发明授权
- 专利标题: 基板处理装置和基板处理方法
- 专利标题(英): Substrate processing apparatus, substrate processing method
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申请号: CN201010193101.7申请日: 2010-05-28
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公开(公告)号: CN101901748B公开(公告)日: 2012-04-25
- 发明人: 松山健一郎 , 金子知广
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本国东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本国东京都
- 代理机构: 北京尚诚知识产权代理有限公司
- 代理商 龙淳
- 优先权: 2009-129499 2009.05.28 JP
- 主分类号: H01L21/00
- IPC分类号: H01L21/00 ; H01L21/677
摘要:
本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法和存储介质。该基板处理装置具有将基板从载体搬送到处理块的搬送机构,能够抑制上述搬送机构的搬送工序数的上升并且提高处理能力。在能够向用于将基板搬入到处理块中的第一交接模块搬送基板时,不经由缓冲模块地以上述搬送顺序从载体向第一交接模块搬送基板,在不能从上述载体向该第一交接模块搬送基板时,以与上述搬送顺序相反的顺序从载体向缓冲模块搬送基板,对搬送机构的动作进行控制,使得在以先于已搬送到上述缓冲模块的基板搬送到上述第一交接模块的方式设定的基板全部被搬送到该第一交接模块后,以上述搬送顺序将该已搬送到上述缓冲模块的基板搬送到第一交接模块。
公开/授权文献
- CN101901748A 基板处理装置、基板处理方法和存储介质 公开/授权日:2010-12-01
IPC分类: