发明授权
- 专利标题： 光刻装置、湿浸式投影装置和器件制造方法
- 专利标题（英）： Lithography apparatus, immersion projection apparatus, and method of manufacturing device
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申请号： CN201010225185.8申请日： 2006-03-28
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公开(公告)号： CN101887219B公开(公告)日： 2013-06-19
- 发明人: J-G·C·范德图恩 , H·布特勒 , H·H·M·科西 , E·H·J·德拉贾 , N·坦卡特 , F·范德穆伦 , M·J·H·弗兰坎 , M·侯克斯 , A·H·阿伦德斯 , M·库帕卢斯
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维尔德霍芬
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维尔德霍芬
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王波波
- 优先权： 11/090,699 2005.03.28 US
- 分案原申请号： 2006100715334 2006.03.28
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
一种光刻装置，其包括保持基底的基底台和将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统。该光刻装置还包括流体供给系统，用于在基底和投影系统的最后一个透镜元件之间提供流体，和位置控制装置，用于控制该流体供给系统的位置。该位置控制装置配置成在被提供基底的位置量时，通过在基底的位置量上增加位置偏差来确定流体供给系统的期望位置，然后根据该期望位置定位流体供给系统。该位置量包括基底台的位置和/或旋转位置和/或基底高度的高度函数。
公开/授权文献
- CN101887219A 光刻装置、湿浸式投影装置和器件制造方法 公开/授权日：2010-11-17
IPC分类:
