发明公开
- 专利标题: 用于产生极紫外辐射的模块和方法
- 专利标题(英): Module and method for producing extreme ultraviolet radiation
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申请号: CN200880103760.8申请日: 2008-08-25
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公开(公告)号: CN101785369A公开(公告)日: 2010-07-21
- 发明人: T·A·R·范因佩尔 , V·Y·班宁 , V·V·伊万诺夫 , E·R·鲁普斯特拉 , J·B·P·范斯库特 , Y·J·G·范德维杰威 , G·H·P·M·斯温克尔斯 , H·G·诗密尔 , D·莱伯斯克依 , J·H·J·摩尔斯
- 申请人: ASML荷兰有限公司
- 申请人地址: 荷兰维德霍温
- 专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰维德霍温
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王新华
- 优先权: 60/935,643 2007.08.23 US; 12/078,663 2008.04.02 US; 61/136,148 2008.08.14 US; 61/136,145 2008.08.14 US
- 国际申请: PCT/NL2008/050567 2008.08.25
- 国际公布: WO2009/025557 EN 2009.02.26
- 进入国家日期: 2010-02-21
- 主分类号: H05G2/00
- IPC分类号: H05G2/00
摘要:
一种用于产生极紫外辐射的模块(1)包括:供给装置,该供给装置被配置以将点燃材料的液滴供给到预定目标点燃位置上;激光器(6),该激光器被布置以聚焦到该预定目标点燃位置上并通过撞击位于预定目标点燃位置处的这样的液滴(4)来产生等离子体,以便将液滴变成用于产生极紫外辐射的等离子体。另外,模块包括收集反射镜(12),该收集反射镜具有反射镜表面(14),该反射镜表面被构造和布置以反射辐射,以便将辐射聚焦到焦点(FP)上。流体供给装置(2)被构造和布置以在横向于反射镜表面的方向上形成远离反射镜表面流动的气流(GF),以便减缓由等离子体产生的颗粒碎片。