公开(公告)号：CN101051188B

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：CN200710092076.1

申请日：2007-04-06

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： M·维克曼斯 ,  M·A·W·崔帕斯 ,  F·E·德琼格 ,  E·A·M·范冈佩尔 ,  R·詹森 ,  G·A·A·M·库斯特斯 ,  T·P·M·卡迪 ,  M·F·P·斯米茨 ,  F·范德穆伦 ,  W·F·J·西蒙斯 ,  M·H·A·利恩德斯 ,  J·J·奥坦斯 ,  M·范巴伦

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70875 ,  F16L55/053 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70783

摘要： 公开了一种光刻装置，该光刻装置将图案从构图部件投影到基底上，该光刻装置具有用于保持基底的基底台，该基底台包括调节系统，该调节系统用于保持调节流体并调节该基底台，其中，该调节系统包括压力阻尼器，该压力阻尼器与该调节系统成流体连通，并且布置成可抑制该调节系统内的压力变化。

公开(公告)号：CN102495539B

公开(公告)日：2015-04-15

申请号：CN201210010399.2

申请日：2007-04-06

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： M·维克曼斯 ,  M·A·W·崔帕斯 ,  F·E·德琼格 ,  E·A·M·范冈佩尔 ,  R·詹森 ,  G·A·A·M·库斯特斯 ,  T·P·M·卡迪 ,  M·F·P·斯米茨 ,  F·范德穆伦 ,  W·F·J·西蒙斯 ,  M·H·A·利恩德斯 ,  J·J·奥坦斯 ,  M·范巴伦

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70875 ,  F16L55/053 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70783

摘要： 本发明涉及一种光刻设备，其布置成将图案从构图部件投影到基底上，光刻设备具有用于保持基底的基底台，该基底台包括调节系统，该调节系统用于保持调节流体并调节该基底台，其中，该调节系统包括压力阻尼器，该压力阻尼器与该调节系统成流体连通，并且布置成可抑制该调节系统内的压力变化。

公开(公告)号：CN102495539A

公开(公告)日：2012-06-13

申请号：CN201210010399.2

申请日：2007-04-06

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： M·维克曼斯 ,  M·A·W·崔帕斯 ,  F·E·德琼格 ,  E·A·M·范冈佩尔 ,  R·詹森 ,  G·A·A·M·库斯特斯 ,  T·P·M·卡迪 ,  M·F·P·斯米茨 ,  F·范德穆伦 ,  W·F·J·西蒙斯 ,  M·H·A·利恩德斯 ,  J·J·奥坦斯 ,  M·范巴伦

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70875 ,  F16L55/053 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70783

摘要： 本发明涉及一种光刻设备，其布置成将图案从构图部件投影到基底上，光刻设备具有用于保持基底的基底台，该基底台包括调节系统，该调节系统用于保持调节流体并调节该基底台，其中，该调节系统包括压力阻尼器，该压力阻尼器与该调节系统成流体连通，并且布置成可抑制该调节系统内的压力变化。

公开(公告)号：CN101051188A

公开(公告)日：2007-10-10

申请号：CN200710092076.1

申请日：2007-04-06

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： M·维克曼斯 ,  M·A·W·崔帕斯 ,  F·E·德琼格 ,  E·A·M·范冈佩尔 ,  R·詹森 ,  G·A·A·M·库斯特斯 ,  T·P·M·卡迪 ,  M·F·P·斯米茨 ,  F·范德穆伦 ,  W·F·J·西蒙斯 ,  M·H·A·利恩德斯 ,  J·J·奥坦斯 ,  M·范巴伦

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70875 ,  F16L55/053 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70783

摘要： 公开了一种光刻装置，该光刻装置将图案从构图部件投影到基底上，该光刻装置具有用于保持基底的基底台，该基底台包括调节系统，该调节系统用于保持调节流体并调节该基底台，其中，该调节系统包括压力阻尼器，该压力阻尼器与该调节系统成流体连通，并且布置成可抑制该调节系统内的压力变化。