述光敏组合物去除剂对于除去沉积在基质周围、边缘或背面处不需要的未固化光敏组合物或除去沉积在用于在玻璃基底、半导体晶片等上形成光敏组合物膜的方法中的系统部件或设备表面的未固化光敏组合物有效。所述光敏组合物去除剂优选用于在生产液晶显示器、有机EL显示器的方法中在在基底上形成光敏组合物层的方法中使用的含有颜料的光敏组合物。
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