公开(公告)号：CN101690419B

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：CN200880024087.9

申请日：2008-07-28

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： V·V·伊万诺夫 ,  V·Y·班尼恩 ,  A·J·布里克 ,  K·N·克什烈夫 ,  P·S·安提斯弗诺夫 ,  V·M·克里夫特逊 ,  D·V·洛帕伊夫

IPC分类号： H05G2/00

CPC分类号： H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/005

摘要： 本发明公开了配置以产生用于光刻设备的辐射的源。所述源包括阳极和阴极。阴极和阳极被配置以在阳极和阴极之间的放电空间中的燃料中产生放电，以便产生等离子体，阴极和阳极彼此相对地定位，使得在使用中在阳极和阴极之间延伸的电流线大致弯曲，以便产生大致径向地压缩仅在阴极或阳极的上表面附近的区域中的等离子体的力。

公开(公告)号：CN102016723A

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：CN200980114405.5

申请日：2009-04-16

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： L·斯卡克卡巴拉兹 ,  V·V·伊万诺夫 ,  K·N·克什烈夫 ,  J·H·J·莫尔斯 ,  L·H·J·斯蒂文斯 ,  P·S·安提斯弗诺夫 ,  V·M·克里夫特逊 ,  L·A·多若克林 ,  M·范卡朋

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70925

摘要： 一种光刻设备，包括被配置以调节辐射束的照射系统和被配置以支撑图案形成装置的支撑结构。图案形成装置被配置以将图案赋予辐射束。所述设备包括图案形成装置清洁系统，所述图案形成装置清洁系统被配置以提供静电力至污染物颗粒，所述污染物颗粒位于图案形成装置上且通过辐射束被施以电荷，以便从图案形成装置移除污染物颗粒。

公开(公告)号：CN101690419A

公开(公告)日：2010-03-31

申请号：CN200880024087.9

申请日：2008-07-28

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： V·V·伊万诺夫 ,  V·Y·班尼恩 ,  A·J·布里克 ,  K·N·克什烈夫 ,  P·S·安提斯弗诺夫 ,  V·M·克里夫特逊 ,  D·V·洛帕伊夫

IPC分类号： H05G2/00

CPC分类号： H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/005

摘要： 本发明公开了配置以产生用于光刻设备的辐射的源。所述源包括阳极和阴极。阴极和阳极被配置以在阳极和阴极之间的放电空间中的燃料中产生放电，以便产生等离子体，阴极和阳极彼此相对地定位，使得在使用中在阳极和阴极之间延伸的电流线大致弯曲，以便产生大致径向地压缩仅在阴极或阳极的上表面附近的区域中的等离子体的力。