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公开(公告)号：CN101802716B
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN200880107275.8
申请日：2008-09-17
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： Y·J·G·范德维杰威 , T·A·R·范因佩尔 , J·B·P·范斯库特 , G·H·P·M·斯温克尔斯 , H·G·诗密尔 , D·莱伯斯克依
CPC分类号： G03F7/70033 , B82Y10/00 , G03F7/70841 , G03F7/70908 , G03F7/70916 , G03F7/70933 , H05G2/003 , H05G2/008
摘要： 公开了一种光刻设备，该光刻设备被布置以将图案从图案形成装置投影到衬底上。所述光刻设备包括照射系统(IL)和出口，该出口连接至抽吸系统(78)，抽吸系统(78)用于从照射系统(IL)的内壁(64)和外壁(62)之间抽出气体，或如果存在辐射源(SO)，则抽吸系统(78)用于从照射系统(IL)的内壁(64)和辐射源(SO)的内壁(62)之间抽出气体。
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公开(公告)号：CN101802716A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200880107275.8
申请日：2008-09-17
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： Y·J·G·范德维杰威 , T·A·R·范因佩尔 , J·B·P·范斯库特 , G·H·P·M·斯温克尔斯 , H·G·诗密尔 , D·莱伯斯克依
CPC分类号： G03F7/70033 , B82Y10/00 , G03F7/70841 , G03F7/70908 , G03F7/70916 , G03F7/70933 , H05G2/003 , H05G2/008
摘要： 公开了一种光刻设备，该光刻设备被布置以将图案从图案形成装置投影到衬底上。所述光刻设备包括照射系统(IL)和出口，该出口连接至抽吸系统(78)，抽吸系统(78)用于从照射系统(IL)的内壁(64)和外壁(62)之间抽出气体，或如果存在辐射源(SO)，则抽吸系统(78)用于从照射系统(IL)的内壁(64)和辐射源(SO)的内壁(62)之间抽出气体。
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公开(公告)号：CN110612482A
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201880030698.8
申请日：2018-04-17
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： G·H·P·M·斯温克尔斯 , R·M·霍夫斯特拉 , J·H·J·穆尔斯 , P·W·克利里 , B·P·范德里恩休伊曾
摘要： 一种用于激光产生的等离子体源的种子激光器模块，该种子激光器模块包括：脉冲激光源，被配置为以脉冲重复率发射源辐射脉冲；子系统，被配置为提供电信号；电光调制器，被耦合到子系统，并且被配置为接收源辐射脉冲并且在电信号的控制下发射整形后的辐射脉冲；以及其中电信号包括与源辐射脉冲同相的处于脉冲重复率的选通脉冲、以及在选通脉冲中的连续选通脉冲之间的一个或多个次级脉冲。
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公开(公告)号：CN117529691A
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202280044013.1
申请日：2022-06-20
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： A·哈特格斯 , M·M·L·斯特格斯 , G·H·P·M·斯温克尔斯 , G·艾姆波内特 , N·W·M·普兰茨 , W·J·恩格伦 , M·A·范德凯克霍夫
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种用于成像系统以确定成像系统的照射光束的两个光学特性的板，成像系统被配置为用照射光束照射照射区域，板包括多个标记，其中多个标记的第一子集包括用于确定照射光束的第一光学特性的第一类型标记，多个标记的第二子集包括用于确定照射光束的第二光学特性的第二类型标记，多个标记位于板的标记区域内，并且标记区域大体上对应于照射区域。
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公开(公告)号：CN110612482B
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN201880030698.8
申请日：2018-04-17
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： G·H·P·M·斯温克尔斯 , R·M·霍夫斯特拉 , J·H·J·穆尔斯 , P·W·克利里 , B·P·范德里恩休伊曾
摘要： 一种用于激光产生的等离子体源的种子激光器模块，该种子激光器模块包括：脉冲激光源，被配置为以脉冲重复率发射源辐射脉冲；子系统，被配置为提供电信号；电光调制器，被耦合到子系统，并且被配置为接收源辐射脉冲并且在电信号的控制下发射整形后的辐射脉冲；以及其中电信号包括与源辐射脉冲同相的处于脉冲重复率的选通脉冲、以及在选通脉冲中的连续选通脉冲之间的一个或多个次级脉冲。
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公开(公告)号：CN101785369A
公开(公告)日：2010-07-21
申请号：CN200880103760.8
申请日：2008-08-25
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： T·A·R·范因佩尔 , V·Y·班宁 , V·V·伊万诺夫 , E·R·鲁普斯特拉 , J·B·P·范斯库特 , Y·J·G·范德维杰威 , G·H·P·M·斯温克尔斯 , H·G·诗密尔 , D·莱伯斯克依 , J·H·J·摩尔斯
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/003 , G03F7/70175 , G03F7/70916 , G03F7/70983 , H05G2/005 , H05G2/008
摘要： 一种用于产生极紫外辐射的模块(1)包括：供给装置，该供给装置被配置以将点燃材料的液滴供给到预定目标点燃位置上；激光器(6)，该激光器被布置以聚焦到该预定目标点燃位置上并通过撞击位于预定目标点燃位置处的这样的液滴(4)来产生等离子体，以便将液滴变成用于产生极紫外辐射的等离子体。另外，模块包括收集反射镜(12)，该收集反射镜具有反射镜表面(14)，该反射镜表面被构造和布置以反射辐射，以便将辐射聚焦到焦点(FP)上。流体供给装置(2)被构造和布置以在横向于反射镜表面的方向上形成远离反射镜表面流动的气流(GF)，以便减缓由等离子体产生的颗粒碎片。
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