发明授权
- 专利标题： 成膜方法及成膜装置
- 专利标题（英）： Method for film formation, apparatus for film formation, and computer-readable recording medium
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申请号： CN200980110270.5申请日： 2009-01-23
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公开(公告)号： CN101978477B公开(公告)日： 2013-03-27
- 发明人: 原正道 , 水泽宁 , 多贺敏 , 五味淳 , 波多野达夫
- 申请人： 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人： 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 苗堃; 金世煜
- 优先权： 2008-084551 2008.03.27 JP
- 国际申请： PCT/JP2009/051088 2009.01.23
- 国际公布： WO2009/119147 JA 2009.10.01
- 进入国家日期： 2010-09-21
- 主分类号： H01L21/285
- IPC分类号： H01L21/285 ; C23C16/16
摘要：
一种成膜方法，其特征在于，使包含含羰基金属原料气体和含一氧化碳运载气体的处理气体，避开所述被处理基板表面而在比被处理基板的外周更靠直径方向上外侧的区域流动，从所述处理气体流使所述羰基金属向所述被处理基板表面扩散，在所述被处理基板表面进行金属膜的成膜。
公开/授权文献
- CN101978477A 成膜方法及成膜装置、计算机可读存储介质 公开/授权日：2011-02-16
IPC分类:
