基板处理装置和基板处理方法

    公开(公告)号:CN102169848B

    公开(公告)日:2014-10-15

    申请号:CN201110047352.9

    申请日:2011-02-24

    IPC分类号: H01L21/677

    CPC分类号: H01L21/67225 H01L21/67196

    摘要: 本发明提供基板处理装置和基板处理方法。本发明在构成多模块的模块为不可使用模块时,能够迅速地进行基板的搬送,抑制制品不良的发生。在将基板搬送至搬送目的地模块之前,该搬送目的地模块变得不能够使用时,将基板的搬送目的地变更为该基板的下一个基板将要搬入的模块。在出现不可使用模块时,在为上述搬送部件例如访问搬送循环的上游端的模块之前时,以进行搬送循环直至成为前一基板能够从变更后的搬送目的地模块内搬出的状态的方式进行控制。此外,在出现不可使用模块时,在上述搬送部件在搬送循环中位于上述不可使用模块的上游侧时,以使搬送部件的搬送动作待机直至成为前一基板能够从变更后的搬送目的地模块搬出的状态的方式进行控制。

    基片处理装置和基片处理方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116529863A

    公开(公告)日:2023-08-01

    申请号:CN202180075327.3

    申请日:2021-11-02

    发明人: 松山健一郎

    IPC分类号: H01L21/677

    摘要: 利用能够在基片处理装置的承载器块的承载器送入端口、承载器送出端口、基片接收端口、基片送出端口、第一承载器临时放置部和第二承载器临时放置部之间移载承载器的承载器移载机构,将承载器从移载出发地经由第一承载器临时放置部或第二承载器临时放置部移载到下一个移载目的地。为此,将经由第一承载器临时放置部时的移载时间与经由第二承载器临时放置部时的移载时间进行比较,将承载器移载到第一承载器临时放置部和第二承载器临时放置部中的该移载时间较短的承载器临时放置部。

    基片处理装置和基片处理方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111489986A

    公开(公告)日:2020-08-04

    申请号:CN202010074343.8

    申请日:2020-01-22

    发明人: 松山健一郎

    IPC分类号: H01L21/67 H01L21/677

    摘要: 本发明涉及基片处理装置和基片处理方法。基于时间参数、构成多单元的单元的所需基片停留时间和循环时间,决定多单元中的作为基片的输送目标的单元的个数,以及决定停留循环数,其中,时间参数是,与为了将送入处理区块的基片输送到送出单元所需的主输送装置的输送工序数对应的基片的输送时间、或者通过用包括多单元并且以能够对基片进行多个步骤的处理的方式设置于处理区块的单元组之中的、相同步骤中的可使用单元数除所需基片停留时间而对于各步骤得到的时间中的最大时间。本发明在将单元的所需停留时间彼此不同的多个批次的基片依次输送并进行处理时,能够抑制基片输送装置的负荷来提高装置的处理能力。

    基板处理装置和基板处理方法

    公开(公告)号:CN101901748B

    公开(公告)日:2012-04-25

    申请号:CN201010193101.7

    申请日:2010-05-28

    IPC分类号: H01L21/00 H01L21/677

    摘要: 本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法和存储介质。该基板处理装置具有将基板从载体搬送到处理块的搬送机构,能够抑制上述搬送机构的搬送工序数的上升并且提高处理能力。在能够向用于将基板搬入到处理块中的第一交接模块搬送基板时,不经由缓冲模块地以上述搬送顺序从载体向第一交接模块搬送基板,在不能从上述载体向该第一交接模块搬送基板时,以与上述搬送顺序相反的顺序从载体向缓冲模块搬送基板,对搬送机构的动作进行控制,使得在以先于已搬送到上述缓冲模块的基板搬送到上述第一交接模块的方式设定的基板全部被搬送到该第一交接模块后,以上述搬送顺序将该已搬送到上述缓冲模块的基板搬送到第一交接模块。

    基板处理装置、基板处理方法和存储介质

    公开(公告)号:CN101901747A

    公开(公告)日:2010-12-01

    申请号:CN201010193078.1

    申请日:2010-05-28

    IPC分类号: H01L21/00 H01L21/677

    摘要: 本发明涉及基板处理装置、基板处理方法和存储介质。该基板处理装置具有利用处理块将已处理过的基板向载体搬送的搬送单元,能够抑制上述搬送单元的搬送工序数的上升,提高生产率。在用于从处理块搬出基板的第二交接模块存在有基板、容纳该基板的载体没有载置在载体载置部的情况下,将第二交接模块的基板搬送到缓冲模块,在第二交接模块存在有基板、容纳该基板的载体载置在上述载体载置部的情况下,无论有无通过缓冲模块向该载体搬送的基板,都将存在于第二交接模块的基板搬送到上述载体,由此,抑制在载体、缓冲模块和第二交接模块之间搬送基板的搬送单元的搬送工序数,抑制生产率的降低。

    基片处理装置和基片处理方法

    公开(公告)号:CN111489986B

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202010074343.8

    申请日:2020-01-22

    发明人: 松山健一郎

    IPC分类号: H01L21/67 H01L21/677

    摘要: 本发明涉及基片处理装置和基片处理方法。基于时间参数、构成多单元的单元的所需基片停留时间和循环时间,决定多单元中的作为基片的输送目标的单元的个数,以及决定停留循环数,其中,时间参数是,与为了将送入处理区块的基片输送到送出单元所需的主输送装置的输送工序数对应的基片的输送时间、或者通过用包括多单元并且以能够对基片进行多个步骤的处理的方式设置于处理区块的单元组之中的、相同步骤中的可使用单元数除所需基片停留时间而对于各步骤得到的时间中的最大时间。本发明在将单元的所需停留时间彼此不同的多个批次的基片依次输送并进行处理时,能够抑制基片输送装置的负荷来提高装置的处理能力。

    基片输送方法、基片处理装置和存储介质

    公开(公告)号:CN117331282A

    公开(公告)日:2024-01-02

    申请号:CN202310782791.7

    申请日:2023-06-29

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 本发明提供基片输送方法、基片处理装置和存储介质,其抑制曝光后基片间的输送状态不均和通过显影形成于基片的图案不均。基片处理方法使用基片处理装置,其包括经由模块组和曝光机向承载器输送基片的输送机构组,输送机构组包括:按照前级模块、曝光机、第1后级模块输送基片的第1输送机构;按照第1后级模块、加热模块、显影模块、第2后级模块输送基片的第2输送机构;和后级输送机构,并包括:比较步骤,将曝光机中从送入至能够送出基片的时间间隔设为曝光机周期时间,将预定输送的基片的、从第2输送机构的输送区间向后级输送机构的输送区间输送基片的区间输送时间与曝光机周期时间比较;和设定步骤,根据比较步骤的结果来变更区间输送时间。

    基板处理装置和搬送时间表制作方法

    公开(公告)号:CN114068357A

    公开(公告)日:2022-02-18

    申请号:CN202110863973.8

    申请日:2021-07-29

    IPC分类号: H01L21/67 H01L21/677

    摘要: 本公开涉及一种基板处理装置和搬送时间表制作方法。基板处理装置具备多个处理部和搬送机构,多个搬送对象体按预先决定的搬入顺序被搬入基板处理装置内,基板处理装置还具备控制部,所述控制部获取工艺任务,所述工艺任务用于将搬送对象体通过所述搬送机构搬送到至少一个所述处理部并针对该搬送对象体进行处理,在一搬送对象体与在其之前先被搬入所述基板处理装置内的先搬入的搬送对象体的所述工艺任务不同、且彼此的所述工艺任务包括同种的处理的情况下,所述控制部在开始将所述一搬送对象体向所述处理部搬送之前,判定能否进行在针对所述先搬入的搬送对象体的所述同种的处理完成之前针对所述一搬送对象体先行实施所述同种的处理的先行实施。

    基板处理装置、基板处理方法和存储介质

    公开(公告)号:CN102194729B

    公开(公告)日:2014-10-15

    申请号:CN201110047356.7

    申请日:2011-02-24

    IPC分类号: H01L21/677

    摘要: 本发明提供基板处理装置、基板处理方法和存储介质。本发明提供在反复进行从模块组中编号顺序小的模块向编号顺序大的模块依次搬送基板的搬送循环的基板处理装置中,在出现不能够使用的模块,之后该模块变得能够使用时,能够以高生产率处理基板的技术。控制搬送部件,使得将从多模块的前一个模块搬出的基板,对于构成多模块的模块组中以与该基板的搬出时最接近的时刻搬出基板的模块,在上述基板的搬入顺序中搬入下一模块。