发明公开
CN101201557A 清洗厚膜光刻胶的清洗剂
无效 - 撤回
- 专利标题： 清洗厚膜光刻胶的清洗剂
- 专利标题（英）： Detergent for cleaning thick film photoresist
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申请号： CN200610147346.X申请日： 2006-12-15
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公开(公告)号： CN101201557A公开(公告)日： 2008-06-18
- 发明人: 彭洪修 , 史永涛 , 刘兵 , 曾浩
- 申请人： 安集微电子(上海)有限公司
- 申请人地址： 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室
- 专利权人： 安集微电子(上海)有限公司
- 当前专利权人： 安集微电子(上海)有限公司
- 当前专利权人地址： 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室
- 代理机构： 上海虹桥正瀚律师事务所
- 代理商 李佳铭
- 主分类号： G03F7/42
- IPC分类号： G03F7/42 ; G03F7/32 ; G03F7/26
摘要：
本发明公开了一种清洗厚膜光刻胶的清洗剂。这种光刻胶清洗剂含有二甲基亚砜、氢氧化钾、烷基醇胺和烷基二醇单苯基醚。本发明的清洗剂可以除去金属、金属合金或电介质基材上的100μm以上厚度的厚膜光刻胶(光阻)，在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。