发明公开
- 专利标题: 光酸产生剂及包含该光酸产生剂的光刻胶
- 专利标题(英): Photoacid generator and photoresist comprising same
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申请号: CN201210520596.9申请日: 2012-09-28
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公开(公告)号: CN103086934A公开(公告)日: 2013-05-08
- 发明人: E·阿恰达 , C-B·徐 , 李明琦 , 山田晋太郎 , W·威廉姆斯三世
- 申请人: 罗门哈斯电子材料有限公司
- 申请人地址: 美国马萨诸塞州
- 专利权人: 罗门哈斯电子材料有限公司
- 当前专利权人: 罗门哈斯电子材料有限公司
- 当前专利权人地址: 美国马萨诸塞州
- 代理机构: 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 江磊
- 优先权: 61/541,764 2011.09.30 US
- 主分类号: C07C381/12
- IPC分类号: C07C381/12 ; C07D333/46 ; C07D335/02 ; C07C309/06 ; C07C311/09 ; C07D493/18 ; C07D313/10 ; C07D327/04 ; C07D497/18 ; G03F7/004 ; G03F7/09
摘要:
具有式(I)所示结构的光酸产生剂化合物:[A-(CHR1)p]k-(L)-(CH2)m-(C(R2)2)n-SO3-Z+ (I),其中A是任选地包含O、S、N、F或包含上述至少一种的组合的取代或未取代的单环、多环或稠合多环的C5或者更大的脂环族基团,R1是H、单键、或取代或未取代的C1-30烷基,其中当R1是单键时,R1是以共价键的方式与A的一个碳原子键合,每个R2独立地是H、F、或C1-4氟烷基,其中至少一个R2不是氢,L是包括磺酸盐/酯基团、磺酰胺基团、或C1-30的含有磺酸盐/酯或磺酰胺基团的连接基团,Z是有机或无机阳离子,p是0到10的整数,k是1或2,m是0或更大的整数,n是1或更大的整数。本发明还公开了光酸产生剂的前体化合物、包含所述光酸产生剂的光刻胶组合物,和涂覆有所述光刻胶组合物的基材。