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    光刻装置中质量体的位置控制
    2.
    发明授权
    光刻装置中质量体的位置控制 失效

    公开(公告)号：CN100568102C

    公开(公告)日：2009-12-09

    申请号：CN200410028619.X

    申请日：2004-03-05

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： H·布特勒

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70725

    摘要： 一种尤其用于光刻装置中的控制器，它通过控制力来控制质量体如衬底台(12)的位置。控制器可从所述质量体(12)接收反馈位置信号，并根据所述反馈位置信号和所述控制力计算估计质量()。然后，控制器利用所述估计质量()和所需的质量加速度来确定加速所述质量体(12)所需的控制力，并将其移动到所需的位置。

    用于致动微光刻投影曝光设备中的元件的装置
    4.
    发明授权
    用于致动微光刻投影曝光设备中的元件的装置 有权

    公开(公告)号：CN103547967B

    公开(公告)日：2016-08-31

    申请号：CN201280019495.1

    申请日：2012-04-11

    申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司 ,  ASML荷兰有限公司

    发明人： J·菲舍尔 ,  U·舍恩霍夫 ,  B·戈伊佩尔特 ,  H·布特勒 ,  R·J·M·德容

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70191 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/709

    摘要： 本发明涉及用于致动微光刻投影曝光设备中的元件的装置。按照本发明的一方面，一种用于致动微光刻投影曝光设备中的元件的装置具有：至少两个致动器（620，630，720，730，820，830），其经由机械耦合（621，631，721，731，821，831）分别耦合至所述元件（610，710，810）并且在至少一个自由度上分别在所述元件上施加能够被调节的力；其中，对于这些致动器中的每一个致动器，属于相应致动器的致动器质量与所述致动器关联的所述机械耦合形成用作低通滤波器的质量?弹簧系统；以及其中，这些质量?弹簧系统的固有频率彼此具有等于这些固有频率中的最大固有频率的10％的最大偏差。

    平版印刷设备和装置制造方法
    6.
    发明授权
    平版印刷设备和装置制造方法 失效

    公开(公告)号：CN100520592C

    公开(公告)日：2009-07-29

    申请号：CN200510108562.9

    申请日：2005-10-11

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： H·H·M·科西 ,  H·布特勒 ,  R·C·坤斯特 ,  H·K·范德肖特 ,  Y·K·M·德沃斯

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  G05D3/12 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/70725

    摘要： 为了使平版印刷设备的图案支架或衬底台能够具有高加速度和高移动速度，该图案支架和衬底台之一由一个用于相当大的位移的驱动器支承，而省去一个用于精确安置的驱动器。该图案支架和衬底台中的另一个由一个驱动器组件支承，该组件包括一个用于精确安置的驱动器和一个用于相当大的位移的驱动器。通过提供这样一种控制系统而获得图案形成装置和衬底的精确对准，该控制系统适合于安置图案支架和衬底台中的另一个，使得图案支架和衬底台之一的定位误差受到另一个的安置的补偿。

    光刻设备、器件制造方法、及由此制造的器件
    10.
    发明授权
    光刻设备、器件制造方法、及由此制造的器件 失效

    公开(公告)号：CN100451835C

    公开(公告)日：2009-01-14

    申请号：CN200410082568.9

    申请日：2004-09-21

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： H·布特勒

    IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/00

    CPC分类号： G03F7/70725

    摘要： 一种包含可移动物体的光刻设备。这些可移动物体的位置可以用位置控制系统来控制。位置控制系统包含位置控制器(6)、表示为物体滤波器(Ho)的物体、位置反馈电路(22)、以及加速控制系统(34)。加速控制系统(34)包含减法器(8)以及第一电路支路中的第一滤波器(Hf)和第二电路支路中的第二滤波器(Hs)。从位置控制器(6)输出的位置控制器信号(Fp)，被输入到加速控制系统(34)的减法器(8)中。但外部干扰力(Fd)被直接施加在物体(Ho)上。于是，对位置控制器力(Fp)的从减法器(8)的输入到物体(Ho)的加速度的第一传递函数(G1)可以不同于对干扰力(Fd)的从物体(Ho)的输入到物体(Ho)的加速度的第二传递函数(G2)。