发明授权
- 专利标题: 发光二极管封装结构的制作方法
- 专利标题(英): Light-emitting diode package structure manufacturing method
-
申请号: CN201110198263.4申请日: 2011-07-15
-
公开(公告)号: CN102231421B公开(公告)日: 2013-01-23
- 发明人: 杨华 , 卢鹏志 , 谢海忠 , 于飞 , 郑怀文 , 薛斌 , 伊晓燕 , 王军喜 , 王国宏 , 李晋闽
- 申请人: 中国科学院半导体研究所
- 申请人地址: 北京市海淀区清华东路甲35号
- 专利权人: 中国科学院半导体研究所
- 当前专利权人: 中国科学院半导体研究所
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区清华东路甲35号
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 汤保平
- 主分类号: H01L33/00
- IPC分类号: H01L33/00 ; H01L33/48 ; H01L33/38
摘要:
一种发光二极管封装结构的制作方法,包括以下步骤:在绝缘衬底上利用金属有机物气相外延的方法依次生长n型层、有源层和p型层;光刻在p型层上面的一侧向下到达n型层的表面形成第一台面,在另一侧向下刻蚀到达绝缘衬底的表面,形成第二台面;在第一、二台面上制作导电通孔并填充导电金属;在靠近第二台面的一侧并覆盖部分p型层的上表面,制作绝缘层;在绝缘层上并覆盖绝缘层制作p电极;在第一台面上的导电通孔上制作n电极;将绝缘衬底减薄;在绝缘衬底的背面的两侧分别制作第一背电极和第二背电极,以上得到器件的基底;在器件的基底上封装一光学元件,完成基底上器件的制作;采用机械方式将基底上器件切割成独立的器件。
公开/授权文献
- CN102231421A 发光二极管封装结构的制作方法 公开/授权日:2011-11-02
IPC分类: