发明公开
- 专利标题: 用于较薄管芯处理的方法和装置
- 专利标题(英): Methods and apparatus for thin die processing
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申请号: CN201210050921.X申请日: 2012-02-29
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公开(公告)号: CN102751225A公开(公告)日: 2012-10-24
- 发明人: 黄贵伟 , 林威宏 , 陈孟泽 , 林俊成 , 蔡钰芃 , 张博平 , 刘重希
- 申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹
- 专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹
- 代理机构: 北京德恒律师事务所
- 代理商 陆鑫; 房岭梅
- 优先权: 13/089,977 2011.04.19 US
- 主分类号: H01L21/683
- IPC分类号: H01L21/683
摘要:
一种用于处理较薄集成电路管芯的真空端部和方法。公开了用于附接集成电路管芯的真空端部,该真空端部包括:真空端部,用于附接到集成电路管芯,真空端部包括真空端口并且具有底面,真空端口被配置为连接至位于上表面上的真空源;以及至少一个真空孔,连接至真空端口,并且延伸穿过真空端部,并且在真空端部的底面处暴露至少一个真空孔;其中,真空端部的底面被配置为与集成电路管芯的表面物理接触。公开了用于处理集成电路管芯的方法。本发明还提供了一种用于较薄管芯处理的方法和装置。
IPC分类: