发明公开
CN101690419A 光刻设备和器件制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 光刻设备和器件制造方法
- 专利标题(英): Lithographic apparatus and device manufacturing method
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申请号: CN200880024087.9申请日: 2008-07-28
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公开(公告)号: CN101690419A公开(公告)日: 2010-03-31
- 发明人: V·V·伊万诺夫 , V·Y·班尼恩 , A·J·布里克 , K·N·克什烈夫 , P·S·安提斯弗诺夫 , V·M·克里夫特逊 , D·V·洛帕伊夫
- 申请人: ASML荷兰有限公司
- 申请人地址: 荷兰维德霍温
- 专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰维德霍温
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王新华
- 优先权: 11/889,065 2007.08.08 US
- 国际申请: PCT/EP2008/006188 2008.07.28
- 国际公布: WO2009/018933 EN 2009.02.12
- 进入国家日期: 2010-01-11
- 主分类号: H05G2/00
- IPC分类号: H05G2/00
摘要:
本发明公开了配置以产生用于光刻设备的辐射的源。所述源包括阳极和阴极。阴极和阳极被配置以在阳极和阴极之间的放电空间中的燃料中产生放电,以便产生等离子体,阴极和阳极彼此相对地定位,使得在使用中在阳极和阴极之间延伸的电流线大致弯曲,以便产生大致径向地压缩仅在阴极或阳极的上表面附近的区域中的等离子体的力。
公开/授权文献
- CN101690419B 光刻设备和器件制造方法 公开/授权日:2013-06-05