发明授权
CN101431015B 减少光刻胶掩模倒塌的方法以及图案化抗反射涂层的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 减少光刻胶掩模倒塌的方法以及图案化抗反射涂层的方法
- 专利标题(英): Plasma surface treatment to prevent pattern collapse in immersion lithography
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申请号: CN200810171681.2申请日: 2008-10-23
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公开(公告)号: CN101431015B公开(公告)日: 2010-12-01
- 发明人: 金义勇 , 迪内士·帕德希 , 戴辉尚 , 梅休尔·B·内克 , 马丁·杰·西蒙斯 , 金柏涵
- 申请人: 应用材料股份有限公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 应用材料股份有限公司
- 当前专利权人: 应用材料公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- 代理商 徐金国; 陈红
- 优先权: 11/877,559 2007.10.23 US
- 主分类号: H01L21/027
- IPC分类号: H01L21/027 ; H01L21/311 ; G03F7/11
摘要:
本发明包括一种当在浸没式显影之后干燥光刻胶掩模时减少光刻胶掩模倒塌的方法。由于特征尺寸持续缩小,用于冲洗光刻胶掩模的水的毛细作用力接近大于光刻胶对ARC的粘附力的点。当毛细作用力超过粘附力时,由于当水变干时水将相邻特征拉向彼此,掩模特征可能倒塌。通过在沉积光刻胶之前在ARC之上沉积密封氧化物层,粘附力可超过毛细作用力并且光刻胶掩模的特征可不会倒塌。
公开/授权文献
- CN101431015A 在浸没式平版印刷术中防止图案倒塌的等离子体表面处理 公开/授权日:2009-05-13