发明授权
CN101436618B 光电转换装置及其制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 光电转换装置及其制造方法
- 专利标题(英): Photoelectric conversion device and manufacturing method thereof
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申请号: CN200810176180.3申请日: 2008-11-14
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公开(公告)号: CN101436618B公开(公告)日: 2013-01-02
- 发明人: 山崎舜平 , 荒井康行
- 申请人: 株式会社半导体能源研究所
- 申请人地址: 日本神奈川
- 专利权人: 株式会社半导体能源研究所
- 当前专利权人: 株式会社半导体能源研究所
- 当前专利权人地址: 日本神奈川
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 屠长存
- 优先权: 2007-298325 2007.11.16 JP
- 主分类号: H01L31/042
- IPC分类号: H01L31/042 ; H01L31/18
摘要:
在叠层型光电转换装置中,为了在上层单元元件和下层单元元件之间形成金属薄膜或硅化物膜等,需要增加形成该薄膜的工序。因此,有使光电转换装置的生产性降低等的问题。本发明的要旨在于一种光电转换装置,其至少具有将厚度为10μm以下的单晶半导体层包含于光电转换层的第一单元元件以及将设置在该第一单元元件上的非单晶半导体层包含于光电转换层的第二单元元件,并且在该单元元件之间分散金属簇。因为导电簇存在于下层单元元件和上层单元元件之间且形成欧姆接触,所以欧姆电流在两个单元元件之间流过。
公开/授权文献
- CN101436618A 光电转换装置及其制造方法 公开/授权日:2009-05-20