发明授权
CN101584255B 辐射系统和光刻设备
失效 - 权利终止
- 专利标题： 辐射系统和光刻设备
- 专利标题（英）： Radiation system and lithographic apparatus
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申请号： CN200780046330.2申请日： 2007-12-13
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公开(公告)号： CN101584255B公开(公告)日： 2013-03-06
- 发明人: M·M·J·W·范赫彭 , V·Y·班尼恩 , V·V·伊凡诺夫 , K·N·科什烈夫 , D·J·W·科伦德尔
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维德霍温
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维德霍温
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王新华
- 优先权： 11/637,937 2006.12.13 US
- 国际申请： PCT/NL2007/050645 2007.12.13
- 国际公布： WO2008/072962 EN 2008.06.19
- 进入国家日期： 2009-06-15
- 主分类号： H05G2/00
- IPC分类号： H05G2/00 ; G03F7/20
摘要：
本发明涉及一种用于产生电磁辐射的辐射系统。所述辐射系统包括构造并配置成产生第一物质的等离子体和等离子体内的箍缩(10)的一对电极(5)。辐射系统还包括配置接近所述箍缩并构造成中和多个等离子体颗粒的等离子体复合表面(13)。
公开/授权文献
- CN101584255A 辐射系统和光刻设备 公开/授权日：2009-11-18
