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    光刻设备
    2.
    发明授权
    光刻设备 有权

    公开(公告)号：CN1770010B

    公开(公告)日：2010-09-29

    申请号：CN200510118032.2

    申请日：2005-10-24

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： N·A·拉勒曼特 ,  M·贝克斯 ,  W·F·G·M·赫托格 ,  D·T·W·范德普拉斯 ,  S·科伊林克 ,  R·詹森

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70933

    摘要： 一种光刻设备包括用于提供辐射束的辐射系统，以及用于支撑构图装置的第一支撑件。该构图装置用于构图辐射束。该设备包括用于支撑基底的第二支撑件，用于将带图案的束投射到基底的靶部分上的投影系统，以及用于在投影系统下面延伸的气体的伸长的体积中提供沿着轴线延伸的干涉测量束的干涉仪测量系统。该设备还包括用于在该体积中提供调节的气体流的气体调节结构。该气体调节结构包括设置在该结构的出口处的多个气体导向叶片，用于将气体流导向到该体积。该气体导向叶片连续成形，且定向为离开该体积的轴线发散。

    光刻设备
    5.
    发明公开
    光刻设备 有权

    公开(公告)号：CN1770010A

    公开(公告)日：2006-05-10

    申请号：CN200510118032.2

    申请日：2005-10-24

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： N·A·拉勒曼特 ,  M·贝克斯 ,  W·F·G·M·赫托格 ,  D·T·W·范德普拉斯 ,  S·科伊林克 ,  R·詹森

    IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/00

    CPC分类号： G03F7/70933

    摘要： 一种光刻设备包括用于提供辐射束的辐射系统，以及用于支撑构图装置的第一支撑件。该构图装置用于构图辐射束。该设备包括用于支撑基底的第二支撑件，用于将带图案的束投射到基底的靶部分上的投影系统，以及用于在投影系统下面延伸的气体的伸长的体积中提供沿着轴线延伸的干涉测量束的干涉仪测量系统。该设备还包括用于在该体积中提供调节的气体流的气体调节结构。该气体调节结构包括设置在该结构的出口处的多个气体导向叶片，用于将气体流导向到该体积。该气体导向叶片连续成形，且定向为离开该体积的轴线发散。

    光刻设备和器件制造方法
    6.
    发明授权
    光刻设备和器件制造方法 失效

    公开(公告)号：CN103091999B

    公开(公告)日：2016-07-06

    申请号：CN201210413077.2

    申请日：2012-10-25

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： J·S·C·维斯特尔拉肯 ,  R·詹森 ,  E·弗乐尔特

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/7075 ,  G03F7/70875

    摘要： 一种光刻设备，包括：衬底台，构造用以保持衬底；隔间，用于放置衬底台；热调节单元，布置成接纳将要被曝光的衬底和热调节衬底；和转移系统，用于将热调节后的衬底转移至衬底台，其中至少在将热调节后的衬底从热调节单元转移至衬底台期间所述衬底台和热调节单元布置在光刻设备的隔间内部。

    光刻设备和器件制造方法
    8.
    发明公开
    光刻设备和器件制造方法 失效

    公开(公告)号：CN103091999A

    公开(公告)日：2013-05-08

    申请号：CN201210413077.2

    申请日：2012-10-25

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： J·S·C·维斯特尔拉肯 ,  R·詹森 ,  E·弗乐尔特

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/7075 ,  G03F7/70875

    摘要： 一种光刻设备，包括：衬底台，构造用以保持衬底；隔间，用于放置衬底台；热调节单元，布置成接纳将要被曝光的衬底和热调节衬底；和转移系统，用于将热调节后的衬底转移至衬底台，其中至少在将热调节后的衬底从热调节单元转移至衬底台期间所述衬底台和热调节单元布置在光刻设备的隔间内部。