发明授权
CN101627478B 光电转换装置及其制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 光电转换装置及其制造方法
- 专利标题(英): Photoelectric converter and method for fabricating the same
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申请号: CN200780032376.9申请日: 2007-08-06
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公开(公告)号: CN101627478B公开(公告)日: 2011-06-01
- 发明人: 中野要治 , 竹内良昭 , 山口贤刚 , 山内康弘
- 申请人: 三菱重工业株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 三菱重工业株式会社
- 当前专利权人: 三菱重工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 岳雪兰
- 优先权: 036432/2007 2007.02.16 JP
- 国际申请: PCT/JP2007/065386 2007.08.06
- 国际公布: WO2008/099524 JA 2008.08.21
- 进入国家日期: 2009-03-02
- 主分类号: H01L31/04
- IPC分类号: H01L31/04
摘要:
一种光电转换装置及其制造方法,其兼容高的光电转换效率和高的生产性,该光电转换装置(90)至少具有在透明绝缘性基板(1)上设置透明电极层(2)而形成的带透明电极基板、以及在该带透明电极基板的透明电极层(2)一侧上依次形成的主要具有结晶硅类半导体的光电转换层(92)以及背面电极层(4),其中所述带透明电极基板的透明电极层(2)的表面为混合存在大小凹凸的形状,并且光谱模糊率在550nm以上800nm以下的波长时为20%以上,主要具有所述结晶硅类半导体的光电转换层的膜厚为1.2μm以上2μm以下,喇曼比为3.0以上8.0以下。
公开/授权文献
- CN101627478A 光电转换装置及其制造方法 公开/授权日:2010-01-13