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公开(公告)号：CN102495539B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201210010399.2
申请日：2007-04-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·维克曼斯 , M·A·W·崔帕斯 , F·E·德琼格 , E·A·M·范冈佩尔 , R·詹森 , G·A·A·M·库斯特斯 , T·P·M·卡迪 , M·F·P·斯米茨 , F·范德穆伦 , W·F·J·西蒙斯 , M·H·A·利恩德斯 , J·J·奥坦斯 , M·范巴伦
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , F16L55/053 , G03F7/70341 , G03F7/70783
Abstract: 本发明涉及一种光刻设备，其布置成将图案从构图部件投影到基底上，光刻设备具有用于保持基底的基底台，该基底台包括调节系统，该调节系统用于保持调节流体并调节该基底台，其中，该调节系统包括压力阻尼器，该压力阻尼器与该调节系统成流体连通，并且布置成可抑制该调节系统内的压力变化。
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公开(公告)号：CN1786831B
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：CN200510131049.1
申请日：2005-12-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·P·M·卡迪
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , F16F6/00 , F16F15/00 , F16F15/03 , G03F7/709 , H01J37/3056
Abstract: 本发明公开了一种光刻投影装置。该装置包括构造成支撑基底的基底台，配置成把带图案的辐射光束投影到基底靶部上的投影系统和其上安装有至少一部分投影系统的框架。一流体供给装置布置成在基底和投影系统的下游端之间提供流体。该装置还包括致动器，致动器与框架和流体供给装置相联，并布置成将流体供给装置定位，以及缓冲系统，用于当致动器定位流体供给装置时缓冲振动力。
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公开(公告)号：CN102566304B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201110401694.6
申请日：2011-12-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·A·C·M·比伦斯 , T·P·M·卡迪
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , G03F7/70716 , H01L21/683 , H01L21/6875
Abstract: 一种光刻设备和可移除构件。所述光刻设备布置成将图案形成装置的图案传递至衬底上，所述光刻设备具有第一物体和安装在第一物体上以改善至/来自第二物体的热传递的平面构件。
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公开(公告)号：CN102289158B
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN201110285866.8
申请日：2007-11-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·C·瓦森克 , V·Y·班尼恩 , V·V·伊娃诺夫 , K·N·科什烈夫 , T·P·M·卡迪 , V·M·克里夫塔森 , D·J·W·克伦德尔 , M·M·J·W·范赫彭 , P·P·A·A·布洛姆 , W·A·索尔 , D·克拉什科夫
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70858 , G03F7/70883 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G03F7/70983 , H05G2/003 , H05G2/005
Abstract: 本发明公开了一种辐射系统和光刻设备，所述辐射系统用于产生限定一个光学轴线的辐射束。所述辐射系统包括用于产生EUV辐射的等离子体产生的放电源。放电源包括构造并配置成设置有电压差的一对电极，和系统，该系统用于在该对电极之间产生等离子体以便在电极之间的等离子体中提供放电。辐射系统还包括用于捕获来自电极的碎片的碎片捕获遮蔽件。碎片捕获遮蔽件构造并配置成将电极和以相对于光学轴线的预定球面角提供的光的路线遮挡分开，并且在该光的路线中电极之间的中心区域提供孔。
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公开(公告)号：CN101611351B
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN200780046056.9
申请日：2007-11-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·C·瓦森克 , V·Y·班尼恩 , V·V·伊娃诺夫 , K·N·科什烈夫 , T·P·M·卡迪 , V·M·克里夫塔森 , D·J·W·克伦德尔 , M·M·J·W·范赫彭 , P·P·A·A·布洛姆 , W·A·索尔 , D·克拉什科夫
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70858 , G03F7/70883 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G03F7/70983 , H05G2/003 , H05G2/005
Abstract: 本发明公开了一种辐射系统，用于产生限定一个光学轴线的辐射束。所述辐射系统包括用于产生EUV辐射的等离子体产生的放电源。放电源包括构造并配置成设置有电压差的一对电极，和系统，该系统用于在该对电极之间产生等离子体以便在电极之间的等离子体中提供放电。辐射系统还包括用于捕获来自电极的碎片的碎片捕获遮蔽件。碎片捕获遮蔽件构造并配置成将电极和以相对于光学轴线的预定球面角提供的光的路线遮挡分开，并且在该光的路线中电极之间的中心区域提供孔。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104040433B
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201280065095.4
申请日：2012-12-05
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·巴特勒 , A·布里克 , P·亨纳斯 , M·胡克斯 , S·A·J·霍尔 , H·范德斯库特 , B·斯拉格海克 , P·蒂纳曼斯 , M·范德威吉斯特 , K·扎尔 , T·P·M·卡迪 , R·比尔恩斯 , O·菲思克尔 , W·安吉内恩特 , N·J·M·博施
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/70366 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70558 , G03F7/70816 , G03F7/709
Abstract: 本发明公开了一种曝光设备(1)，包括：投射系统(12，14)，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架(8)，其至少能够围绕轴线(10)旋转；以及致动器系统(11)，配置成将可移动框架位移至远离与可移动框架的几何中心对应的轴线的轴线并引起框架围绕通过框架的质心的轴线旋转。
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公开(公告)号：CN102023494B
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201010292339.5
申请日：2010-09-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·A·J·霍尔 , A·F·J·德格鲁特 , T·P·M·卡迪 , M·柯塞尔斯 , D·G·E·霍贝伦
CPC classification number: G03F7/70758 , H02K1/146 , H02K41/03 , H02K2201/18 , H02K2213/12
Abstract: 本发明公开了一种致动器、定位系统和光刻设备。该致动器用于施加力和扭矩到物体上，包括：第一部分，其相对于致动器的第二部分沿至少第一自由度是可移动的，所述物体安装到所述第一部分，其中所述部分中的一个设置第一电线圈，所述第一电线圈布置成与另一部分的可磁化部协同工作，并且致动器的控制器布置用以产生第一电流通过所述第一电线圈以在所述第一部分和第二部分之间产生力，其中所述一个部分设置有第二电线圈，所述第二电线圈布置用以与另一部分的可磁化部协同工作，所述控制器还布置用以产生第二电流通过所述第二线圈以在所述第一部分和第二部分之间施加力和扭矩，使得所述致动器布置成相对于所述第二部分施加力和扭矩到所述物体上。
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公开(公告)号：CN103091998A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201210405979.1
申请日：2012-10-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/687
CPC classification number: G03B27/60 , G03F7/707 , G03F7/7075
Abstract: 一种光刻设备布置用以将图案从图案形成装置转移至衬底上，所述光刻设备包括构造用以保持衬底的衬底台和布置用以将衬底定位在衬底台上的夹具。所述夹具包括真空夹紧装置，所述真空夹紧装置布置成在衬底的顶侧夹紧衬底。在一个实施例中，真空夹紧装置布置成夹紧衬底顶表面的圆周外部区域的至少一部分。还提供了衬底处理方法，包括步骤：使用夹具将衬底定位在光刻设备的衬底台上，所述方法包括使用所述夹具的真空夹紧装置在衬底的顶侧处夹紧衬底。
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公开(公告)号：CN101923290B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201010186587.1
申请日：2005-08-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·P·M·卡迪 , J·H·W·贾科布斯 , N·坦卡特 , E·R·鲁普斯特拉 , A·L·H·J·范米尔 , J·J·S·M·梅坦斯 , C·G·M·德莫 , M·J·E·H·米特詹斯 , A·J·范德内特 , J·J·奥坦斯 , J·A·夸伊达克斯 , M·E·鲁曼-休斯肯 , M·K·斯塔温加 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , F·E·德荣格 , K·戈尔曼 , B·门奇奇科夫 , H·博姆 , S·尼蒂亚诺夫 , R·莫尔曼 , M·F·P·斯米特斯 , B·L·P·小恩德马克 , F·J·J·詹斯森 , M·里伊彭
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70808 , G03F7/70341 , G03F7/70841 , G03F7/70875
Abstract: 一种光刻设备包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述衬底之间的间隙的液体供应系统；在投影系统的所述最后元件和述衬底之间的所述间隙中基本包含所述液体的密封构件；和控制和/或补偿浸渍液体从所述衬底蒸发的元件。
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公开(公告)号：CN102495539A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201210010399.2
申请日：2007-04-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·维克曼斯 , M·A·W·崔帕斯 , F·E·德琼格 , E·A·M·范冈佩尔 , R·詹森 , G·A·A·M·库斯特斯 , T·P·M·卡迪 , M·F·P·斯米茨 , F·范德穆伦 , W·F·J·西蒙斯 , M·H·A·利恩德斯 , J·J·奥坦斯 , M·范巴伦
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , F16L55/053 , G03F7/70341 , G03F7/70783
Abstract: 本发明涉及一种光刻设备，其布置成将图案从构图部件投影到基底上，光刻设备具有用于保持基底的基底台，该基底台包括调节系统，该调节系统用于保持调节流体并调节该基底台，其中，该调节系统包括压力阻尼器，该压力阻尼器与该调节系统成流体连通，并且布置成可抑制该调节系统内的压力变化。
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