发明授权
- 专利标题： 光刻装置及器件制造方法
- 专利标题（英）： Lithographic apparatus and device manufacturing method
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申请号： CN201210010399.2申请日： 2007-04-06
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公开(公告)号： CN102495539B公开(公告)日： 2015-04-15
- 发明人: M·维克曼斯 , M·A·W·崔帕斯 , F·E·德琼格 , E·A·M·范冈佩尔 , R·詹森 , G·A·A·M·库斯特斯 , T·P·M·卡迪 , M·F·P·斯米茨 , F·范德穆伦 , W·F·J·西蒙斯 , M·H·A·利恩德斯 , J·J·奥坦斯 , M·范巴伦
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰费尔德霍芬
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰费尔德霍芬
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王波波
- 优先权： 60/789,604 2006.04.06 US
- 分案原申请号： 2007100920761 2007.04.06
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
本发明涉及一种光刻设备，其布置成将图案从构图部件投影到基底上，光刻设备具有用于保持基底的基底台，该基底台包括调节系统，该调节系统用于保持调节流体并调节该基底台，其中，该调节系统包括压力阻尼器，该压力阻尼器与该调节系统成流体连通，并且布置成可抑制该调节系统内的压力变化。
公开/授权文献
- CN102495539A 光刻装置及器件制造方法 公开/授权日：2012-06-13
IPC分类:
