公开(公告)号：CN1841208B

公开(公告)日：2010-09-01

申请号：CN200610071533.4

申请日：2006-03-28

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·-G·C·范德图恩 ,  H·布特勒 ,  H·H·M·科西 ,  E·H·J·德拉贾 ,  N·坦卡特 ,  F·范德穆伦 ,  M·J·H·弗兰坎 ,  M·侯克斯 ,  A·H·阿伦德斯 ,  M·库帕卢斯

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： 一种光刻装置，其包括保持基底的基底台和将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统。该光刻装置还包括流体供给系统，用于在基底和投影系统的最后一个透镜元件之间提供流体，和位置控制装置，用于控制该流体供给系统的位置。该位置控制装置配置成在被提供基底的位置量时，通过在基底的位置量上增加位置偏差来确定流体供给系统的期望位置，然后根据该期望位置定位流体供给系统。该位置量包括基底台的位置和/或旋转位置和/或基底高度的高度函数。

公开(公告)号：CN101887219B

公开(公告)日：2013-06-19

申请号：CN201010225185.8

申请日：2006-03-28

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J-G·C·范德图恩 ,  H·布特勒 ,  H·H·M·科西 ,  E·H·J·德拉贾 ,  N·坦卡特 ,  F·范德穆伦 ,  M·J·H·弗兰坎 ,  M·侯克斯 ,  A·H·阿伦德斯 ,  M·库帕卢斯

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： 一种光刻装置，其包括保持基底的基底台和将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统。该光刻装置还包括流体供给系统，用于在基底和投影系统的最后一个透镜元件之间提供流体，和位置控制装置，用于控制该流体供给系统的位置。该位置控制装置配置成在被提供基底的位置量时，通过在基底的位置量上增加位置偏差来确定流体供给系统的期望位置，然后根据该期望位置定位流体供给系统。该位置量包括基底台的位置和/或旋转位置和/或基底高度的高度函数。

公开(公告)号：CN101887219A

公开(公告)日：2010-11-17

申请号：CN201010225185.8

申请日：2006-03-28

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J-G·C·范德图恩 ,  H·布特勒 ,  H·H·M·科西 ,  E·H·J·德拉贾 ,  N·坦卡特 ,  F·范德穆伦 ,  M·J·H·弗兰坎 ,  M·侯克斯 ,  A·H·阿伦德斯 ,  M·库帕卢斯

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： 一种光刻装置，其包括保持基底的基底台和将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统。该光刻装置还包括流体供给系统，用于在基底和投影系统的最后一个透镜元件之间提供流体，和位置控制装置，用于控制该流体供给系统的位置。该位置控制装置配置成在被提供基底的位置量时，通过在基底的位置量上增加位置偏差来确定流体供给系统的期望位置，然后根据该期望位置定位流体供给系统。该位置量包括基底台的位置和/或旋转位置和/或基底高度的高度函数。

公开(公告)号：CN1841208A

公开(公告)日：2006-10-04

申请号：CN200610071533.4

申请日：2006-03-28

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·-G·C·范德图恩 ,  H·布特勒 ,  H·H·M·科西 ,  E·H·J·德拉贾 ,  N·坦卡特 ,  F·范德穆伦 ,  M·J·H·弗兰坎 ,  M·侯克斯 ,  A·H·阿伦德斯 ,  M·库帕卢斯

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： 一种光刻装置，其包括保持基底的基底台和将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统。该光刻装置还包括流体供给系统，用于在基底和投影系统的最后一个透镜元件之间提供流体，和位置控制装置，用于控制该流体供给系统的位置。该位置控制装置配置成在被提供基底的位置量时，通过在基底的位置量上增加位置偏差来确定流体供给系统的期望位置，然后根据该期望位置定位流体供给系统。该位置量包括基底台的位置和/或旋转位置和/或基底高度的高度函数。