- 专利标题: 具有晶体管及电容的单栅极非易失存储单元及其制造方法
- 专利标题(英): Single gate nonvolatile memory cell with transistor and capacitor and making method thereof
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申请号: CN200810172929.7申请日: 2008-10-24
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公开(公告)号: CN101562183A公开(公告)日: 2009-10-21
- 发明人: 林正基 , 连士进 , 叶清本 , 吴锡垣
- 申请人: 旺宏电子股份有限公司
- 申请人地址: 台湾省新竹科学工业园区力行路16号
- 专利权人: 旺宏电子股份有限公司
- 当前专利权人: 旺宏电子股份有限公司
- 当前专利权人地址: 台湾省新竹科学工业园区力行路16号
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 周国城
- 优先权: 12/102,608 2008.04.14 US
- 主分类号: H01L27/115
- IPC分类号: H01L27/115 ; H01L29/06 ; H01L21/8247
摘要:
本发明公开了一种具有晶体管及电容的单栅极非易失存储单元及其制造方法,以及一种具有一半导体衬底以及在该半导体衬底上具有一非易失存储装置的非易失存储集成电路。该装置具有一晶体管及一电容器在该半导体衬底上,以及一共享浮动栅极连接该晶体管及该电容器的该栅极区域。该晶体管具有至少一掺杂区域定义该源极及漏极区域,以及其它三个掺杂区域覆盖该源极及漏极区域。本发明也揭露具有多重此类非易失存储装置的一非易失存储电路,以及制造具有一者以上此类非易失存储装置的该非易失集成电路的方法。
公开/授权文献
- CN101562183B 具有晶体管及电容的单栅极非易失存储单元及其制造方法 公开/授权日:2012-06-06
IPC分类: