Invention Grant
- Patent Title: 量子干涉晶体管及其制造和操作方法
- Patent Title (English): Quantum interference transistor and methods of manufacturing and operating the same
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Application No.: CN200910177796.7Application Date: 2009-09-28
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Publication No.: CN101719510BPublication Date: 2014-12-17
- Inventor: 申在光 , 徐顺爱 , 金钟燮 , 洪起夏 , 郑现钟
- Applicant: 三星电子株式会社
- Applicant Address: 韩国京畿道水原市
- Assignee: 三星电子株式会社
- Current Assignee: 三星电子株式会社
- Current Assignee Address: 韩国京畿道水原市
- Agency: 北京铭硕知识产权代理有限公司
- Agent 韩明星; 罗延红
- Priority: 10-2008-0099353 2008.10.09 KR
- Main IPC: H01L29/78
- IPC: H01L29/78 ; H01L29/10 ; H01L21/336

Abstract:
本发明公开了一种量子干涉晶体管及其制造和操作方法。一种量子干涉晶体管可以包括:源极;漏极;N个沟道(N≥2),位于源极和漏极之间,并具有N-1个在源极和漏极之间的路径差;至少一个栅极,设置在N个沟道中的一个或多个沟道处。N个沟道中的一个或多个沟道可以形成在石墨烯片中。一种制造所述量子干涉晶体管的方法可以包括利用石墨烯片形成N个沟道中的一个或多个沟道。一种操作所述量子干涉晶体管的方法可以包括将电压施加到至少一个栅极。电压可以使穿过形成有所述至少一个栅极的沟道的电子波的相位移位。
Public/Granted literature
- CN101719510A 量子干涉晶体管及其制造和操作方法 Public/Granted day:2010-06-02
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IPC分类: