发明授权
CN102356452B 真空处理装置
失效 - 权利终止
- 专利标题: 真空处理装置
- 专利标题(英): Vacuum processing apparatus
-
申请号: CN201080012376.4申请日: 2010-02-15
-
公开(公告)号: CN102356452B公开(公告)日: 2014-01-01
- 发明人: 竹内良昭 , 西宫立享 , 宫原弘臣 , 中尾祯子
- 申请人: 三菱重工业株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 三菱重工业株式会社
- 当前专利权人: 三菱重工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理商 谢丽娜; 关兆辉
- 优先权: 2009-161947 2009.07.08 JP
- 国际申请: PCT/JP2010/052186 2010.02.15
- 国际公布: WO2011/004621 JA 2011.01.13
- 进入国家日期: 2011-09-16
- 主分类号: H01L21/205
- IPC分类号: H01L21/205 ; C23C16/455 ; C23C16/509 ; H01L31/04 ; H05H1/46
摘要:
本发明提供一种实现制成的膜的高品质化并且能够实现大面积化及成膜速度的高速化的真空处理装置。设置有:放电室(2),由脊形波导管构成,该脊形波导管具有彼此相对配置且其间生成等离子体的脊形电极;气体供给部(10),与放电室(2)相邻配置,朝向脊形电极供给用于形成等离子体的母气体;基板(S),配置于在基板(S)与放电室(2)之间夹着气体供给部(10)的位置,实施基于等离子体的处理;减压容器(7),内部至少收容有放电室(2)、气体供给部(10)及基板(S);及排气部(9),连通于与减压容器(7)中的气体供给部(10)之间夹着放电室(2)的位置,使减压容器(7)内部的压力降低。
公开/授权文献
- CN102356452A 真空处理装置 公开/授权日:2012-02-15