发明公开
CN101687215A 覆膜形成方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 覆膜形成方法
- 专利标题(英): Coated film forming method
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申请号: CN200880022395.8申请日: 2008-06-17
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公开(公告)号: CN101687215A公开(公告)日: 2010-03-31
- 发明人: 宫田贵裕 , 村田真朗 , 矢作充 , 汤山纯平 , 中村久三 , 吉良敦史 , 不破耕 , 田中爱 , 奥野亨 , 崎尾进
- 申请人: 株式会社爱发科
- 申请人地址: 日本神奈川县
- 专利权人: 株式会社爱发科
- 当前专利权人: 株式会社爱发科
- 当前专利权人地址: 日本神奈川县
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 朱美红; 杨楷
- 优先权: 172309/2007 2007.06.29 JP
- 国际申请: PCT/JP2008/061015 2008.06.17
- 国际公布: WO2009/004913 JA 2009.01.08
- 进入国家日期: 2009-12-28
- 主分类号: B05D1/26
- IPC分类号: B05D1/26 ; B05D3/00 ; B41J2/01
摘要:
形成看不到筋条的覆膜。在基板(7)上,在第一印刷头(20a)与第二印刷头(20b)重叠的范围中,使从第一印刷头(20a)排出的第一排出液弹着的弹着位置和从第二印刷头(20b)排出的第二排出液弹着的弹着位置混合存在。按照随机数决定哪个排出液弹着。在由第一排出液形成的覆膜(30a)与由第二排出液形成的覆膜(30b)之间配置混合存在第一、第二排出液而形成的覆膜(30c),所以边界变模糊,筋条变得看不到。
公开/授权文献
- CN101687215B 覆膜形成方法 公开/授权日:2013-05-08